专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光学玻璃、预成型坯以及光学元件-CN201310662516.8在审
  • 土渊菜那 - 株式会社小原
  • 2013-12-09 - 2014-06-18 - C03C3/062
  • 本发明提供光学玻璃、预成型坯以及光学元件。本发明的课题在于,提供能够更廉价地获得折射率和阿贝数处于期望的范围内、并且部分色散比小的玻璃的光学玻璃和光学元件。其解决方案是一种光学玻璃,其中,按质量%计含有5.0~60.0%的SiO2成分,Ta2O5成分的含量为20.0%以下,部分色散比(θg,F)与阿贝数(νd)之间在νd≤25的范围满足(-0.00160×νd+0.63460)≤(θg,F)≤(-0.00421×νd+0.72070)的关系,在νd>25的范围满足(-0.00250×νd+0.65710)≤(θg,F)≤(-0.00421×νd+0.72070)的关系。
  • 光学玻璃成型以及光学元件
  • [发明专利]光学玻璃的制造方法-CN201310741391.8无效
  • 妹尾龙也;永冈敦 - 株式会社小原
  • 2008-04-16 - 2014-05-21 - C03B5/43
  • 本发明提供光学玻璃的制造方法,其可以抑制大量含有Bi2O3、TeO2的光学玻璃在熔融和/或成型时的着色,并且使用对大量生产时的各种负荷有耐性的高强度的金属材料制成的部件。光学玻璃的制造方法,其包含如下的工序:使用由含有90%质量以上的金且分散有强化材料的金属材料制成的部件,对含有以氧化物基准计为30质量%以上的Bi2O3和/或TeO2的光学玻璃进行熔融和/或成型的工序。
  • 光学玻璃制造方法
  • [发明专利]光学玻璃母材缺陷检查装置及方法-CN201310533665.4在审
  • 金光康中;杉方稔 - 株式会社小原
  • 2013-10-31 - 2014-05-14 - G01N21/958
  • 本发明提供一种光学玻璃母材缺陷检查装置及方法,在光学玻璃母材的表面、内部的缺陷检查中,不是由作业人员进行抽样感官检查,而是全数检查,并且使检查时间迅速化,降低检查结果的偏差,从而得到高品质的光学玻璃母材。至少具有载置光学玻璃母材的检查单元,检查单元具有:光源部,其对光学玻璃母材的内部照射光;摄像部,其对被来自光源部的光照射的光学玻璃母材的内部和表面中的至少一方进行拍摄;以及判断控制部,其根据来自摄像部的图像信号来判断与光学玻璃母材的内部和表面中的至少一方的缺陷有关的信息。
  • 光学玻璃缺陷检查装置方法
  • [发明专利]光学玻璃-CN201280037738.4无效
  • 田中大介;冈野宽;富樫陵;八木俊刚 - 株式会社小原
  • 2012-07-24 - 2014-04-09 - C03C3/066
  • 本发明提供了一种光学玻璃,其玻璃化温度(Tg)低,具有折射率(nd)为1.60~1.80以下、阿贝数为30~60的范围内的光学常数,并且稀土类含量低。光学玻璃的折射率(nd)在1.60~1.80的范围内,阿贝数(νd)在30~60的范围内,玻璃化温度(Tg)为600℃以下,并且,以基于氧化物的质量%计,Ln2O3(Ln为选自La、Y、Yb、Gd中的一种以上)、Bi2O3、Ta2O5、GeO2及WO3的总量为20%以下,Nb2O5的含量为20%以下。优选地,除了上述以外,以基于氧化物的质量%计,含有如下物质:SiO2:10%~50%,B2O3:30%以下,TiO2:大于0%且在20%以下,RO(R为选自Mg、Ca、Zn、Sr、Ba中的一种以上):10%以上且在60%以下。
  • 光学玻璃
  • [发明专利]研磨品的制造方法-CN201280011643.5无效
  • 山下丰;八木俊刚;后藤直雪 - 株式会社小原
  • 2012-04-11 - 2014-01-08 - B24B37/00
  • 本发明的目的在于提供一种制造方法,所述制造方法利用实质上不使用氧化铈作为研磨液中的游离磨料而能够得到与氧化铈同等的研磨效果的研磨工序,以低成本将信息记录介质用基板等各种基板或光学部件等中使用的玻璃、结晶化玻璃、结晶等脆性无机材料、或由上述材料形成的下一代的硬盘用基板所要求的、机械强度高的材料加工成高精度的表面性状。本发明提供一种研磨品的制造方法,所述制造方法包括使用研磨液及研磨垫将无机材料进行研磨的研磨工序,其特征在于,上述研磨液至少含有由包含Zr及Si的化合物形成的研磨磨料,上述研磨液中的磨料浓度在40wt%以下的范围内。
  • 研磨制造方法
  • [发明专利]光学玻璃及光纤用芯材-CN201310377420.7无效
  • 荻野道子 - 株式会社小原
  • 2009-01-30 - 2013-12-25 - C03C3/062
  • 本发明的课题在于提供提高短波长区域尤其是395~400nm波长范围内的内部透射比的光学玻璃。该光学玻璃含有GeO2成分,同时相对于氧化物换算组成的玻璃总质量,以质量%计,Al2O3成分的含量为10%以下。由于该光学玻璃可提高在短波长区域尤其是400nm附近波长范围内的内部透射比,因此可减少光传送损失,适合用作光纤用的芯材玻璃。
  • 光学玻璃光纤用芯材
  • [发明专利]光学玻璃、预成型坯以及光学元件-CN201280015990.5无效
  • 津田哲也 - 株式会社小原
  • 2012-03-27 - 2013-12-25 - C03C3/068
  • 本发明提供一种折射率(nd)处于期望的范围内、并且阿贝数(νd)和部分色散比(θg,F)小、并且相对于可见光的透明性得到提高的光学玻璃。光学玻璃相对于氧化物换算组成的玻璃总物质量,按摩尔%计含有20.0%以上且60.0%以下的SiO2成分、多于20.0%且50.0%以下的CaO成分,按总和计含有多于0%且20.0%以下的BaO成分和K2O成分,Nb2O5成分的含量为30.0%以下,部分色散比(θg,F)与阿贝数(νd)之间在νd≤31的范围满足(-0.00162×νd+0.63822)≤(θg,F)≤(-0.00275×νd+0.68125)的关系,在νd>31的范围满足(-0.00162×νd+0.63822)≤(θg,F)≤(-0.00162×νd+0.64622)的关系。
  • 光学玻璃成型以及光学元件
  • [发明专利]光学玻璃、预成型坯以及光学元件-CN201280015842.3在审
  • 津田哲也 - 株式会社小原
  • 2012-03-27 - 2013-12-18 - C03C3/155
  • 本发明提供一种折射率(nd)处于期望的范围内、并且阿贝数(νd)小、部分色散比(θg,F)小、并且相对于可见光的透明性高的光学玻璃。光学玻璃相对于氧化物换算组成的玻璃总物质量,按摩尔%计含有25.0%以上且55.0%以下的B2O3成分、6.0%以上且30.0%以下的Ln2O3成分(式中,Ln为选自由La、Gd、Y、Yb组成的组中的1种以上)、以及超过0%且25.0%以下的Nb2O5成分,ZrO2成分的含量为15.0%以下,部分色散比(θg,F)与阿贝数(νd)之间在νd≤31的范围满足(-0.00162×νd+0.63822)≤(θg,F)≤(-0.00275×νd+0.68125),在νd>31的范围满足(-0.00162×νd+0.63822)≤(θg,F)≤(-0.00162×νd+0.64622)。
  • 光学玻璃成型以及光学元件

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