专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种潜在指印的化学显现方法-CN201510587203.X在审
  • 谢步高 - 福建师范大学
  • 2015-09-16 - 2015-12-02 - A61B5/117
  • 本发明属于痕迹物证显现领域,具体涉及一种潜在指印的化学显现方法。具体包括以下步骤:(1)配制显现试剂:将显现试剂A液与B液按1:1体积比混合,配制得显现试剂;所述的A液为含有2~5wt%联乙酰一肟和5wt%乙酸的水溶液,B液为含有2~5wt%安替比林的混合酸溶液;或者所述的A液为含有2~6wt% 9-羟基占吨的无水乙醇溶液,B液为0.2~0.6mol/L盐酸乙醇溶液;(2)将显现试剂喷洒在显现客体表面,然后将显现客体置于烘箱加热或置于暗处阴干(0.5~2h)。本发明显现灵敏度高,不仅适用于新鲜汗液指印的显现,而且对陈旧性汗液指印亦有很好的显现效果。
  • 一种潜在指印化学显现方法
  • [发明专利]一种环保型无氰银电镀液-CN200910112555.4无效
  • 谢步高;杜力夫 - 福建师范大学
  • 2009-09-23 - 2010-03-10 - C25D3/46
  • 一种不含氰化物的环保型无氰银电镀液,该镀液含有银离子来源物、配位剂氨基酸类化合物及其衍生物、辅助配位剂及电镀添加剂。组成配比及工艺条件是:银盐0.01~1mol/L,氨基酸类化合物或其衍生物0.01~10mol/L,辅助配位剂0.002~2mol/L,电镀添加剂0.001~2.0g/L,镀银液pH 6~14,镀银液温度10~70℃。与传统的有氰镀银工艺配方相比,该环保型镀银液具有清洁电镀的特点;同时,镀液中银离子与铜、铜合金等活泼性金属及合金基底的置换速率非常慢,镀银过程中可采用一步型电镀方法,无需预镀银或浸银,且镀层光亮、结合力良好。
  • 一种环保型无氰银电镀
  • [发明专利]一种非水无氰镀银电镀液-CN200810070664.X无效
  • 孙建军;陈锦怀;谢步高;林志彬;陈国南 - 福州大学
  • 2008-02-27 - 2008-11-26 - C25D3/46
  • 本发明提供一种非水无氰镀银电镀液,所述电镀液采用有机溶剂代替水作为溶剂,所述电镀液中各组分质量浓度为:银离子来源物1~200g/L,配位剂1~800g/L,电镀添加剂10~10000mg/L。本发明的非水无氰镀银电镀液与传统的有氰镀银工艺配方相比,该非水无氰镀银电镀液毒性极低;与无氰镀银水体系镀液相比,其镀液稳定性好,镀层中银粒子簇更小,在控制条件下,平均粒子半径在100纳米以内,镀层细致光亮且结合力良好,可满足装饰性电镀、功能性电镀等领域的应用,特别在电子芯片微沟道电镀与纳米材料制备方面有更好的应用。
  • 一种非水无氰镀银电镀
  • [发明专利]一种无预镀型无氰镀银电镀液-CN200710144046.0无效
  • 孙建军;向统领;谢步高;林志彬;陈国南 - 福州大学
  • 2007-12-19 - 2008-09-10 - C25D3/46
  • 本发明提供一种无预镀型无氰镀银镀液,其特征在于:所述的电镀液的原料配方各组分的质量浓度为:银离子来源物1~200g/L,配位剂肌酐及肌酐衍生物1~800g/L,支持电解质1~200g/L,镀液pH调节剂0~550g/L及电镀添加剂体系。与传统的有氰镀银工艺配方相比,该无氰镀银电镀液毒性极低或无毒,镀液稳定性好;同时,镀液中银离子与铜、镍、铁、铝、铬、钛等单金属及合金基底的置换速率非常慢,镀件无需预镀银或浸银,镀层结合力良好且光亮,满足装饰性电镀和功能性电镀等多领域的应用。
  • 一种无预镀型无氰镀银电镀
  • [发明专利]用于镀银的无氰型电镀液-CN200710009208.X无效
  • 孙建军;谢步高;林志彬;陈锦怀;陈国南 - 福州大学
  • 2007-07-13 - 2007-12-26 - C25D3/46
  • 本发明提供一种用于镀银的无氰型电镀液,其特征在于所述电镀液的原料配方各组分的质量浓度为:含有银的无机盐或有机盐1~200g/L,嘧啶类配位剂1~800g/L,支持电解质1~200g/L,镀液pH调节剂0~550g/L及电镀添加剂体系。制备方法为:将各组分按照所述原料配方按照次序混合均匀,制成无氰镀银电镀液;溶液温度调节为10~65℃。与传统的有氰镀银工艺配方相比,本发明的无氰镀银镀液毒性极低或无毒,镀液稳定性好;同时,镀液中银离子与铜、镍、铁、铝、铬、钛等单金属及合金基底的置换速率非常慢,镀件无需预镀银或浸银,镀层结合力良好且光亮,满足装饰性电镀和功能性电镀等多领域的应用。
  • 用于镀银无氰型电镀
  • [发明专利]一种无氰镀银电镀液-CN200710009207.5无效
  • 孙建军;谢步高;陈国南;林志彬;向统领 - 福州大学
  • 2007-07-13 - 2007-12-26 - C25D3/46
  • 本发明提供一种无氰镀银镀液,其特征在于所述电镀液的原料配方各组分的质量浓度为:含有银的无机盐或有机盐1~200g/L,嘌呤类配位剂1~800g/L,支持电解质1~200g/L,镀液pH调节剂0~550g/L及电镀添加剂体系。制备方法为:将各组分按照所述原料配方按照次序混合均匀,制成无氰镀银电镀液;溶液温度调节为10~60℃。与传统的有氰镀银工艺配方相比,本发明的无氰镀银镀液毒性极低或无毒,镀液稳定性好;同时,镀液中银离子与铜、镍、铁、铝、铬、钛等单金属及合金基底的置换速率非常慢,镀件无需预镀银或浸银,镀层结合力良好且光亮,满足装饰性电镀和功能性电镀等多领域的应用。
  • 一种镀银电镀
  • [实用新型]电镀液中添加剂浓度的实时监测装置-CN200520096734.0无效
  • 孙建军;谢步高;陈小波;陈国南 - 福州大学
  • 2005-06-09 - 2006-10-18 - C25D21/14
  • 本实用新型涉及一种电镀液中添加剂浓度的实时监测装置。它解决了现有技术所存在的设备昂贵,体积较大,且制作工艺十分复杂的缺陷。它包括微电极、辅助电极及参比电极,由三者组成微电极工作体系;微电极包括惰性金属、强耐腐蚀材料以及引出线,将惰性金属包埋于强耐腐蚀材料中,惰性金属的一端与引出线的一端连接,引出线的另一端延伸到强耐腐蚀材料之外;辅助电极采用相同于微电极的惰性金属制成;参比电极选用重现性好的电极,如甘汞电极;微电极体系通过接入线与电化学分析仪器相连。本实用新型既具有响应快、重现性好,又兼有制作简便、成本低廉、体积小的优点。
  • 电镀添加剂浓度实时监测装置

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