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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]切趾变密度滤光片-CN202011180179.5在审
发明人：金秀;张勇喜;阴晓俊;赵珑现;杨文华;张帆;郭俊峰 -专利权人：沈阳仪表科学研究院有限公司
申请日： 2020-10-29 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明属光学元件领域，尤其涉及一种用于消除边缘杂散光或调整光源强度分布的切趾变密度滤光片，所述切趾变密度滤光片膜层厚度沿中心轴或对称轴对称分布，其透射率符合切趾函数；所述切趾变密度滤光片的几何形状为圆形或方形；所述切趾变密度滤光片的渐变趋势为正向切趾或反向切趾；所述切趾变密度滤光片的透射率随位置的变化呈三角波函数、抛物线函数、Connes函数、余弦函数、二次余弦函数、海明函数、布拉克曼函数或高斯函数关系。本发明可消除光束边缘杂散光，能通过沿半径方向双向渐变对光强进行调整。
切趾变密度滤光

[发明专利]低反射型中性密度滤光片-CN201410618737.X有效
发明人：阴晓俊;高鹏;张勇喜;金秀;马敬;赵珑现 -专利权人：沈阳仪表科学研究院有限公司
申请日： 2014-11-06 - 公布日： 2015-01-21 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明属光能衰减光学元件领域，尤其涉及一种低反射型中性密度滤光片，包括基底及镀制其上的膜系层；所述膜系层结构为G|AMB或BM|G|MB；其中M为实现透射衰减及中性透射的金属层；G为基底；A及B为匹配实现金属宽光谱减反射的膜堆；所述膜堆A和膜堆B由介质层与金属层M交替镀制而成；所述金属层M采用Ni-Cr或Ni-Cr-Fe材料；所述介质层采用TiO₂、SiO₂、Al₂O₃、HfO₂、Ta₂O₅或Nb₂O₅。本发明可实现较宽光谱范围内的低反射和透射光谱中性二者性能上的兼顾。
反射中性密度滤光

[实用新型]多光束能量同步调节中性密度滤光片-CN201320597272.5有效
发明人：金秀;张勇喜;胡雯雯;任少鹏;赵珑现;张艳姝 -专利权人：沈阳仪表科学研究院有限公司
申请日： 2013-09-26 - 公布日： 2014-02-26 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本实用新型属中性密度滤光片领域，尤其涉及一种多光束能量同步调节中性密度滤光片，它包括圆形线性渐变密度滤光本体（1）；所述圆形线性渐变密度滤光本体（1）上设有第一光密度渐变区域膜层（101）及第二光密度渐变区域膜层（102）；所述第一光密度渐变区域膜层（101）与第二光密度渐变区域（102）膜层相接且在圆形线性渐变密度滤光本体（1）上呈等分分布。本实用新型成本低廉，占用空间小，可实现在一片滤光片对两束或者多束光进行同步调节。
光束能量同步调节中性密度滤光

[发明专利]多工位渐变薄膜镀制设备-CN201010533532.3无效
发明人：张勇喜;金秀;杨文华;李野;阴晓俊;赵帅锋;赵珑现 -专利权人：沈阳仪表科学研究院
申请日： 2010-11-06 - 公布日： 2011-03-16 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本发明属真空镀膜设备领域，尤其涉及一种多工位渐变薄膜镀制设备，它包括驱动模块、基板（8）、工件盘（7）、掩膜机构（10）及均匀机构（11）；所述工件盘（7）位于基板（8）之上；所述工件盘（7）可绕其轴心旋转，其与基板（8）的间隔恒定；在所述工件盘（7）上固定设有镀膜工位；在所述基板（8）上对应所述镀膜工位位置设有镀膜孔；在所述镀膜工位与镀膜孔之间固定设有掩膜机构（10）；在所述镀膜孔的下部于基板（8）上固定设有均匀机构（11）；所述驱动模块的工作端与工件盘（7）固定相接。本发明可以实现工位（待镀基片）平稳精准地旋转变换，提高单次抽真空所镀制的产品数量，进而提升系统整体生产效率。
多工位渐变薄膜设备

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共 4 条

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