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[发明专利]一种超低折射率SiO2-CN201811577518.6有效
发明人：陶朝友;张林;邹鑫书 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2018-12-21 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： C03C17/25 文献下载
摘要：本发明公开了一种超低折射率SiO2减反射膜的制备方法，所述制备方法为：先制备得到酸催化的SiO2溶胶A，然后将酸催化的SiO2溶胶A除酸后作为原料与碱催化溶胶原料一起制备复合SiO2溶胶B，最后将复合SiO2溶胶B通过浸渍提拉法制得SiO2薄膜。本发明的制备方法工艺简单、可操作性强、反应速度快，由于制得的SiO2减反射膜中有酸催化SiO2纳米颗粒的存在，使得到的SiO2减反射膜相比于现有的SiO2减反射膜，机械性能更好，且透光率高，反应过程中无需引入任何有机硅烷或是对薄膜进行后处理即可得到超低折射率的SiO2薄膜。
一种折射率 sio base sub

[发明专利]一种双层复合SiO2-CN201810513506.0有效
发明人：陶朝友;邹鑫书 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2018-05-25 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： C03C17/23 文献下载
摘要：本发明公开了一种双层复合SiO2减反射膜的制备方法，将硅源加入至无水乙醇、盐酸和水的混合液中，于室温下搅拌均匀后静置数天，得到酸催化的SiO2溶胶A；将硅源加入至无水乙醇、氨水和水的混合液中，于室温下搅拌均匀后静置数天，得到碱催化的SiO2溶胶B；将SiO2溶胶A和步骤2制得的SiO2溶胶B分别除酸和除氨，得到SiO2溶胶A1和SiO2溶胶B1；将SiO2溶胶A1和SiO2溶胶B按照质量比1∶4进行混合，将SiO2溶胶A和SiO2溶胶B1按照质量比2∶3进行混合，搅拌均匀后静置数天，分别得到复合溶胶S‑20％和S‑40％；在相对湿度环境＜50％的环境下，将经过预处理的基底浸入复合溶胶S‑40％中进行镀膜，将镀膜的基底静置数分钟，再将基底浸入复合溶胶S‑20％中进行镀膜；最后将镀有双层膜的基底置于HMDS气氛中处理即可。
一种双层复合 sio base sub

[发明专利]一种折射率可调的SiO2-CN201810513311.6有效
发明人：陶朝友;张林;邹鑫书;严鸿维;袁晓东 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2018-05-25 - 公布日： 2020-05-12 - 主分类号： G02B1/113 文献下载
摘要：本发明公开了一种折射率可调的SiO2减反射膜的制备方法，该制备方法将六甲基二硅胺烷与正硅酸乙酯同时作为原料加入反应液中合成SiO2溶胶，再采用浸渍提拉法在基底上镀碱催化的SiO2膜。本发明的制备方法能够一步制得折射率可大范围调控的SiO2薄膜，该制备方法工艺简单、可操作性强、反应速度快，制得的SiO2减反射膜透光率高，在高湿热环境中仍具有极为优异的稳定性。将六甲基二硅胺烷作为反应原料，不仅能够对薄膜微观结构进行调节，从而实现对薄膜折射率的调控；而且还能在六甲基二硅胺烷占比较大时，有效提高薄膜的机械强度(拉压强度)。
一种折射率可调 sio base sub

[发明专利]一种表层具有封孔结构内层具有介孔结构的二氧化硅增透膜及其制备方法-CN201910006421.8在审
发明人：陶朝友;邹鑫书 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2019-01-04 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： C03C17/25 文献下载
摘要：本发明公开了一种表层具有封孔结构内层具有介孔结构的二氧化硅增透膜，所述增透膜为上下双层膜结构，上层SiO₂薄膜中SiO₂纳米颗粒致密排布，下层SiO₂薄膜中SiO₂纳米颗粒排布形成多个纳米孔洞结构，所述孔洞结构的孔径为2～50nm。本发明制备的二氧化硅膜，表面为封孔结构二氧化硅膜，底层的二氧化硅介孔膜为网状结构，表层中二氧化硅缩聚物之间结合紧密，从而使上层为孔隙率很低的致密的二氧化硅膜，由于表层为闭孔结构，水分子无法进入薄膜孔隙中，从而增透膜具有优良的环境稳定性和耐候性。
增透膜二氧化硅封孔致密二氧化硅膜介孔结构纳米颗粒内层排布制备上层二氧化硅介孔结构二氧化硅纳米孔洞结构环境稳定性双层膜结构薄膜孔隙闭孔结构孔洞结构网状结构孔隙率耐候性水分子缩聚物下层