专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]真空清洁头-CN201110052189.5有效
  • 戴维·A·麦克劳德;马修·J·多布森;斯潘塞·J·R·阿西;查尔斯·G·欧文 - 戴森技术有限公司
  • 2011-03-04 - 2011-09-21 - A47L9/04
  • 一种真空清洁头,包括:壳体,具有允许空气流进入该头的吸口;用于搅动要被清洁表面的搅动器,该搅动器具有激活状态和非激活状态;接收来自壳体的空气流的管;和控制搅动器的状态的控制组件。该控制组件包括:压力腔室,该压力腔室具有与管流体相通的内部空间且其可响应内部空间和环境空气之间的压力差而在膨胀构造和收缩构造之间变化;促动器,响应压力腔室向收缩构造的转变而将搅动器从激活状态和非激活状态中的一个转变为另一个;和控制机构,具有防止压力腔室采取收缩构造的第一状态和允许压力腔室采取收缩构造的第二状态。控制机构被设置为响应压力腔室的内部空间的增加而在第一状态和第二状态之间变化,例如响应管内的空气压力的增加。
  • 真空清洁
  • [发明专利]真空清洁头-CN201110052458.8有效
  • 戴维·A·麦克劳德;马修·J·多布森 - 戴森技术有限公司
  • 2011-03-04 - 2011-09-21 - A47L9/04
  • 一种真空清洁头,包括压力腔室(176),该压力腔室包括第一腔室区段(194)和第二腔室区段(196),该第二腔室区段响应跨其的压力差而可相对于第一腔室区段(194)从第一位置至第二位置运动;和控制机构(214,238),位于压力腔室中。该控制机构具有阻止第二腔室区段响应所述压力差运动超过在第一和第二位置中间的第三位置的第一状态,和允许第二腔室区段响应所述压力差运动至第二位置的第二状态。该控制机构响应第二腔室区段从第三位置的运动而在第一和第二状态之间改变。这可允许压力腔室通过改变跨第二腔室区段的压力差,而在不同的构造之间转换,例如用于抬高或降低清洁器头的部件,或选择性地激活或去激活搅动器。
  • 真空清洁
  • [发明专利]真空清洁器具-CN201110052340.5有效
  • 戴维·A·麦克劳德;马修·J·多布森;斯潘塞·J·R·阿西;查尔斯·G·欧文 - 戴森技术有限公司
  • 2011-03-04 - 2011-09-21 - A47L9/04
  • 一种真空清洁器具,包括:真空清洁头(10),具有吸口(36),该头具有第一状态和第二状态;风扇单元,用于通过吸口抽吸空气流;和控制组件,用于控制该头的状态。该控制组件包括:用户操作阀(320),用于临时地增加从吸口至风扇单元延伸的气流路径内空气压力;压力腔室(176),具有与该气流路径流体相通的内部空间,该压力腔室响应所述内部空间和环境空气之间的压力差可从膨胀构造运动至收缩构造,该压力腔室被朝向膨胀构造偏压;和控制机构(214、238),用于允许压力腔室响应阀的第一操作而运动至收缩构造,该第一操作把该头置于所述第一和第二状态中的一个中,和用于防止压力腔室响应阀的第二操作而返回至收缩构造,该第二操作把该头置于所述第一和第二操作中的另一个中。
  • 真空清洁器具

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