[发明专利]线性采样开关无效
申请号: | 00802713.7 | 申请日: | 2000-01-11 |
公开(公告)号: | CN1337093A | 公开(公告)日: | 2002-02-20 |
发明(设计)人: | S·S·巴扎佳尼 | 申请(专利权)人: | 高通股份有限公司 |
主分类号: | H03K17/687 | 分类号: | H03K17/687 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 沈昭坤 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种由p沟道与n沟道场效应晶体管(FET)构成的采样电路。p沟道FET(42)的源节点耦合至n沟道FET(40)的漏节点,而p沟道FET(42)的漏节点耦合至n沟道FET(40)的源节点。采样时钟耦合至各FET的栅节点。线性采样电路的第一侧接至模拟或RF信号源,线性采样电路的远侧接至保持电容器(44)。n沟道FET具有n沟道宽度,p沟道FET具有p沟道宽度,且后者大于前者,以提高制成的开关的接通电阻的线性度。 | ||
搜索关键词: | 线性 采样 开关 | ||
【主权项】:
1.一种开关,它包括:具有n沟道宽度的n沟道FET;和具有p沟道宽度的p沟道FET;其特征在于,所述p沟道FET的源节点耦合至所述n沟道FET的漏节点,所述p沟道FET的漏节点耦合至所述n沟道FET的源节点,而所述p沟道FET的栅节点和所述n沟道FET的栅节点均配置成耦合至互补时钟信号;而且其中所述p沟道宽度大于所述n沟道宽度,以提高所述开关的线性度。
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