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- [发明专利]光刻曝光方法-CN202011445044.7在审
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刘涛
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上海新微技术研发中心有限公司
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2020-12-08
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2022-06-14
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G03F9/00
- 本发明提供一种光刻曝光方法,包括:1)在衬底上形成光刻胶层;2)采用投影式曝光机台对光刻胶层进行光刻处理,形成对位图形;3)将衬底移至接触式曝光机台,并基于对位图形,使接触式曝光机台上的光掩模与衬底进行对位,保存此时光掩模的坐标与衬底上的对位图形的坐标;4)将接触式曝光机台切换至不对位模式,通过上述的光掩模的坐标将光掩模及光掩模夹具的位置固定并保持不变,通过上述对位图形的坐标将衬底卡盘的位置固定并保持不变,依次将需要曝光的晶圆放入衬底卡盘中进行曝光处理。本发明可以有效解决接触式曝光机台前层曝光存在OVL偏移及旋转偏移问题,使得后续的投影式曝光提供较高的可能性及精度,大大提升了工艺能力。
- 光刻曝光方法
- [发明专利]危险废物熔融固化处理系统-CN202011445129.5在审
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薛军;李淙屹;李忠炎;夏昇璐
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山西正和热电工程有限公司
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2020-12-11
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2022-06-14
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F23G5/00
- 本发明涉及危险废物处理系统,具体为危险废物熔融固化处理系统。解决危险废物熔融固化处理沿用传统金属冶炼系统所存在的缺陷和问题。该系统包括上料系统、熔融炉、热风炉系统、烟气处理系统、二次飞灰处理系统和熔渣粒化系统;热风炉采用恒温连续供风热风炉,解决了传统热风炉需要换炉操作,风温变化的问题。二次飞灰处理系统采用水封结构,保证了系统内所需的运行环境并避免泄漏,二次飞灰落入水槽,飞灰泥浆经过压滤机脱水处理,得到干灰渣经过原料系统进行压块处理,循环使用。本发明所述系统形成一套完整的危废熔融固化处置流程,具有流程简单、系统自动化程度高、不排放干灰,无粉尘泄漏,能耗低的特点。
- 危险废物熔融固化处理系统
- [发明专利]光学成像镜头、摄像模组及电子设备-CN202011445459.4在审
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蔡振宏
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南昌欧菲光电技术有限公司
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2020-12-11
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2022-06-14
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G02B13/00
- 本发明涉及光学成像装置技术领域,具体公开了一种光学成像镜头、摄像模组及电子设备。光学成像镜头包括沿物侧至像侧依次设置的第一透镜组、可变光圈机构以及第二透镜组;第一透镜组包括依次设置的第一透镜和第二透镜;第二透镜组包括依次设置的第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜、第七透镜以及第八透镜;其中,光学成像镜头满足条件式:stop_max>0.3mm,stop_max为光学成像镜头的光圈孔孔径最大时第二透镜像侧面有效径处至第三透镜物侧面有效径处于光轴方向上的距离。本发明中的光学成像镜头能够降低光学成像镜头的整体模组高度,且不会影响光学成像镜头的成像品质,便于实现光学成像镜头的小型化设计。
- 光学成像镜头摄像模组电子设备
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