专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果9个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [实用新型]一种在线测量PH值的取样器-CN202220095201.4有效
  • 李欣波;唐志文;杨阳;王申;刘艳龙;邱强;赵帅;王国银;时春涛;骆旭梁;李润;王玮 - 沈阳中科韦尔腐蚀控制技术有限公司
  • 2022-01-14 - 2022-07-05 - G01N27/00
  • 本实用新型涉及石油化工技术领域,公开了一种在线测量PH值的取样器,包括废水箱底盘、高液位开关和超高液位检测开关,所述废水箱底盘的上端固定连接有废水箱圆筒,所述废水箱圆筒的上端固定连接有取样腔座。本实用新型中,取样测量时,取样管路内的上次留存的被测介质由取样入口流入,先经过三通管路流进废水箱圆筒,大浮漂、小浮漂同时上升,后流入的新鲜的被测介质开始经过三通管路流进取样腔本体中心的锥形杯,待锥形杯内进满被测介质后,被测介质溢出锥形杯流入废水箱,工作效率高,清洗PH电极时,清水由清水入口流入,经过喷嘴喷出,致使大浮漂、小浮漂同步上升,检测测量后自动清洗PH电极,延长PH电极的使用寿命。
  • 一种在线测量ph取样
  • [发明专利]一种在线测量PH值的取样器-CN202210042509.7在审
  • 李欣波;唐志文;杨阳;王申;刘艳龙;邱强;赵帅;王国银;时春涛;骆旭梁;李润;王玮 - 沈阳中科韦尔腐蚀控制技术有限公司
  • 2022-01-14 - 2022-04-15 - G01N27/00
  • 本发明涉及石油化工技术领域,公开了一种在线测量PH值的取样器,包括废水箱底盘、高液位开关和超高液位检测开关,所述废水箱底盘的上端固定连接有废水箱圆筒,所述废水箱圆筒的上端固定连接有取样腔座。本发明中,取样测量时,取样管路内的上次留存的被测介质由取样入口流入,先经过三通管路流进废水箱圆筒,大浮漂、小浮漂同时上升,后流入的新鲜的被测介质开始经过三通管路流进取样腔本体中心的锥形杯,待锥形杯内进满被测介质后,被测介质溢出锥形杯流入废水箱,工作效率高,清洗PH电极时,清水由清水入口流入,经过喷嘴喷出,致使大浮漂、小浮漂同步上升,检测测量后自动清洗PH电极,延长PH电极的使用寿命。
  • 一种在线测量ph取样
  • [发明专利]一种高晶化率多晶硅薄膜的制备方法-CN201510474064.X有效
  • 王宙;骆旭梁;付传起;董桂馥;雍帆 - 大连大学
  • 2015-08-05 - 2018-05-01 - C23C14/14
  • 本发明提供了一种高晶化率多晶硅薄膜的制备方法,该方法为选取多晶硅粉末及磷粉末为原料,石墨片为蒸发源,k9玻璃片为基板,将原料、蒸发源和前处理后的基板放置于真空镀膜机中蒸镀,设定基板与原料间距离为130~150cm,基板温度100~300℃;将蒸镀后所得到的样品放入真空退火炉中在550℃温度下退火2h,用铝标准腐蚀液对所得样品进行表面腐蚀,得到多晶硅薄膜。本发明的多晶硅薄膜平整度高、晶粒尺寸均匀性好、晶化率高可达94.95%,本发明所需原料价格低廉、储量丰富,制备的合金薄膜力学性能好、制备工艺简单,易于工业化生产。
  • 一种高晶化率多晶薄膜制备方法
  • [发明专利]一种磷掺杂多晶硅薄膜及其制备方法-CN201510353648.1有效
  • 王宙;骆旭梁;付传起;董桂馥;雍帆;张庆乐 - 大连大学
  • 2015-06-24 - 2017-06-30 - C23C14/14
  • 本发明提供了一种磷掺杂多晶硅薄膜及其制备方法,属于功能材料领域。通过将多晶硅粉末与磷粉末按比例混合均匀,压片、真空烧结制得硅靶材,将硅靶材和石英玻璃基片放入真空系统中,采用激光溅射沉积的方法制备出磷掺杂多晶硅薄膜。本发明获得的磷掺杂多晶硅薄膜,其横向应变系数绝对值的最大值可达24.3;横向应变系数的非线性在1‑2.5%之间,比现有的多晶硅薄膜降低了0.5%;采用本发明方法可以使多晶硅薄膜掺杂均匀、平整度高、致密性好且控制晶粒尺寸范围为0.1μm~0.5μm;本发明制备方法简单、成本低、可控性强,为多晶硅薄膜领域拓展了新思路。
  • 一种掺杂多晶薄膜及其制备方法
  • [发明专利]一种高压阻特性硼掺杂多晶硅薄膜及其制备方法-CN201510477028.9在审
  • 王宙;骆旭梁;董桂馥;付传起;雍帆 - 大连大学
  • 2015-08-05 - 2015-12-09 - H01L21/02
  • 本发明提供了一种高压阻特性硼掺杂多晶硅薄膜的制备方法,该方法为:选取硅靶材和硼靶材,将硅靶材、硼靶材和处理后的基板放入真空系统中,抽真空至1.0×10-4Pa,基板温度为600~700℃,基板与靶材间距离为3~5cm;用激光器发射激光,控制频率为1~4Hz,溅射1~3小时;最后将薄膜在800~900℃下退火1~3h,得硼掺杂多晶硅薄膜。本发明的制备方法可以有效控制多晶硅薄膜的厚度以及硼掺杂浓度,工艺简单,重复性好,成本低廉,制得的薄膜致密性好,具有优异的压阻特性和高温稳定性;电阻的温度系数小,应变系数大,为多晶硅压力传感器的发展提供了新思路。
  • 一种高压特性掺杂多晶薄膜及其制备方法
  • [发明专利]激光脉冲溅射沉积制备多晶硅薄膜的方法-CN201510117521.X在审
  • 王宙;骆旭梁;董桂馥;付传起;雍帆;张庆乐 - 大连大学
  • 2015-03-16 - 2015-07-22 - C30B28/12
  • 本发明涉及激光脉冲溅射沉积制备多晶硅薄膜的方法,具体包括以下步骤:将基板进行前处理;将镀膜材料硅靶材与基板放入真空系统中,抽真空至1.0×10-4Pa,基板温度为500~700℃,基板与硅靶材之间的距离为3~8cm;然后用准分子激光器做为激光源发射激光,频率为2~5HZ,溅射2~4h;最后经过600~1000℃退火2~4h,制备出多晶硅薄膜;所述的基板为铜片或石英玻璃。本发明制备的多晶硅薄膜晶粒细小且大小分布均匀,具有很好的平整性以及致密性,具有更好的晶化程度,并且几乎没有杂质原子,并能在多种基体上制备出晶粒细小,工艺简单,重复性好,成本低,适合工业化生产。
  • 激光脉冲溅射沉积制备多晶薄膜方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top