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- [发明专利]用于优化至少一个质谱装置的参数设置的方法-CN202180083294.7在审
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B·蒂曼;D·因特尔曼
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豪夫迈·罗氏有限公司
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2021-12-10
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2023-08-15
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H01J49/00
- 本发明公开了一种用于优化至少一个参数设置的方法，所述至少一个参数设置为以单位分辨率操作的至少一个质谱装置(110)的至少一个参数设置。所述方法包括以下步骤：a)确定用于用所述质谱装置(110)检测目标分析物的至少一个分析物检测窗口，其中所述分析物检测窗口由所述分析物的中心质荷比值以及预定义宽度定义，其中所述分析物的所述中心质荷比值被设置为具有多于一个小数位的所述目标分析物的理论质荷比值和/或通过高分辨率质谱测量确定的具有多于一个小数位的所述目标分析物的质荷比值；b)确定用于用所述质谱装置(110)检测内标物质的至少一个内标检测窗口，其中所述内标检测窗口由所述内标物质的中心质荷比值以及所述预定义宽度定义，其中所述内标物质的所述中心质荷比值被设置为相对于所述目标分析物计算且具有多于一个小数位的所述内标物质的质荷比值和/或通过高分辨率质谱测量确定的具有多于一个小数位的所述内标物质的质荷比值。
- 用于优化至少一个装置参数设置方法
- [发明专利]用于针对定量因子-定性因子比率校验来校准客户质谱仪器的计算机实现方法-CN202180038006.6在审
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D·因特尔曼
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豪夫迈·罗氏有限公司
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2021-05-25
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2023-01-31
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G01N33/68
- 本发明提出了一种用于针对定量因子‑定性因子比率校验来校准客户质谱仪器(118)的计算机实现方法。所述方法包括以下步骤：a)至少一次制造商现场标准化，其中在多个质谱仪器(114)上以多次重复来测量一组受试者样品和一组校准品样品，其中每次测量包括通过针对分析物和内标的定量因子和定性因子跃迁进行的多反应监测，其中从对所述一组受试者样品和所述一组校准品样品的所述测量来确定至少三个调节因子，其中第一调节因子α取决于分析物与内标之间的差异，其中第二调节因子β取决于受试者样品与校准品样品之间的针对分析物定量因子‑定性因子比率的差异，其中第三调节因子γ取决于受试者样品与校准品样品之间的针对内标定量因子‑定性因子比率的差异；b)至少一个转移步骤，其中所述调节因子以电子方式转移到客户质谱仪器(118)；c)至少一次客户现场校准，其中所述客户现场校准包括至少一次校准测量，其中在所述客户质谱仪器(118)上测量一组校准品样品并且由此确定定量因子‑定性因子比率，其中通过对确定的定量因子‑定性因子比率应用所述调节因子来设定定量因子‑定性因子比率的针对分析物以及针对内标的目标值。
- 用于针对定量因子定性比率校验校准客户质谱仪计算机实现方法
- [发明专利]质谱系统的校准-CN202180008454.1在审
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N·阿伦斯;D·因特尔曼
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豪夫迈·罗氏有限公司
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2021-01-08
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2022-08-19
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H01J49/00
- 本发明提供了用于分析生物学样品的系统，所述系统包括：分离单元，所述分离单元配置为从所述生物学样品分离组分；电离单元，所述电离单元配置为从所述组分生成多个离子；可调节的质量选择过滤元件；检测器，所述检测器配置为检测穿过质量选择过滤元件的离子；以及控制器，所述控制器连接至所述质量选择过滤元件并且连接至所述检测器，其中所述控制器配置为使得在操作所述系统期间，所述控制器调节所述质量选择过滤元件并且激活所述检测器以测量对应于所述多个离子的至少三个不同的离子信号，并且基于所述至少三个不同的离子信号来确定所述系统的质量轴偏移。
- 谱系校准
- [发明专利]用于校准至少一个质谱装置的方法-CN202080087959.7在审
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A·盖斯坦格;D·因特尔曼;S·沙赫里亚里;A·希尔格
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豪夫迈·罗氏有限公司
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2020-12-16
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2022-08-05
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H01J49/00
- 本发明公开了一种用于校准具有第一定义的硬件配置的至少一个质谱装置(110)的方法。所述方法包括以下步骤：a)至少一个制造商现场(116)预校准步骤，其包括：a1：为具有第二定义的硬件配置的通用型质谱装置(114)建立至少一个参考校准函数fp，其中所述第二定义的硬件配置等效于所述第一定义的硬件配置，其中所述参考校准函数fp描述至少一个校准品样品中的至少一种分析物的至少一个浓度c的关系，其中所述参考校准函数fp是参数化函数fp(浓度)其中p＝(p1，p2，...pn)为所述参考校准函数的参数组，并且n为正整数；a2：确定用于所述通用型质谱装置(114)的所述参考校准函数的所述参数组的校准值(I)；b)向所述质谱装置(110)的客户(118)提供至少以下各项：所述通用型质谱装置(114)的参考校准函数fp、所述通用型质谱装置(114)的校准值(I)以及具有所述至少一种分析物的定义的目标值的至少一个校准品样品；以及c)用于所述质谱装置(110)的至少一个客户现场(120)重新校准步骤，其包括：c1：使用所述质谱装置(110)以及校准品样品中的至少一个执行至少一次校准测量，从而产生至少一个校准信号；c2：基于所述校准信号生成校准信息。
- 用于校准至少一个装置方法
- [发明专利]用于校准具有多个重复硬件组件的至少一个分析装置的方法-CN202080087683.2在审
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N·阿伦斯;A·盖斯坦格;A·希尔格;D·因特尔曼;S·沙赫里亚里
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豪夫迈·罗氏有限公司
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2020-12-16
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2022-08-02
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G01N30/86
- 本发明公开了一种用于校准具有重复硬件组件的至少一个分析装置(112)的方法。所述分析装置(112)包括多个硬件组件(114)。所述方法包括以下步骤：a)提供至少一个具有至少一种分析物的浓度的已知目标值的校准品样品i；b)至少一个测量步骤，其中所述测量步骤包括使用所述分析装置对所述校准品样品进行至少一次测量，其中获取至少一个检测器信号sijk，其中i=1,…I，I≥2，其中i是指所述校准品样品的数量，j=1,…J，J≥2，其中j是指所述硬件组件的数量，其中k=1,…Kij，Kij≥1，其中k是指所述测量步骤的重复次数；c)至少一个校准步骤，其中确定所述检测器信号与所述分析物的浓度之间和/或所述检测器信号与理论信号值之间的关系，其中所述校准步骤包括：c.1：提供至少一个参数化函数，其中所述参数化函数具有参数组，其中所述参数组包括描述所述参数化函数的分析物特定部分的参数，其中所述参数组进一步包括用于调整所述硬件组件(114)的所述参数化函数的参数；c.2：通过进行基于所述参数化函数的校准来确定校准值；以及c.3：基于所述参数化函数的反函数和确定的校准值来确定分析函数。
- 用于校准具有重复硬件组件至少一个分析装置方法
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