[发明专利]含硅的TARC/阻挡层有效
| 申请号： | 200580037630.5 | 申请日： | 2005-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN101084467A | 公开（公告）日： | 2007-12-05 |
| 发明（设计）人： | 黄武松;S·D·伯恩斯;P·R·瓦拉纳西 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03C1/76 | 分类号： | G03C1/76 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 刘明海 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 公开了顶部抗反射涂覆材料(TARC)和阻挡层，和其在平版印刷工艺中的用途。TARC/阻挡层可以特别用于使用水作为成像介质的沉浸平版印刷。TARC/阻挡层包括一种聚合物，该聚合物包括至少一个含硅部分和至少一个含水碱溶性部分。合适的聚合物包括具有硅倍半氧烷(梯状或网络)结构的聚合物，如包含具有结构(I)的单体的聚合物，其中R1包括含水碱溶性部分，和x中约1－约1.95，更优选约1－约1.75。 | ||
| 搜索关键词： | tarc 阻挡 | ||
【主权项】：
1.顶部抗反射涂覆和阻挡层材料，包括一种聚合物，该聚合物包括至少一个含硅部分和至少一个含水碱溶性部分。
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