[发明专利]光干涉式反射面板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 03178766.5 申请日: 2003-07-18
公开(公告)号: CN1570746A 公开(公告)日: 2005-01-26
发明(设计)人: 林文坚;蔡熊光 申请(专利权)人: 元太科技工业股份有限公司
主分类号: G02F1/21 分类号: G02F1/21;G02F1/1335
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 陈肖梅;文琦
地址: 台湾省新竹市新*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明涉及一种光干涉式反射面板及其制造方法,其步骤为:于一基板表面先制作支撑层,再依序施作第一导体暨光学薄膜层叠、间隙层及第二导体层等,最后将间隙层去除后,即在基板上完成光干涉调节器的制作;在前述制程步骤中,因在第一导体暨光学薄膜层叠施作前即完成支撑层,故制作支撑层时,无须经过精密的背面曝光(Back-side expose)步骤,具有简化制程、提升制造效率的优点。
搜索关键词: 干涉 反射 面板 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种光干涉式反射面板的制造方法,其特征在于,于一基板表面先行制作支撑层,再依序施作第一导体暨光学薄膜层叠、间隙层及第二导体层等,又于第二导体层完成后再将间隙层去除,而在反射面板上完成光干涉调节器的制作。
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