[发明专利]显影剂承载体和采用该显影剂承载体的显影方法有效

专利信息
申请号: 200410076669.5 申请日: 2004-05-31
公开(公告)号: CN1591230A 公开(公告)日: 2005-03-09
发明(设计)人: 岛村正良;藤岛健司;冈本直树;明石恭尚;大竹智;齐木一纪;后关康秀 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G15/08 分类号: G03G15/08;G03G15/00;G03G9/08
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 陈昕
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种用于承载显影剂的显影剂承载体,包括:至少一个基体,和在该基体的表面上形成的树脂覆盖层。该显影剂承载体为承载着用于使静电潜影承载体上承载的静电潜影可视化的单组分显影剂;该树脂覆盖层中至少含有粘结树脂、石墨化颗粒以及粗颗粒;该石墨化颗粒的石墨化度p(002)是0.20-0.95;该树脂覆盖层在采用焦点光学激光测试的表面形状中,没有由所述粗颗粒形成的凸部的微小凸凹区域部分的一定的面积A所计测的微小凸凹部分的形状体积B满足4.5≤B/A≤6.5;该树脂覆盖层的表面算术平均粗糙度Ra为0.9-25μm。
搜索关键词: 显影剂 承载 采用 显影 方法
【主权项】:
1.一种用于承载显影剂的显影剂承载体,包括至少一个基体,和在该基体的表面上形成的树脂覆盖层,其中该显影剂承载体为承载着用于使静电潜影承载体上承载的静电潜影可视化的单组分显影剂;该树脂覆盖层中至少含有粘结树脂、石墨化颗粒以及粗颗粒;该石墨化颗粒的石墨化度p(002)是0.20-0.95;该树脂覆盖层在采用焦点光学激光测试的表面形状中,没有由所述粗颗粒形成的凸部的微小凸凹区域部分的一定的面积A所计测的微小凸凹部分的形状体积B满足4.5≤B/A≤6.5;该树脂覆盖层的表面算术平均粗糙度Ra为0.9-2.5μm。
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