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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]电纺丝装置-CN201910338453.8有效
发明人：全炳俊;金振参 -专利权人： MAK股份有限公司
申请日： 2019-04-25 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： D01D5/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种由于纺丝喷嘴被分别控制所以能够相对于制成的纤维的整个宽度均匀地执行纺丝并且易于维护的电纺丝装置，根据本发明的电纺丝装置包括：溶液分布单元、多个纺丝喷嘴、溶液供应线、高电压供应单元及热空气供应单元。
纺丝装置

[发明专利]一氧化氮发生装置-CN202010161770.X在审
发明人：严桓燮;全炳俊 -专利权人： MAK股份有限公司
申请日： 2020-03-10 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： C01B21/32 文献下载
摘要：本发明涉及利用在基于电磁波等离子体火炬的高温环境下氮原子氧化的现象来大量发生一氧化氮的一氧化氮发生装置，本发明的一氧化氮发生装置包括：电磁波供给部，从外部接收功率来将预先设定的频率的电磁波进行振荡；放电部，利用从上述电磁波供给部供给的电磁波来形成等离子体火炬；涡流气体供给部，以涡流形态向上述放电部提供混合氮和氧的涡流气体；阻断部，设置于上述放电部的外部，用于从外部空气阻断上述放电部；冷却部，与上述放电部相连接地设置，用于冷却从上述放电部提供的一氧化氮。
一氧化氮发生装置

[发明专利]一氧化氮水制备装置-CN202010161783.7在审
发明人：严桓燮;全炳俊 -专利权人： MAK股份有限公司
申请日： 2020-03-10 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： B01F13/00 文献下载
摘要：本发明涉及向通过吹扫氮气完全去除氧的蒸馏水中注入高密度一氧化氮气体来大量生产一氧化氮水，并持续维持一氧化氮浓度的一氧化氮水制备装置，本发明的一氧化氮水制备装置包括：无氧蒸馏水生成部，用于生成去除氧的无氧蒸馏水；一氧化氮水制备部，与上述无氧蒸馏水生成部相连接地设置，用于使一氧化氮溶解于上述无氧蒸馏水来制备一氧化氮水；一氧化氮混合部，与上述一氧化氮水制备部相连接地设置，用于以微小气泡形态向上述一氧化氮水制备部投入一氧化氮；一氧化氮水储存罐，与上述一氧化氮水制备部相邻地设置，用于在外部气体阻断状态下，储存由上述一氧化氮水制备部制备的一氧化氮水。
一氧化氮制备装置

[发明专利]干式指纹清洗装置-CN201410654447.0有效
发明人：全炳俊 -专利权人： MAK股份有限公司
申请日： 2014-11-17 - 公布日： 2019-07-12 - 主分类号： B08B7/04 文献下载
摘要：本发明是涉及一种干式指纹清洗装置，所述干式指纹清洗装置，通过利用超声波和清洗毛巾的物理清洗以及利用等离子的清洗，并使用干式清洗方法去除形成在被清洗基板表面上的指纹等污染物。本发明的干式指纹清洗装置包括：基板搬送部，使被清洗基板朝向一侧方向移动；超声波清洗部，设置于所述基板搬送部的入口上侧，用于使用超声波清洗通过所述基板搬送部搬送的被清洗基板的上表面；清洗液清洗部，与所述超声波清洗部相邻而设置，用于使用沾有清洗液的清洗毛巾揉擦并清洗所述被清洗基板的上表面；等离子清洗部，与所述清洗液清洗部相邻而设置，用于通过对所述被清洗基板的上表面喷射等离子来进行清洗。
指纹清洗装置

[发明专利]用于弯曲对象的表面处理设备-CN201410335028.0有效
发明人：全炳俊 -专利权人： MAK股份有限公司
申请日： 2014-07-15 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于弯曲对象的表面处理设备。该设备包括高电压电极单元，其包括沿着向下凸的弯曲表面布置的多个杆形高电压电极，所述弯曲表面的曲率对应于弯曲对象的曲率；壳体，其在与高电压电极单元间隔开的位置覆盖高电压电极单元的上部；等离子体发射单元，其设置在壳体以下并接地，并放射状地发射已穿过高电压电极单元的等离子体；反应气体供应单元，其安装在壳体中，并将反应气体供应至其中设置有高电压电极单元的空间中；以及冷却单元，其设置在壳体的中心部分中，并被构造为按照冷却剂循环通过冷却单元的方式使壳体和高电压电极单元冷却。
用于弯曲对象表面处理设备

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