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- [发明专利]用于压花凸纹结构的方法和装置-CN201880096465.8有效
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C·伯格利;A·徳罗兹;F·卢斯滕伯格
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伯格利-格拉维瑞斯股份有限公司
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2018-06-26
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2023-09-29
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B31F1/07
- 在箔材料上压花单独反光区域的方法和装置，该方法和装置包括：将箔材料送入一对辊之间的辊隙中，其中，该一对辊包括第一辊和第二辊；在第一辊和第二辊中的每一个的至少在确定的周边中的相应表面处分别为第一辊和第二辊中的每一个设置多个多面体形状的正突起和与正突起互补的多个负突起，由此，多个正突起根据2维网格布置。多个多面体形状的正突起在箔材料的预期压花时与那些对应的负突起无缝且无间隙地接合，因此在箔中实现均匀接合的压花多面体状形状。方法和装置还包括以下步骤：为了在箔材料上设置多个反光区域(这些反光区域旨在根据多个反光区域中的每一个的取向和形状，与2维网格的反射率值的表一致地反射光)，并且使得用户的人眼能够在由来自反光区域中的任一个的反射光覆盖的确定的宽视角上感知预期的反射光，为要设置的多个反光区域中的每一个，调节旨在压花反光区域的2维网格中的对应正突起的取向和形状。
- 用于压花结构方法装置
- [发明专利]雕刻调制件-CN202180059953.3在审
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C·伯格利;A·徳罗兹;G·杜米特鲁;F·卢斯滕伯格
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伯格利-格拉维瑞斯股份有限公司
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2021-06-23
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2023-06-23
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B41M3/14
- 雕刻固体件在雕刻固体件的表面上承载包括特定信息的数据。所述表面由多个块结构覆盖，所述多个块结构包括至少第一块结构。每个块结构是散布在所述雕刻固体件的表面上的调制特征和基本特征的空间受限集合。每个调制特征和每个基本特征分别具有三维调制特征轮廓和三维基本特征轮廓。所述调制特征轮廓中的每一个是根据特定对应信息对所述三维基本特征轮廓中的一个应用对应调制的结果。每个调制特征还是符号，所述符号是字母表的字符的转录。所述字母表是字符的集合，所述字符是明确定义的基本数据的不同对象。所述基本特征中的每一个是所述表面的雕刻三维基本形貌元件。所述调制特征中的每一个是所述表面的雕刻三维形貌元件。通过调制特征的码块结构转录所述数据的至少一部分，由此所述码块结构构成与所述数据的至少一部分对应的块结构的至少一部分。根据第一有序图布置所述第一块结构的调制特征，所述第一有序图至少包括所述表面上的第一码块结构的调制特征的第一位置的第一有限有序集合，所述第一块结构对应于所述数据的第一部分，并且所述第一有序图还配置成将所述第一块结构的调制特征布置成构成所述表面上的美学系综，并且使与所述第一码块结构的调制特征对应的相应符号对于人眼是不可感知的，但是借助于软件驱动的图像传感器/处理器组合是可检索的。
- 雕刻调制
- [发明专利]带压花盒的压花系统-CN202180004976.4在审
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C·伯格利;F·卢斯滕伯格;A·徳罗兹;G·杜米特鲁
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伯格利-格拉维瑞斯股份有限公司
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2021-01-13
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2022-03-22
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B44B5/00
- 一种压花系统，包括压花框架和压花盒。所述压花盒包括至少两个辊，以及配置成保持至少两个辊的主体，其中至少两个辊可移除地安装在主体中。压花框架配置成可移除地容纳压花盒，并且压花框架包括压花框架定位装置，压花框架定位装置配置成在压花盒容纳在压花框架中时与压花盒的相应主体定位装置协作，以将压花盒定位在压花框架内部的预定位置。压花系统还包括用于调整和校正主体内部的相应辊的旋转轴线的位置的多个装置，用于调整和校正的装置的每一个的位置在至少两个辊的每一端中的一个处，并且用于调整和校正的多个装置配置成在以下的至少两个方向进行调整和校正：在相应辊的轴向方向上、在垂直于轴向方向的平面的两个维度中的一个上，并且压花框架还配置成在压花盒容纳在压花框架内部时使用于调整和校正旋转轴线的位置的多个装置从压花框架的外部不可接近。
- 压花系统
- [发明专利]自适应激光束整形-CN201980058273.2在审
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C·伯格利;A·克拉奇;F·卢斯滕伯格;S·威斯曼泰尔
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伯格利-格拉维瑞斯股份有限公司
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2019-09-06
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2021-04-09
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G01J1/42
- 一种用于对相干初级光束进行自适应分束的方法，该方法包括：通过用空间光调制器(SLM)对初级光束进行相位调制来产生期望的远场分布，引导初级相干光束以在空间光调制器的显示元件上反射，从而避免了任何移动元件对初级相干光束进行整形，在初级光束通过所述空间光调制器之后，从该初级光束提取监测光束和主光束，使用相机测量监测光束，将监测光束中的期望的远场分布引导到相机的传感器表面上。在第一选项中，该方法包括引导初级光束通过第一聚焦元件(L1)，该第一聚焦元件被配置为将远场分布聚焦到第一聚焦元件的聚焦平面上作为实输出分布，并且通过第一聚焦元件将监测光束中的远场分布聚焦到相机的传感器表面上。在第二选项中，该方法包括引导监测光束通过第二聚焦元件(L2)，该第二聚焦元件被配置为将远场分布聚焦在相机的传感器表面上。对于第一或第二选项，该方法还包括使用可变强度调节器来调节相机的动态范围，以根据远场分布来控制入射监测光束的强度，和配置闭环以使得能够进行空间光调制器的显示元件的相位计算，其中，将来自相机的输出信号输入所述闭环中，以进行控制器执行的相位计算算法的多次迭代，其中，在第一选项中，使用第一聚焦元件，而不包括第二聚焦元件，并且在第二选项中，使用第二聚焦元件，而不包括第一聚焦元件。
- 自适应激光束整形
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