专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]测定装置以及测定方法-CN201880027692.5有效
  • 高须良三 - 富士通株式会社
  • 2018-03-28 - 2023-01-06 - G01N15/06
  • 提高质量浓度的精度。测定装置具备:选择部(15),参照存储多个相对于气体的湿度的上述气体中的粒子的质量浓度与上述气体中的粒子的计数浓度的相关的存储部(13),从多个上述相关选择两个相关;以及质量浓度计算部(16),其于选择的上述两个相关、通过第一计数浓度测定器测定出的气体中的粒子的计数浓度以及通过第一湿度计测定出的上述气体的湿度,计算上述气体中的粒子的质量浓度。
  • 测定装置以及方法
  • [发明专利]测定装置以及测定方法-CN201780082945.4有效
  • 高须良三 - 富士通株式会社
  • 2017-12-26 - 2022-03-25 - G01N15/06
  • 本发明是测定装置的发明,以测定装置的小型化或者降低成本为课题,其特征在于,该测定装置具备测定气体中的粒子的数量浓度的数量浓度测定器(20)、测定上述气体的湿度的湿度测定器(24)、以及测定上述气体中的特定气体的浓度的气体浓度测定器(22),并基于测定出的数量浓度、测定出的湿度以及测定出的特定气体的浓度、和预先求出的数量浓度、湿度和特定气体的浓度与上述气体中的粒子的质量浓度的相关性,来计算上述气体中的粒子的质量浓度。
  • 测定装置以及方法
  • [发明专利]测量设备、环境测量设备和测量方法-CN201910063901.8有效
  • 高须良三 - 富士通株式会社
  • 2019-01-23 - 2021-10-08 - G01N15/06
  • 本发明涉及测量设备、环境测量设备和测量方法。测量设备包括:测量容器,其包括空气入口和空气出口;风扇;光源,其被配置成用光照射微颗粒物质;光检测器,其被配置成检测来自微颗粒物质的散射光;第一电路,其被配置成基于光检测器的输出检测微颗粒物质的个体颗粒;第二电路,其被配置成基于光检测器的输出检测微颗粒物质的微颗粒群;开关,其被配置成切换到第一状态和第二状态中之一,在第一状态下,光检测器的输出被输入到第一电路,在第二状态下,光检测器的输出被输入到第二电路;以及控制器,其被配置成控制风扇的驱动和停止、光源的接通和关闭以及开关的状态的切换。
  • 测量设备环境测量方法
  • [发明专利]水量测量装置以及水量监控系统-CN201480083503.8有效
  • 壶井修;丑込道雄;菊地吉男;高须良三 - 富士通株式会社
  • 2014-11-21 - 2020-11-06 - G01F23/292
  • 本发明提供一种测量在管路内流动的液体的水位的水量测量装置,具备:发光元件,其对上述液体的液面照射光;受光元件,其接收被上述液面反射出的光和被上述管路内的底面的液底反射出的光;存储部,其预先存储从上述发光元件到上述管路内的上述液底的距离V0;以及计算处理部,若用V1表示基于上述受光元件的输出信号求出的距离数据的上侧的包络线的平均值所表示的距离并用V2表示下侧的包络线的平均值所表示的距离,则在测量上述水位时,在对上述距离数据和上述距离V0进行比较后的比较结果表示上述受光元件的输出信号中包含与由于上述管路内的液底的反射而产生的超过上述距离V0的距离相对应的第一信号成分的情况下,使用V1-V0来计算水位D1,在表示包含与因上述液面的反射而产生的小于上述距离V0的距离相对应的第二信号成分的情况下,使用V0-V2来计算水位D2
  • 水量测量装置以及监控系统
  • [发明专利]计算装置和计算方法-CN201610827459.8有效
  • 高须良三 - 富士通株式会社
  • 2016-09-14 - 2019-11-08 - G01N15/06
  • 本发明公开了计算装置和计算方法。计算装置包括:采集单元,其获得在第一测量站中测得的气体中的颗粒的质量浓度、在第二测量站中测得的气体中的颗粒的数目浓度以及在第二测量站中测得的气体的湿度;以及计算单元,其基于第一测量站中的质量浓度以及第二测量站中的数目浓度和湿度来计算函数,该函数限定了质量浓度和数目浓度与湿度的关系,并且该函数用于根据在第三测量站中测得的气体中的颗粒的数目浓度和气体的湿度来计算第三测量站中的气体中的颗粒的质量浓度,第三测量站安装在与安装第一测量站和第二测量站的位置不同的位置中。
  • 计算装置计算方法
  • [发明专利]环境测定装置以及环境测定方法-CN201380076759.1有效
  • 高须良三 - 富士通株式会社
  • 2013-05-24 - 2018-04-03 - G01N5/02
  • 本发明的目的在于提供除去附着于QCM传感器的颗粒所引起的影响,决定QCM传感器的电极的腐蚀所引起的质量增加量的环境测定装置。环境测定装置(1)具有具备由腐蚀性金属形成的电极(12)的测定用QCM传感器(10)、具有由耐腐蚀性金属形成的电极(22)的参照用QCM传感器(20)、测定用振荡电路(15)、参照用振荡电路(25)、频率计数器(31)、湿度传感器(51)、控制部(40)以及存储部(41)。存储部(41)将与测定用QCM传感器(10)的频率对应的测定用计数信号、与参照用QCM传感器(20)的频率对应的参照用计数信号以及湿度信号与测定时刻相关联地存储。控制部(40)使用表示在规定的湿度以下测定出的频率的测定用计数信号以及参照用计数信号,决定测定用QCM传感器的电极的腐蚀所引起的质量增加量。
  • 环境测定装置以及方法
  • [发明专利]测量装置和测量系统-CN201610343955.6在审
  • 高须良三 - 富士通株式会社
  • 2016-05-23 - 2016-12-07 - G01N15/06
  • 本发明提供了一种测量装置和测量系统。所述测量装置包括:浓度测量单元,其测量气体中颗粒的颗粒数量浓度;湿度测量单元,其在浓度测量单元测量颗粒数量浓度时对颗粒所暴露于的周围环境的湿度进行测量;第一壳体,其中容纳有浓度测量单元和湿度测量单元,第一壳体具有第一入口和第一出口;以及第一排气单元,其将第一壳体中的气体从第一出口排出;其中,湿度测量单元被设置在从第一入口至第一出口的气体流动路径中浓度测量单元的上游。
  • 测量装置系统

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