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[发明专利]含有酸性气体的气体的处理用分离膜、及含有酸性气体的气体处理用分离膜的制造方法-CN201580013444.1在审
发明人：仓桥智彦;藏冈孝治 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2015-03-13 - 公布日： 2016-11-09 - 主分类号： B01D71/70 文献下载
摘要：对设置于支撑体上的中间层进行优化的同时，提供一种可对含有酸性气体和甲烷气体及/或氮气的混合气体进行处理而分离各气体成分、并高效地得到酸性气体或甲烷气体及/或氮气的含有酸性气体的气体的处理用分离膜。具备无机多孔质支撑体、包含无机多孔质支撑体的表面上所形成的聚硅氧烷网状结构体的中间层、及包含中间层上所形成的含烃基聚硅氧烷网状结构体的分离层。
含有酸性气体处理分离制造方法

[发明专利]分离甲烷和二氧化碳的膜及其制法-CN201610127735.X在审
发明人：仓桥智彦;石野政治;藏冈孝治 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2012-04-24 - 公布日： 2016-07-06 - 主分类号： B01D71/82 文献下载
摘要：本发明提供一种制备用于分离甲烷或二氧化碳的分离膜的方法，所述膜具有优异的耐热性、耐久性和耐化学溶剂性(耐腐蚀性)。本发明涉及一种制备甲烷分离膜或二氧化碳分离膜的方法，所述方法特征在于包括以下步骤：(a)通过如下步骤制备金属醇盐溶液：(i)将酸性催化剂、水和有机溶剂搅拌并混合，(ii)向其中加入四烷氧基硅烷，将其搅拌并混合，和(iii)然后向其中加入含烃基的三烷氧基硅烷，将其搅拌并混合，其中所述烃基选自含1至6个碳原子的烷基和苯基，(b)将所述金属醇盐溶液涂布在无机多孔载体上，然后(c)在30至300℃下将所述涂布了金属醇盐溶液的无机多孔载体焙烧。
分离甲烷二氧化碳及其制法

[发明专利]含有酸性气体的气体处理用分离膜、及含有酸性气体的气体处理用分离膜的制造方法-CN201480029339.2在审
发明人：仓桥智彦;藏冈孝治 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2014-03-31 - 公布日： 2016-01-06 - 主分类号： B01D71/70 文献下载
摘要：提供一种可从含有二氧化碳等酸性气体和甲烷气体的消化气体中分离酸性气体或甲烷气体，并得到高浓度的甲烷气体的含有酸性气体的气体处理用分离膜。使在表面存在有残留未反应基团的引入了烃基的聚硅氧烷网状结构体与从含烃基单烷氧基硅烷、含烃基二烷氧基硅烷、含烃基一氯硅烷、含烃基二氯硅烷、及含烃基三氯硅烷组成的组中选择的至少一种改性用硅烷化合物反应，从而制作消灭或减少了所述残留未反应基团的含有酸性气体的气体处理用分离膜。
含有酸性气体处理分离制造方法

[发明专利]含有酸性气体的气体处理用分离膜及其制造方法、酸性气体或甲烷气体的分离方法、及酸性气体或甲烷气体的制造方法-CN201380059543.4在审
发明人：仓桥智彦;藏冈孝治 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2013-08-09 - 公布日： 2015-07-22 - 主分类号： B01D71/70 文献下载
摘要：本发明提供一种含有酸性气体的气体处理用分离膜，其可从含有二氧化碳等酸性气体和甲烷气体的消化气体中分离酸性气体或甲烷气体，并得到高浓度的甲烷气体。一种含有酸性气体的气体处理用分离膜，其由在引入了烃基的聚硅氧烷网状结构体上掺杂对酸性气体有亲和性的金属盐而成。引入了烃基的聚硅氧烷网状结构体是通过四烷氧基硅烷和含有烃基的含烃基三烷氧基硅烷的反应而得到的复合聚硅氧烷网状结构体。四烷氧基硅烷为四甲氧基硅烷或四乙氧基硅烷，含烃基三烷氧基硅烷为在三甲氧基硅烷或三乙氧基硅烷的Si原子上键合了碳数为1-6的烷基或苯基的含烃基三烷氧基硅烷。
含有酸性气体处理分离及其制造方法甲烷

[发明专利]分离甲烷和二氧化碳的膜及其制法-CN201280020776.9有效
发明人：仓桥智彦;石野政治;藏冈孝治 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2012-04-24 - 公布日： 2014-01-22 - 主分类号： B01D71/02 文献下载
摘要：本发明提供一种制备用于分离甲烷或二氧化碳的分离膜的方法，所述膜具有优异的耐热性、耐久性和耐化学溶剂性（耐腐蚀性）。本发明涉及一种制备甲烷分离膜或二氧化碳分离膜的方法，所述方法特征在于包括以下步骤：(a)通过如下步骤制备金属醇盐溶液：(i)将酸性催化剂、水和有机溶剂搅拌并混合，(ii)向其中加入四烷氧基硅烷，将其搅拌并混合，和(iii)然后向其中加入含烃基的三烷氧基硅烷，将其搅拌并混合，其中所述烃基选自含1至6个碳原子的烷基和苯基，(b)将所述金属醇盐溶液涂布在无机多孔载体上，然后(c)在30至300℃下将所述涂布了金属醇盐溶液的无机多孔载体焙烧。
分离甲烷二氧化碳及其制法