[发明专利]电容式硅传声器无效
申请号: | 200510084358.8 | 申请日: | 2005-07-19 |
公开(公告)号: | CN1901758A | 公开(公告)日: | 2007-01-24 |
发明(设计)人: | 宋青林;梅嘉欣;乔峰 | 申请(专利权)人: | 青岛歌尔电子有限公司 |
主分类号: | H04R19/04 | 分类号: | H04R19/04 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 260061山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 一种电容式硅传声器,包括:硅衬底、体硅腐蚀阻挡层、振膜、低温二氧化硅或磷硅玻璃隔离层以及背极;在背极正面,向内部竖直开有上电极孔和下电极孔,上电极孔和下电极孔内设有上下金属电极;振膜下面中部为体硅腐蚀形成的背腔,振膜和背极之间形成气隙,背腔与气隙之间隔着振膜;其为背极在上、振膜在下的电容结构,电容的上极板为低应力刚性复合背极,下极板为低应力振膜,隔离层夹在上下极板之间;背极上中部与背腔和气隙相对的位置,设有复数个声孔,声孔与气隙相通。本发明具有高灵敏度、低噪声的特性,工艺简单,容易实现。 | ||
搜索关键词: | 电容 传声器 | ||
【主权项】:
1.一种电容式硅传声器,具有高灵敏度、低噪声的特性,包括:硅衬底、体硅腐蚀阻挡层、振膜、低温二氧化硅或磷硅玻璃隔离层以及背极;在背极正面,向内部竖直开有上电极孔和下电极孔,上电极孔和下电极孔内设有上下金属电极;振膜下面中部为体硅腐蚀形成的背腔,振膜和背极之间形成气隙,背腔与气隙之间隔着振膜;其特征在于:为背极在上、振膜在下的电容结构,电容的上极板为低应力刚性复合背极,下极板为低应力振膜,隔离层夹在上下极板之间;背极上中部与背腔和气隙相对的位置,设有复数个声孔,声孔与气隙相通。
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