“M·扎尔克沃斯基”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果2个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]包括超表面的光学元件-CN202180067881.7在审
发明人： M·扎尔克沃斯基;M·A·莫克西 -专利权人：尼尔特瑞士有限公司
申请日： 2021-10-07 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： H01Q19/06 文献下载
摘要：一种设备，其包括光学元件，该光学元件具有包括元原子的光学超表面。在一些情况下，至少一些元原子具有第一高度，而其他一些元原子具有不同于第一高度的第二高度。在一些情况下，各元原子都具有由第一超材料构成的截面，该第一超材料在侧向上被不同的第二超材料包围。本发明还公开了用于制造这种光学元件的技术。
包括表面光学元件

[发明专利]用于制造超表面的保护结构-CN202180063796.3在审
发明人： M·扎尔克沃斯基;J·F·汉森;T·森;B·比伦伯格 -专利权人：尼尔特瑞士有限公司
申请日： 2021-09-17 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： G02B1/14 文献下载
摘要：本公开描述了一些技术，在一些例子中，这些技术可以帮助减少在光学元件的制造期间的应力和可能的损坏，光学元件诸如是包括通过压印形成的包括超微结构的那些光学元件。在一个方面中，制造光学元件的方法包括：将印模压印到在基板上的聚合物材料中，其中，所述印模包括与所述印模的用于在所述聚合物材料中形成元原子的作用区域相对应的第一突起，所述印模还包括侧向地围绕所述第一突起的保护结构，所述保护结构包括平行于所述第一突起延伸的至少一个附加突起；以及从所述聚合物材料移除所述印模，从而在与所述第一突起相对应的位置中以及在与所述至少一个附加突起相对应的一个或多个位置中在所述聚合物材料中形成开口。
用于制造表面保护结构