[发明专利]用于控制含水体系中水垢形成和沉积的方法

摘要

可用于抑制含水体系中生成水垢的部分的形成和沉积的新型水溶性或者水分散性聚合物，其包含特征在于具有通式I的重复单元：R₁|*－－[－E－]c－**－[－CH₂－C－]d－**－[－F－]e－*|G|O|R₂|XZ。其中E是烯属不饱和化合物聚合后保留的重复单元，优选羧酸、磺酸、膦酸或者其酰胺形式或者其混合物。R₁是H或者低级(C₁－C₄)烷基。G是－CH₂－或－CHCH₃－；R₂是－(－CH₂－CH₂－O)n－或－(－CH₂－CHCH₃－O)m－，其中n和m为大约1－100，优选n大于10和m为大约1－20。X是阴离子基团，选自SO₃、PO₃或者COO；Z是H或者氢或者任何水溶性阳离子部分，其平衡阴离子基团X的化合价，包括但是不局限于Na、K、Ca或者NH₄。当F存在时，其是具有通式II结构的重复单元：R₄|*－[－CH₂－C－]－*|CH₂|O|R₅|XZ，其中X和Z与在通式I中相同。R₄是H或者低级(C₁－C₄)烷基。R₅是羟基取代的烷基或者亚烷基，其具有大约1到6个碳原子。

主权项

1.包含以下通式的水溶性或者水分散性聚合物的组合物：其中，E是烯属不饱和化合物聚合后保留的重复单元；R₁是H或者低级(C₁-C₄)烷基；G是-CH₂-或者-CHCH₃-；R₂是-(-CH₂-CH₂-O-)-n或者-(CH₂-CHCH₃-O-)-m；其中n和m为大约1-100；X是SO₃、PO₃或者COO；Z是H、氢或者水溶性阳离子部分；F是以下通式的重复单元：其中R₄是H或者低级(C₁-C₄)烷基，R₅是羟基取代的烷基或者亚烷基，其具有1到6个碳原子；c和d是正整数；和e是非负的整数。