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[发明专利]对准偏差的补偿方法-CN202011566641.5在审
发明人：张海;杨晓松;吴怡旻;季颖娣 -专利权人：中芯南方集成电路制造有限公司
申请日： 2020-12-25 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种对准偏差的补偿方法，包括：根据第一对准模型和第二对准模型，获取对准模型偏差信息；在对初始第二光刻层进行初始光刻对准后，根据对准模型偏差信息对初始第二光刻层进行补偿光刻对准，以图形化初始第二光刻层，形成第二光刻层。从而，在光刻工艺中，提高了光刻对准的精度和可靠性，并提高了光刻对准的稳定性。
对准偏差补偿方法

[发明专利]套刻偏差的补偿系统及方法-CN202011566642.X在审
发明人：张海;杨晓松;吴怡旻;季颖娣;范蕤;朱定海 -专利权人：中芯南方集成电路制造有限公司
申请日： 2020-12-25 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种套刻偏差的补偿系统及方法，包括：提供若干历史处理晶圆；根据若干历史处理晶圆获取晶圆预测补偿数据库，晶圆预测补偿数据库包括：历史处理晶圆对应的第一制程路径、每个历史处理晶圆对应第一偏差补偿值；提供待补偿晶圆；获取待补偿晶圆的第二制程路径；根据待第二制程路径与晶圆预测补偿数据库进行对比，获取待补偿晶圆的第二偏差补偿值。通过晶圆预测补偿数据库能够提前预测待补偿晶圆的补偿值，有效提升了生产效率。另外，晶圆预测补偿数据库中将每个历史处理晶圆的第一制程路径作为影响变量引入到套刻偏差的补偿中，有效提升了最终的补偿精度，降低了重新检测补偿的风险，进而降低了生产成本。
偏差补偿系统方法