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[发明专利]一种高性能聚酰亚胺薄膜的制备方法及应用-CN202011567130.5有效
发明人：范琳;王畅鸥;翟磊;何民辉;莫松 -专利权人：中国科学院化学研究所
申请日： 2020-12-25 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： C08J5/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种高性能聚酰亚胺薄膜的制备方法及应用，属于聚酰亚胺技术领域，解决了现有技术中聚酰亚胺薄膜在高温下透明性变差、浊度与黄度变大的问题。本发明提供的高性能聚酰亚胺薄膜的制备方法包括如下步骤：步骤1：制备聚酰胺酸溶液；步骤2：将聚酰胺酸溶液部分酰亚胺化，得到前驱体溶液；步骤3：在前驱体溶液中加入端基保护剂，成膜，进行酰亚胺化；步骤4：后处理得到高性能聚酰亚胺薄膜。本发明提供的聚酰亚胺薄膜制备方法实现了对分子链中活性端基的有效保护，并使薄膜的聚集态结构更趋稳定，有效改善了聚酰亚胺薄膜在高温环境下的光学稳定性，在电子、微电子、光学显示、光通信等领域具有重要应用。
一种性能聚酰亚胺薄膜制备方法应用

[发明专利]一种聚酰亚胺薄膜及其制备方法与应用-CN202011567117.X有效
发明人：范琳;王畅鸥;翟磊;何民辉;莫松 -专利权人：中国科学院化学研究所
申请日： 2020-12-25 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： C08G73/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种聚酰亚胺薄膜及其制备方法与应用，属于聚酰亚胺技术领域，解决了现有技术中聚酰亚胺薄膜在高温下透明性变差、浊度与黄度变大的问题。本发明聚酰亚胺薄膜的制备原料包括：二胺、二酐和端基保护剂；端基保护剂与二胺单体的摩尔比为(0.02～0.24):1；二胺单体与二酐单体的摩尔比为1:(0.90～0.99)；所述聚酰亚胺的分子主链中含有端基保护基团。本发明提供的聚酰亚胺薄膜制备方法实现了对分子链中活性端基的有效保护，并使薄膜的聚集态结构更趋稳定，有效改善了聚酰亚胺薄膜在高温环境下的光学稳定性，在电子、微电子、光学显示、光通信等领域具有重要应用。
一种聚酰亚胺薄膜及其制备方法应用