[实用新型]两工位抛光机无效

专利信息
申请号: 200420111380.8 申请日: 2004-11-15
公开(公告)号: CN2751970Y 公开(公告)日: 2006-01-18
发明(设计)人: 邢思明 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: B24B39/00 分类号: B24B39/00;B24D13/00;B24B57/00;B24B47/12
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 代理人: 钟锋
地址: 43007*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型涉及两工位抛光机,它包括机架(10)、抛光轮盘、动力装置;抛光轮盘设置在机架(10)上,抛光轮盘由动力装置带动;抛光轮盘的盘面包括外层纤维织物(5);抛光机具有两个抛光轮盘,两个抛光轮盘分别为平轮盘(14)和凸轮盘(15)。本实用新型抛光机具有平轮盘和凸轮盘,使用者可方便地频繁交替使用平轮盘和凸轮盘对制品表面的平面、凸面、凹面进行人工抛光,工作效率高。
搜索关键词: 两工位 抛光机
【主权项】:
1、两工位抛光机,它包括机架(10)、抛光轮盘、动力装置;抛光轮盘设置在机架(10)上,抛光轮盘由动力装置带动;抛光轮盘的盘面包括外层纤维织物(5);其特征在于:抛光机具有两个抛光轮盘,两个抛光轮盘分别为平轮盘(14)和凸轮盘(15)。
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