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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]具有含非反射区的反射层的光掩模-CN201980083479.0在审
发明人：苏普瑞亚·杰斯瓦尔 -专利权人： 阿斯特鲁公司;苏普瑞亚·杰斯瓦尔
申请日： 2019-10-17 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： G03F1/24 文献下载
摘要：本发明提供了适于极紫外线(EUV)与X射线微影术的包括反射性多层内的非反射区的掩模。此非反射区替代了用于为集成电路提供图案的典型吸收体层。本发明描述了用于在紫外线(UV)、极紫外线(EUV)、和/或软X射线波长下操作的装置与系统中使用的新类型材料与关联组件。本发明涉及EUV光掩模架构，其包含消除对吸收体层的需要、掩模上的阴影效应、3D衍射效应、和缺陷管理的反射区与非反射区。此类材料结构与组合可用于制作组件，例如镜子、透镜、或其他光学组件、面板、光源、光掩模、光阻剂，或用于诸如微影术、晶圆图案化、天文与太空应用、生物医学应用、或其他应用之类的其他组件。
具有反射反射层光掩模

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