[发明专利]垂直磁记录介质的基底、其制造方法以及垂直磁记录介质无效
| 申请号： | 200580028148.5 | 申请日： | 2005-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN101006497A | 公开（公告）日： | 2007-07-25 |
| 发明（设计）人： | 大森将弘 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/738 | 分类号： | G11B5/738;G11B5/84;G11B5/667;G11B5/858 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;李峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种用于垂直磁记录介质2的基底，具有软磁性基底层5。在该软磁性基底层5上形成抗蚀层6。优选抗蚀层6形成为完全覆盖住全部软磁性基底层5。 | ||
| 搜索关键词： | 垂直 记录 介质 基底 制造 方法 以及 | ||
【主权项】：
1.一种用于垂直磁记录介质的基底，包括：软磁性基底层；和用于防止所述软磁性基底层腐蚀的抗蚀层，其中所述抗蚀层形成在所述软磁性基底层上。
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