专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]无清除剂照相卤化银影印介质-CN00137514.8无效
  • M·R·罗伯茨;G·J·麦斯维尼;A·D·坎普 - 伊斯曼柯达公司
  • 2000-12-27 - 2001-07-04 - G03C1/46
  • 本发明涉及一种多层照相元件包含一个反射性的支持体;在与支持体相邻的彩色记录层1包含至少一个光敏层和一个非光敏染料形成中间层;在上述彩色记录层1上的彩色记录层2包含至少一个光敏层和两个非光敏染料形成中间层在上述彩色记录层2上的彩色记录层3包含至少一个光敏层和一个非光敏染料形成中间层;一个任选的含紫外光染料层和一个保护层;在每个中间层均完全地或基本上不含清除剂,所含卤化银颗粒含氯化银超过90%,这些卤化银颗粒的互易特征为当分别曝光1微秒和0.4秒时,至少一个彩色记录层产生了至少2.0的密度,其曝光量的对数范围从1.2或更小到产生0.04密度高于Dmin的曝光点。
  • 清除照相卤化影印介质

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