专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种超薄忆阻器及其制备方法-CN202310297202.6在审
  • 葛军;陈莞君;马泽霖;曹栩诚;刁山青;刘志宇;潘书生 - 广州大学
  • 2023-03-22 - 2023-07-18 - H10N70/20
  • 本发明涉及神经形态计算芯片技术领域,尤其是涉及一种超薄忆阻器及其制备方法。所述忆阻器自下而上包括底电极、阻变层和顶电极,其中,所述底电极的材料为硼重掺杂p型Si,所述阻变层采用SiOx,所述顶电极选用可吸附结合氧的金属材料。本发明采用硼重掺杂p型Si作为底电极,其表面能够在有氧环境中自然形成超薄SiOx层,形成条件简单,降低了制备难度;以可吸附结合氧的金属材料作为顶电极,Sn、Ti、Al金属材料的导电性能优良,而且能够在阻变层SiOx上提供氧存储层;制备得到超薄忆阻器具有优异的数据保持能力、高稳定性、低开关速度,能够成功模拟生物突触STDP学习规则,具有优异的综合性能。
  • 一种超薄忆阻器及其制备方法
  • [发明专利]一种高性能硅基忆阻器PUF及其制备方法-CN202310156166.1在审
  • 葛军;刁山青;马泽霖;林浩;潘书生;张国琴 - 广州大学
  • 2023-02-22 - 2023-06-23 - H10N70/20
  • 本发明属于基于PUF的安全技术领域,公开了一种高性能硅基忆阻器PUF,其包括重掺杂P型含硅衬底,所述重掺杂P型含硅衬底的表面具有自氧化形成的天然氧化硅层,所述天然氧化硅层的表面设置有Ag金属层。本发明还公开了该高性能硅基忆阻器的制备方法和生成方法。本发明以重掺P++‑Si衬底上经自然氧化的SiOx为阻变层,同时采用活性金属电极Ag作为器件的顶电极,本发明利用工艺简单、成本低廉的方法制备native‑SiOx忆阻器,利用超薄的native‑SiOx忆阻器RESET后忆阻器中残余Ag团簇不同导致的器件HRS高的随机差异性作为PUF的熵源,有利于PUF的实际应用。
  • 一种性能硅基忆阻器puf及其制备方法
  • [发明专利]一种硅基底超疏水表面及其制备方法与应用-CN202010159931.1有效
  • 张成云;陆明慧;马泽霖;王文君;洪志豪 - 广州大学
  • 2020-03-09 - 2022-05-10 - B05D7/24
  • 本发明提供了一种基底超疏水表面及其制备方法与应用。本发明先采用聚焦的飞秒激光对淹没于水中的基底表面进行处理以形成深亚波长数量级的平行于激光偏振方向的表面周期纳米结构,从而得到大面积均匀分布的超亲水表面,再将超亲水表面干燥后采用聚二甲基硅氧烷进行处理以使其由超亲水转化为超疏水,所得的基底超疏水表面可应用于防水、防雾、减阻、自清洁、微流控、油水分离、雾水收集等领域。本发明所采用的PDMS热处理技术,不仅原料安全无毒,而且操作简单,处理时间短,材料节省,不需专项配套设施,对操作人员的专业要求也不高。
  • 一种基底疏水表面及其制备方法应用
  • [发明专利]一种忆阻器及其制备方法和应用-CN202111192931.2在审
  • 葛军;马泽霖;曹栩诚;陈莞君;刁山青;潘书生 - 广州大学
  • 2021-10-13 - 2022-02-11 - H01L45/00
  • 本发明公开了一种忆阻器及其制备方法和应用,该忆阻器包括从上到下依次设置的顶电极、阻变层及底电极,所述底电极为含硅衬底,所述阻变层为含硅衬底表面形成的天然氧化层。本发明中的忆阻器采用天然氧化层作为阻变层,天然氧化层是由空气自然氧化形成,具有厚度薄、与含硅衬底之间几乎完美的接触界面、表面原子级别光滑、无需人工制备、成本低、与互补金属氧化物半导体工艺兼容等优势,克服了本领域普遍认为的含硅衬底表面的天然氧化层不利于忆阻器性能的技术偏见。此外,本发明中的忆阻器同时具有优异的数据保持能力、高稳定性、模拟开关特性三种性能。
  • 一种忆阻器及其制备方法应用

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