专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种平面抛光机用抛光治具-CN202321121142.4有效
  • 潘连胜;潘一鸣;王莉莉 - 福建精工半导体有限公司
  • 2023-05-11 - 2023-10-24 - B24B29/02
  • 本实用新型提供一种平面抛光机用抛光治具,包括安装板、设置于所述安装板下端的治具本体,还包括开设于所述治具本体上用于放置硅部件的放置槽、贯穿开设于所述治具本体上且一端与所述放置槽相连通的至少一个辅助槽,所述放置槽为圆槽,所述辅助槽设置于所述放置槽周侧,在硅部件放置于放置槽内时,可透过辅助槽观察硅部件在放置槽内的位置,检查硅部件是否发生倾斜等问题,若硅部件未完整的放置于放置槽内时,则对硅部件的位置进行调整,使得抛光后的硅部件不容易损坏或出现抛光不完整的现象。
  • 一种平面抛光机抛光
  • [实用新型]一种硅部件表面检测装置-CN202320221938.0有效
  • 潘连胜;潘一鸣;王莉莉 - 福建精工半导体有限公司
  • 2023-02-15 - 2023-09-12 - G01N21/95
  • 本实用新型提供一种硅部件表面检测装置,包括底座、设置于所述底座上的支撑杆、设置于所述支撑杆上的控制组、设置于所述控制组上的连接管、设置于所述连接管上位于所述控制组上方的照明灯罩、设置于所述照明灯罩上的凸透镜,还包括设置于所述支撑杆上位于所述底座与所述照明灯罩之间且与所述支撑杆相垂直的用于将硅部件夹持固定于底座与照明灯罩之间的夹持装置。由于硅部件具有一定重量,在对硅部件表面的气孔检测时,通过夹持装置将硅部件夹持固定于底座与照明灯罩之间,无需人工持续扶持硅部件进行操作,不会导致人工手部酸痛。
  • 一种部件表面检测装置
  • [实用新型]一种模液切换装置-CN202320640116.6有效
  • 潘连胜;潘一鸣;王莉莉 - 福建精工半导体有限公司
  • 2023-03-28 - 2023-08-08 - B24B41/00
  • 本实用新型提供一种模液切换装置,包括设备本体、设置于所述设备本体上用于供设备本体内的抛光液或纯水排出的排液管,还包括设置于所述排液管上的用于在抛光液从排液管排出时引导抛光液向第一预定位置排出并在纯水从排液管排出时引导纯水向第二预定位置排出的引流装置,为了保持抛光液的回收和纯水的排放,在抛光液从排液管排出时,通过引流装置引导抛光液向第一预定位置排出,使抛光液排向盛装抛光液的容器内,在切换纯水从排液管排出时,通过引流装置引导纯水向第二预定位置排出,使纯水排向盛装纯水的容器内,无需人工随着排液管排出的液体对盛装抛光液和纯水的容器进行移动和切换,操作较为简便,降低了人工成本。
  • 一种切换装置
  • [发明专利]一种改善硅片表面粗糙度的抛光工艺-CN202111389663.3有效
  • 卞梁;潘连胜;何翠翠 - 锦州神工半导体股份有限公司
  • 2021-11-22 - 2023-07-25 - B24B1/00
  • 本发明涉及本发明提供一种改善硅片表面粗糙度的抛光工艺,其包括:在精抛结束后,快速使用表面处理液对硅片表面进行处理;所述表面处理液包括:1‑3体积份的两性离子表面活性剂,2‑3体积份乙二醇,0.5‑2份含有羟基的阴离子表面活性剂,100体积份的超纯水。本发明的表面处理液,用于在硅片精抛结束后,快速处理硅片,其主要从三个方面降低硅片的Haze值:(1)迅速降低精抛结束后硅片表面的温度从而缓和化学腐蚀;(2)隔离抛光液减缓并最终停止抛光液与硅片表面的化学腐蚀作用;(3)使抛光过程中产生的颗粒脱离硅片表面,从而去除表面颗粒,达到减少对硅片表面划伤。
  • 一种改善硅片表面粗糙抛光工艺
  • [实用新型]一种硅部件用激光打标机-CN202320313423.3有效
  • 潘连胜;潘一鸣;王莉莉 - 福建精工半导体有限公司
  • 2023-02-25 - 2023-07-21 - B23K26/362
  • 本实用新型提供一种硅部件用激光打标机,包括机台本体、设置于所述机台本体上的置物座、设置于所述机台本体上的支撑架、设置于所述支撑架上位于所述置物座上方的放射部、设置于所述支撑架上的控制面板,还包括设置于所述置物座上位于放射部下方的用于对硅部件进行夹持并在夹持时保持硅部件侧端面位于放射部下方的夹持装置。当需要对硅部件的侧端面进行标记时,通过夹持装置对硅部件进行夹持,并在夹持时保持硅部件侧端面位于放射部下方,无需人工持续对硅部件扶持,在对硅部件夹持时不会导致硅部件发生抖动,使得在对硅部件侧端面进行激光打标时,不容易发生位置偏移。
  • 一种部件激光打标机
  • [发明专利]一种硅片表面清洗方法及清洗液-CN202111389708.7有效
  • 卞梁;潘连胜;秦朗 - 锦州神工半导体股份有限公司
  • 2021-11-22 - 2023-07-14 - B08B3/08
  • 本发明提供一种硅片表面清洗方法,包括步骤:S1、将硅片放入盛装有一号清洗液的一次清洗槽内,一号清洗液通过带有滤芯的管泵组件在一号清洗槽内外循环,硅片在一号清洗液内摆动;加热并兆声进行清洗;一号清洗液由氨水、双氧水、有机膦酸、超纯水按体积比8‑12:8‑12:0.8‑1.2:80‑100组成;S2、使用超纯水溢流冲洗;S3、将硅片放入盛装有二号清洗液的二次清洗槽内,二号清洗液通过带有滤芯的管泵组件在二号清洗槽内外循环,硅片在二号清洗液内摆动;加热并兆声进行清洗;二号清洗液由氨水、双氧水、有机膦酸、超纯水按体积比8‑12:18‑22:0.8‑1.2:80‑100组成;S4、使用QDR法清洗;S5、使用超纯水溢流冲洗;S6、慢提拉法脱水烘干。本发明具有更优的清洗效果,简化传统RCA清洗的步骤。
  • 一种硅片表面清洗方法
  • [实用新型]一种硅部件用包装盒-CN202320221965.8有效
  • 潘连胜;潘一鸣;王莉莉 - 福建精工半导体有限公司
  • 2023-02-15 - 2023-06-27 - B65D25/10
  • 本实用新型提供一种硅部件用包装盒,包括包装盒本体、设置于所述包装盒本体上用于放置硅部件的底棉、开于所述底棉上用于在硅部件放置于底棉上时容纳硅部件以限制硅部件在底棉上活动空间的开槽,可拆卸设置于所述底棉上位于所述开槽内的用于在放置于底棉上位于开槽内时缩小硅部件容纳空间并在取出时恢复开槽的硅部件容纳空间以便于对不同尺寸规格的硅部件进行放置的配合环,在规格较小的硅部件进行包装时,将配合环放置于底棉上位于开槽内从而缩小硅部件容纳空间,将硅部件放置在配合环内,随后将压板与配合环配合贴合于硅部件上端面,完成对规格较小的硅部件进行包装。
  • 一种部件包装
  • [实用新型]一种平面磨床的限位挡块-CN202222623373.7有效
  • 潘连胜;潘一鸣;王莉莉 - 福建精工半导体有限公司
  • 2022-09-30 - 2023-04-28 - B24B55/00
  • 本实用新型提供一种平面磨床的限位挡块,包括挡块本体,还包括设置于所述挡块本体上用于在挡块本体贴合于部件外周时提高与部件外周接触面积的辅助装置,所述辅助装置包括设置于所述挡块本体上位于所述挡块本体宽度方向那段的至少一个延伸块,所述延伸块靠近环形部件那段为弧形状,在挡块本体与贴合于部件外周时,通过辅助装置提高挡块本体与部件外周接触面积,随之提高挡块本体与部件之间的摩擦力,防止打磨过程中部件容易出现转动现象,使得部件打磨效果好。
  • 一种平面磨床限位
  • [实用新型]一种硅部件加工定位装置-CN202223452306.X有效
  • 潘连胜;潘一鸣;王莉莉 - 福建精工半导体有限公司
  • 2022-12-22 - 2023-04-21 - H01L21/68
  • 本实用新型提供一种硅部件加工定位装置,包括用于放置硅部件的放置座,设置于所述放置座下端的底座、设置于所述底座上用于在硅部件放置于放置座上后抵接硅部件侧端面以将硅部件推动至放置座中心位置的定位组件、设置于所述放置座上位于所述放置座中心位置的用于在定位组件将硅部件推动至放置座中心位置后开启将硅部件吸附于放置座上并在关闭后不再将硅部件吸附于放置座上的吸附组件,在需要对硅部件进行定位时,先将硅部件放置在放置座上,随后通过定位组件抵顶硅部件侧端面以将硅部件推动至放置座中心位置上,从而完成对硅部件在放置座上的定位,定位所需耗费的时间短,可快捷的对硅部件进行定位。
  • 一种部件加工定位装置
  • [实用新型]一种用于滚磨单晶硅棒外圆的滚磨机-CN202220332553.7有效
  • 潘连胜;何翠翠;秦朗 - 锦州神工半导体股份有限公司
  • 2022-02-15 - 2022-08-30 - B24B5/04
  • 本实用新型公开了一种用于滚磨单晶硅棒外圆的滚磨机,涉及单晶硅棒生产设备技术领域,包括支撑框架,所述支撑框架的上表面一端设有一号电机,所述一号电机的输出端设有一号固定头,所述支撑框架的上表面另一端设有滑动板,所述滑动板的上端设有辅助框架,所述辅助框架上设有二号固定头,所述滑动板上设有调节轴,所述支撑框架的后侧上端设有线性执行器,所述线性执行器的输出端通过螺栓连接有二号电机,所述二号电机的输出端设有打磨轮,提升生产效率,在滚磨过程中不需要工人利用砂轮沿着单晶硅棒的轴线移动,通过线性执行器带动打磨轮移动,能对整个单晶硅棒滚磨,降低工人的劳动强度,进一步提升了滚磨效率。
  • 一种用于单晶硅棒外圆滚磨机
  • [发明专利]表面沉积有氮化铝薄膜的单晶硅垫片的清洗方法-CN201910740055.9有效
  • 潘连胜;卞梁 - 锦州神工半导体股份有限公司
  • 2019-08-12 - 2022-07-26 - B08B3/08
  • 一种表面沉积有氮化铝薄膜的单晶硅垫片的清洗方法,将表面沉积有氮化铝薄膜的单晶硅垫片放入氢氟酸与超纯水配制的清洗液中,向清洗液中鼓氮,并在室温下进行腐蚀清洗后,用超纯水冲洗;继续在室温下对单晶硅垫片使用兆声波清洗机在HCl、H2O2和去离子水配制的清洗液中清洗后,用超纯水冲洗;再将单晶硅垫片放入氢氟酸与超纯水配制的清洗液中,向清洗液中鼓氮,并在室温下进行腐蚀清洗后,用超纯水冲洗;最后使用氮气风刀吹干单晶硅垫片。该清洗方法清洗效率高、工艺控制性能好,可以清除单晶硅垫片表面的氮化铝,刻蚀选择比高,减少了单晶硅垫片在清洗过程中损失,延长了单晶硅垫片的使用寿命。
  • 表面沉积氮化薄膜单晶硅垫片清洗方法

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