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[发明专利]在至少一个基底上电解沉积铬或铬合金层的方法-CN202310089178.7在审
发明人： A.瓦尔特;O.耶夫图申科;F.保利希 -专利权人：安美特德国有限公司
申请日： 2018-04-04 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： C25D3/04 文献下载
摘要：本发明涉及在至少一个基底上电解沉积铬或铬合金层的方法，其包括(a)提供pH为4.5‑6.5的含水沉积浴，其包含三价铬离子，基于沉积浴的总体积包含0‑200mg/L六价铬，且不包含含硼化合物；(b)提供至少一个基底和至少一个阳极；(c)将至少一个基底浸入含水沉积浴中并施加直流电，使得铬或铬合金层沉积在至少一个基底上，其中至少一个基底形成具有总阴极电流密度的阴极，至少一个阳极具有总阳极电流密度，条件是，总阳极电流密度为6A/dm2或更高，总阴极电流密度为18A/dm2或更高，至少一个基底和至少一个阳极存在于沉积浴中，使得价铬离子与至少一个阳极接触，和至少一个基底是金属或金属合金基底，其独立包含一种或更多种选自铜、铁、镍和铝的金属。
至少一个基底电解沉积合金方法

[发明专利]在至少一个基底上电解沉积铬或铬合金层的方法-CN201880022274.7有效
发明人： A.瓦尔特;O.耶夫图申科;F.保利希 -专利权人：安美特德国有限公司
申请日： 2018-04-04 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： C25D3/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种在至少一个基底上电解沉积铬或铬合金层的方法，该方法包括以下步骤：（a）提供pH在4.1至7.0的范围内的含水沉积浴，‑包含三价铬离子，‑基于沉积浴的总体积，包含0 mg/L至200 mg/L的六价铬，和‑不包含含硼化合物，（b）提供至少一个基底和至少一个阳极，（c）将所述至少一个基底浸入所述含水沉积浴中并施加直流电，使得所述铬或铬合金层沉积在所述至少一个基底上，其中所述至少一个基底形成具有总阴极电流密度的阴极，并且所述至少一个阳极具有总阳极电流密度，附带条件是‑总阳极电流密度为6 A/dm2或更高，‑总阴极电流密度为18 A/dm2或更高，‑所述至少一个基底和所述至少一个阳极存在于所述沉积浴中，使得所述三价铬离子与所述至少一个阳极接触。
至少一个基底电解沉积合金方法

[发明专利]用于在至少一个基底上沉积铬或铬合金层的受控方法-CN202210937927.2在审
发明人： A.瓦尔特;O.耶夫图申科;F.保利希 -专利权人：安美特德国有限公司
申请日： 2018-04-04 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： C25D3/06 文献下载
摘要：本发明涉及用于在至少一个基底上沉积铬或铬合金层的受控方法，该方法包括步骤（a）提供含水沉积浴，其中所述浴包含‑三价铬离子，‑溴离子，‑碱金属阳离子，总量为0 mol/L至1 mol/L，基于所述沉积浴的总体积，并且所述浴具有‑在4.1至7.0范围内的目标pH，（b）提供至少一个基底和至少一个阳极，（c）将至少一个基底浸入含水沉积浴中并施加直流电，使得铬或铬合金层沉积在基底上，所述基底是阴极，其中在步骤（c）期间或之后，沉积浴的pH低于目标pH，（d）在步骤（c）期间或之后将NH4OH和/或NH3加入到沉积浴中，以便恢复沉积浴的目标pH。
用于至少一个基底沉积合金受控方法

[发明专利]用于在至少一个基底上沉积铬或铬合金层的受控方法-CN202210937931.9在审
发明人： A.瓦尔特;O.耶夫图申科;F.保利希 -专利权人：安美特德国有限公司
申请日： 2018-04-04 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： C25D3/06 文献下载
摘要：本发明涉及用于在至少一个基底上沉积铬或铬合金层的受控方法，该方法包括步骤（a）提供含水沉积浴，其中所述浴包含‑三价铬离子，‑溴离子，‑碱金属阳离子，总量为0 mol/L至1 mol/L，基于所述沉积浴的总体积，并且所述浴具有‑在4.1至7.0范围内的目标pH，（b）提供至少一个基底和至少一个阳极，（c）将至少一个基底浸入含水沉积浴中并施加直流电，使得铬或铬合金层沉积在基底上，所述基底是阴极，其中在步骤（c）期间或之后，沉积浴的pH低于目标pH，（d）在步骤（c）期间或之后将NH4OH和/或NH3加入到沉积浴中，以便恢复沉积浴的目标pH。
用于至少一个基底沉积合金受控方法

[发明专利]用于在至少一个基底上沉积铬或铬合金层的受控方法-CN201880022182.9有效
发明人： A.瓦尔特;O.耶夫图申科;F.保利希 -专利权人：安美特德国有限公司
申请日： 2018-04-04 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： C25D3/06 文献下载
摘要：本发明涉及用于在至少一个基底上沉积铬或铬合金层的受控方法，该方法包括步骤（a）提供含水沉积浴，其中所述浴包含‑三价铬离子，‑溴离子，‑碱金属阳离子，总量为0 mol/L至1 mol/L，基于所述沉积浴的总体积，并且所述浴具有‑在4.1至7.0范围内的目标pH，（b）提供至少一个基底和至少一个阳极，（c）将至少一个基底浸入含水沉积浴中并施加直流电，使得铬或铬合金层沉积在基底上，所述基底是阴极，其中在步骤（c）期间或之后，沉积浴的pH低于目标pH，（d）在步骤（c）期间或之后将NH4OH和/或NH3加入到沉积浴中，以便恢复沉积浴的目标pH。
用于至少一个基底沉积合金受控方法