专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]釉下彩流变反应釉及其制备方法-CN201911257097.3在审
  • 钟首军;谢少元 - 湖南德兴瓷业有限公司
  • 2019-12-10 - 2020-02-21 - C03C8/00
  • 本发明公开了一种釉下彩流变反应釉及其制备方法,它在1350~1380℃的温度环境下烧成,它包括底釉和面釉;其中,所述底釉所使用的釉料的组分及各组分质量份如下:三氧化二铝35‑38份,二氧化硅42‑45份,氧化钾3‑5份,氧化钠2‑4份,氧化钙1‑3份,氧化钛1‑4份,氧化锡0.5‑1份,氧化钴0.2‑0.5份;所述面釉所使用的釉料的组分及各组分质量份如下:三氧化铝17‑19份,二氧化硅58‑60份,氧化钾4‑6份,氧化钠3‑5份,氧化钙1‑3份,氧化钛0.5‑1份,氧化铁0.1‑0.2份,氧化铬0.2‑0.5份。本发明能够合理掌握其反应矿物的比例,合理控制釉温,使产品画面真正反映创作人员的构想,丰富了釉下彩的色彩,使产品艺术效果更浓,从而大大提高了作品价值。
  • 釉下彩流变反应及其制备方法

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