[发明专利]涂布装置无效
| 申请号： | 01820010.9 | 申请日： | 2001-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN1478152A | 公开（公告）日： | 2004-02-25 |
| 发明（设计）人： | 中村卓司 | 申请（专利权）人： | 株式会社纳德研究所 |
| 主分类号： | C23C8/04 | 分类号： | C23C8/04;B05C3/20;B05C19/02;B05D1/18 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 | 代理人： | 徐申民 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的涂布装置具有使在浸渍容器(内容器)内上升的所述流体(粉状体等)从上部的溢流缘溢流、移动至溢流体流入容器、再将其从该溢流体流入容器(外容器)的下部送回所述浸渍容器内的流体循环系统，浸渍容器的深度对内径之比为1/3～2/3。假如浸渍容器的深度太深，则在浸渍容器上方粉状体等绷紧，有可能会发生不能将被处理物顺利地插入的现象，但本发明中因为将浸渍容器的大小规定如上，所以能保持粉状体等的柔软性。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
1.一种在被处理物上涂布粉状体或泥状体等流体的涂布装置，该涂布装置具有使在浸渍容器内上升的所述流体从上部的溢流缘溢流、移动至溢流体流入容器、并将其从该溢流体流入容器的下部送回所述浸渍容器内的流体循环系统，其特征在于，所述浸渍容器的深度对内径之比为1/3～2/3。
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