专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]具有高精度的高力压痕装置-CN200680015125.5无效
  • K·T·克勒斯特夫;R·J·W·科纳佩恩;M·J·J·多纳;P·戴克;J·M·M·斯温克斯;J·C·范登温 - 皇家飞利浦电子股份有限公司
  • 2006-04-28 - 2008-04-30 - B29C33/38
  • 本发明涉及一种包括力框架(13)和定位框架(14)的压痕装置(1)。压痕工具(5)挤压在工件(7)中,以形成模具。工件(7)由基部(6)支撑。致动器(2)安装在力框架(13)中。致动器(2)和压痕工具头(4)通过杆(3)连接起来。杆(3)使用柔性(旋转)接头(15)固定到所述压痕工具(4)和所述致动器(2),以使所述力框架(13)和所述定位框架(14)与力物理上脱开。此外,力传感器(9)安装在压痕工具(4)与定位框架(14)之间。为了使定位框架保持空载,由所述力框架致动器(2)给予的平衡力应大约等于压痕力。力传感器(9)的信号由控制电子装置(10)处理。控制电子装置确定致动器(2)的力,使得在力传感器(9)处测量的力大约处于零水平。为了使致动器(2)、杆(3)和压痕工具(4)轴向对齐,致动器(2)跟随压痕工具头(5)的运动移动。
  • 具有高精度压痕装置
  • [发明专利]研磨机-CN200480003784.8无效
  • R·J·W·克纳彭;M·J·J·多纳;K·T·克拉斯特;J·韦温克;P·C·J·范伦斯 - 皇家飞利浦电子股份有限公司
  • 2004-01-20 - 2006-03-15 - B24B53/00
  • 一种用于研磨工件(40)的研磨机(1)包括下述部件:具有环形研磨表面(11)的杯形磨轮(10);盘形电极(60),它邻近着至少一部分研磨表面(11)定位,以获得修整区域(75),在修整区域中,电极(60)和研磨表面(11)之间具有相对小的间隙;用于将电解液进给至修整区域(75)的进给装置(70);用于经由电解液在研磨表面(11)和电极(60)之间产生电流的发生器(20)。该电极(60)可相对于修整区域(75)移动,以便持续地去除通常是因修整过程而出现在电极上的污物。因此,修整过程的质量保持在一个高水平上。
  • 研磨机
  • [发明专利]以摆线运动进行表面真空除尘的自动装置-CN02800160.5无效
  • J·F·迪克斯曼;M·J·J·多纳 - 皇家菲利浦电子有限公司
  • 2002-01-17 - 2003-11-12 - A47L5/00
  • 本发明涉及表面(9)除尘用的自动真空吸尘器,该自动真空吸尘器具有一壳体(1),一装在该壳体中的抽吸单元(3),一安装在该壳体中从而在操作时接近表面的吸头(7),一电机驱动的轮系(3),藉此该壳体可在表面上移动,和一电控制器(17),其可控制壳体由轮系产生的运动。根据本发明,由控制器(17)控制的壳体的位移包括大致呈摆线的运动,该运动是由一假想的滚动圆(37)沿壳体的假想移动线路(39)在表面上滚动引起的,该假想滚动圆平行于表面(9)伸展且关于壳体(1)固定,吸头(7)关于滚动圆偏心布置。因此,在自动装置沿移动线路移动时,由该吸头清理的轨迹的宽度远大于吸头主尺寸(Ws)。
  • 摆线运动进行表面真空除尘自动装置
  • [发明专利]透镜装置-CN00803044.8无效
  • M·J·J·多纳;J·J·M·布拉尔特 - 皇家菲利浦电子有限公司
  • 2000-09-21 - 2002-02-27 - G02B27/22
  • 一种透镜装置,其中,透镜元件的第一和第二阵列位于该装置的第一和第二表面上。设置第一和第二阵列,因此,当穿过第一阵列观察第二阵列时,可看到表示代表第二阵列的一个元件的放大图像的莫尔图案。至少一个阵列可包括至少一个预定的可识别的不连续变化,该变化是对应于阵列相邻元件的相同特征的阵列的至少一个元件的特征。至少一个元件可包括向至少一个元件提供横截面的压纹,该横截面与其上形成至少一个元件的表面平行,与穿过不包括所述压纹的至少一个元件的部分的平行横截面相比,其形状是不规则的。至少一个预定的并可识别的缺陷可被编码于至少一个第一和第二阵列中,对于独立观察者而言,缺陷基本上是难以分辨的。
  • 透镜装置

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