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本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]缺陷检查装置及缺陷检查方法-CN201910093769.5在审
发明人：野岛和弘;手塚知秀;大西笃志;山田一弘;野嶋茂树;滨口晶 -专利权人：东芝存储器株式会社
申请日： 2019-01-30 - 公布日： 2020-03-20 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：实施方式提供一种能够在半导体制造的缺陷检查中缩短检查时间的缺陷检查装置及缺陷检查方法。实施方式的缺陷检查装置具备获取部、剪辑部、第1赋予部、匹配部及核对部。获取部获取表示在晶圆上展开的图案的电子信息。剪辑部将设计数据所示的图形中与电子信息对应的部分进行剪辑而获得设计信息。第1赋予部对电子信息所示的各图案赋予第1编号，且对设计信息所示的各图案赋予第2编号。匹配部创建表示第1编号与第2编号的对应关系的关系信息。核对部基于关系信息及与设计信息所示的各图案对应的节点信息，核对电子信息所示的图案是否包含晶圆的电路上的缺陷。
缺陷检查装置方法

[发明专利]光掩模的制造方法-CN200510133813.9无效
发明人：伊藤正光;野嶋茂树;三本木省次;池永修 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2001-08-29 - 公布日： 2006-06-07 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：掩模的制造方法具备在形成光掩模的图案后，测定形成的图案的尺寸步骤和根据测定的图案尺寸的结果求出使用上述光掩模时的曝光裕度的步骤。并且根据上述求得的曝光裕度是否满足所期望的曝光裕度这个条件，来判断上述光掩模是否合格。
光掩模制造方法

[发明专利]光掩模的制造方法-CN01145446.6无效
发明人：伊藤正光;野嶋茂树;三本木省次;池永修 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2001-08-29 - 公布日： 2002-07-03 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：掩模的制造方法具备在形成光掩模的图案后,测定形成的图案的尺寸步骤和根据测定的图案尺寸的结果求出使用上述光掩模时的曝光裕度的步骤。并且根据上述求得的曝光裕度是否满足所期望的曝光裕度这个条件,来判断上述光掩模是否合格。
光掩模制造方法

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