[发明专利]蒙脱土的插层和表面修饰及使用经插层和表面修饰后的蒙脱土制备聚丁二烯/蒙脱土纳米复合材料的方法无效
申请号: | 200410102517.8 | 申请日: | 2004-12-24 |
公开(公告)号: | CN1796465A | 公开(公告)日: | 2006-07-05 |
发明(设计)人: | 李杨;徐宏德;吕占霞;朱峰;廖明义;张伟清;田婧 | 申请(专利权)人: | 中国石化北京燕化石油化工股份有限公司 |
主分类号: | C09C3/08 | 分类号: | C09C3/08;C08L47/00;C08K9/06;C08F2/44;C08F36/06;C08F4/48 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 刘金辉 |
地址: | 102500*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种蒙脱土的插层和表面修饰及使用经插层和表面修饰后的蒙脱土制备聚丁二烯/蒙脱土纳米复合材料的方法。通过先用一种季铵盐与蒙脱土进行阳离子交换反应,再利用偶联剂对蒙脱土进行表面修饰,可以大大提高有机化改性蒙脱土的疏水性,使其在非极性溶剂如环己烷中可以形成非常稳定的分散体系。将有机化改性蒙脱土与环己烷的分散体系与丁二烯、任选的极性添加剂、烷基锂等采用经典的阴离子溶液聚合的方法实现了丁二烯单体的原位插层聚合,所制备的聚丁二烯/蒙脱土纳米复合材料具有更加优异的力学性能、耐热性能、阻隔性能、耐化学腐蚀性能,综合性能可达到较好的平衡。 | ||
搜索关键词: | 蒙脱土 表面 修饰 使用 经插层 土制 丁二烯 纳米 复合材料 方法 | ||
【主权项】:
1.一类蒙脱土的表面修饰方法,包括下述步骤:a)阳离子交换剂对蒙脱土的插层改性:将天然蒙脱土在搅拌下以0.5-10重量份,优选1-5重量份/100ml的比例分散于分散散介质中,形成稳定的蒙脱土悬浮液;单独地将阳离子交换剂以0.5-15重量份,优选1-10重量份/100ml的比例溶于分散介质中,形成溶液;在50-100℃,优选60-85℃的温度下将该溶液加入蒙脱土悬浮液中,搅拌1-8小时,优选3-6小时,抽滤并洗涤,然后在60℃下真空干燥,制得阳离子交换剂插层改性的蒙脱土;和b)偶联剂对步骤a)的产物的表面偶联改性:在60-90℃的温度和搅拌下将来自第一步的阳离子交换剂插层改性的蒙脱土以0.5-10重量份,优选1-5重量份/100ml的比例分散于100重量份分散介质中,并在搅拌过程中加入基于来自第一步的阳离子交换剂插层改性的蒙脱土为0.1-10重量%,优选0.5-5重量%的偶联剂,然后继续搅拌10-90分钟,优选10-30分钟,除去分散介质,真空干燥,制得阳离子交换剂插层改性且表面偶联改性的蒙脱土。
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