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[发明专利]用于在表面上进行粗糙度和/或缺陷测量的测量装置和方法-CN202280019927.2在审
发明人： A·冯芬克;S·哈姆;I·J·马克尔;M·诺依曼-罗比施 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2022-03-03 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G01B11/30 文献下载
摘要：一种测量装置(100)，被配置为用于在待研究样品(1)的表面的多个表面区段(2)上进行粗糙度和/或缺陷测量，包括：照射设备(10)，具有至少两个光源(11A、11B、11C、11D)，该至少两个光源(11A、11B、11C、11D)被布置用于使用测量光照射表面的测量区域(3)；检测器设备(20)，具有带有多个检测器像素的检测器阵列(21)，该多个检测器像素被布置用于捕获在表面处散射的散射光；以及评估设备(30)，评估被配置用于根据所捕获的散射光确定表面的至少一个粗糙度特征，该至少两个光源(11A、11B、11C，11D)被配置用于以相对于表面的表面法线的不同入射角沿着至少两个照射射束路径(LA、LB、LC、LD)照射测量区域(3)，该至少两个光源(11A、11B、11C、11D)能够相对于检测器设备(20)固定，该检测器设备(20)被设置有成像光学器件(22)，该成像光学器件(22)被布置用于在检测器阵列(21)上对表面的测量区域(3)进行成像，检测器设备(20)被配置用于以相对于表面的表面法线的预定视角来检测所照射的测量区域(3)中的表面区段(2)的至少两个散射光图像(4A、4B、4C、4D)，由检测器像素接收的散射光的部分在每种情况下具有共同空间频率，这些部分在每种情况下都由照射射束路径(LA、LB、LC、LD)中的一个照射射束路径中的照射形成，并且评估设备(30)被配置用于根据至少两个散射光图像(4A、4B、4C、4D)确定表面区段(2)的至少一个粗糙度特征。还描述了用于进行粗糙度和/或缺陷测量的方法。
用于表面上进行粗糙缺陷测量装置方法

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