专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]光学低通滤波器的抛光模具-CN201220248837.4有效
  • 冷志红;蔡灵玲 - 昆山明本光电有限公司
  • 2012-05-30 - 2013-01-16 - B24B29/02
  • 本实用新型涉及一种用于抛光机下模内的光学低通滤波器的抛光模具,其特征在于:该抛光模具包括圆形片,该圆形片为正圆形,且该圆形片的直径大小等于抛光机下模的环形宽度,在圆形片的外周边开设有外齿,该外齿与抛光机下模的内外传动齿啮合,在所述圆形片的中心开设有中心孔,所述中心孔的两侧开设有滤液孔,在所述圆形片上开设有晶片框,在所述晶片框的四角开设有余量孔。本模具放置在抛光机的下模内,外齿与下模内的内外传动齿啮合,晶片框用于存放滤波器晶片,本结构模具设计巧妙,抛光中有利于抛光液的流动,且利用晶片框的数量,方便操作者对抛光晶片的计数。
  • 光学滤波器抛光模具
  • [实用新型]固定提升架-CN201220248906.1有效
  • 冷志红;蔡灵玲 - 昆山明本光电有限公司
  • 2012-05-30 - 2013-01-16 - B08B13/00
  • 本实用新型涉及一种固定提升架,该固定提升架包括提升架和固定架,所述提升架包括底架和把手,所述把手设置在底架的一侧;所述固定架包括竖板、第一横杆和第二横杆,所述竖板为两块,在竖板上开设有第一环形孔和第二环形孔,所述第一横杆上凹设有横向锯齿,在第二横杆上凹设有竖向锯齿;所述第一横杆通过螺母固定连接到第一环形孔内,所述第二横杆通过螺母固定连接到第二环形孔内。本装置用于滤波器晶片置于清洗槽内进行清洗,通过相邻两第一横杆上的横向锯齿与竖向锯齿组成的固定区进行摆放滤波器晶片,然后将固定架放到提升架内,从而完成滤波器晶片多量化的清洗处理,并根据固定区上锯齿的数量得到清洗晶片的数量,便于操作者的计数。
  • 固定提升
  • [实用新型]快速测量检测装置-CN201220248908.0有效
  • 冷志红;蔡灵玲 - 昆山明本光电有限公司
  • 2012-05-30 - 2013-01-16 - G01B5/00
  • 本实用新型涉及一种用于低通滤波器晶片尺寸测量的快速测量检测装置,包括底座和千分尺,在底座上设置有固定块,在固定块上开设有凹腔,在凹腔内设有定位块和移动块,移动块可沿凹腔内前后移动,定位块和移动块通过径向螺栓连接固定,在固定块的侧边设有横向螺栓,该横向螺栓穿过凹腔;千分尺固定在定位块和移动块之间,在千分尺的头部卡设一定位挡块,在定位挡块上开设有凹槽。本装置用于将千分尺固定在定位块和移动块之间,被检测的晶片放置在千分尺的伸出杆处,同时,被检测晶片的面贴合定位挡块的平面,保证其检测位置水平,提高了检测精度的准确度,方便人工快速的检测低通滤波器晶片的尺寸,大大提高了工作效率,达到节约工时的目的。
  • 快速测量检测装置
  • [实用新型]具有抛光液循环回收利用装置的抛光机-CN201220248910.8有效
  • 冷志红;蔡灵玲 - 昆山明本光电有限公司
  • 2012-05-30 - 2013-01-16 - B24B57/00
  • 本实用新型涉及一种具有抛光液循环回收利用装置的抛光机,包括抛光机本体和设置在抛光机本体后端底部的出液口,所述出液口通过出液管连接抛光液循环回收装置,该抛光液循环回收装置包括三脚架和收液桶;所述三脚架上放置有漏斗;所述收液桶的上端设有封盖,在所述封盖上开设有进液口,并在所述封盖上固定安装有电机;所述出液管的另一端连接到漏斗上方,漏斗的底部通过管路连接到进液口,所述电机的底端连接回液管,该回液管的另一端连接到抛光机上模上方的进液装置。本回收装置将抛光机内排出的抛光液进行筛滤后,将过滤后的抛光液再次的抽回到抛光机上的进液机构,完成抛光液的回收利用,减少了资源浪费,且提高了加工车间的清洁度。
  • 具有抛光循环回收利用装置抛光机
  • [实用新型]抛光机-CN201220248840.6有效
  • 冷志红;蔡灵玲 - 昆山明本光电有限公司
  • 2012-05-30 - 2013-01-16 - B24B29/02
  • 本实用新型涉及一种抛光机,包括电机、支架、弯管、抛光上模、抛光下模和工作台,所述电机设置在支架的顶部,所述电机的伸出杆连接抛光上模,在抛光上模的上方设有抛光液进液机构,该抛光液进液机构主要包括沿伸出杆为轴心阵列分布的弯管,所述抛光下模设置在工作台上,该抛光下模的中心套接有传动轴,该传动轴底部连接到工作台内的电机,其特征在于:所述抛光上模的表面覆有一层抛光面板,在抛光面板上开设有凹槽,在所述抛光面板上还开设有通孔。本抛光机用于光学低通滤波器晶片的抛光处理,开设的凹槽防止完成抛光后的晶片吸附在抛光上模表面,且有利于抛光液的流动,很大程度上提高了晶片的抛光效果。
  • 抛光机
  • [实用新型]用于抛光机上工作台面防垂直降落的保护机构-CN201220248838.9有效
  • 冷志红;蔡灵玲 - 昆山明本光电有限公司
  • 2012-05-30 - 2013-01-16 - B24B29/02
  • 本实用新型涉及一种用于抛光机上工作台面防垂直降落的保护机构,其特征在于:该保护机构包括第二气缸、保护块和搭扣块,所述第二气缸的后端连接固定块,该固定块通过螺丝连接到支架的横梁下端;所述搭扣块通过四个螺栓连接固定到支架的横梁下端;所述第二气缸的伸出端通过伸出杆连接到保护块,该保护块搭设在搭扣块上,所述保护块的头部呈叉子状,升降杆穿过保护块的头部,且所述升降杆与保护块的头部不接触。在抛光机完成抛光工序时,需要通过第一气缸将抛光机上工作台面升起,由于第一气缸只通过一根升降杆与抛光上模连接,在升起的过程中容易产生晃动,加上此保护机构,避免了抛光上模升起时产生晃动,提高了本设备的操作安全性。
  • 用于抛光机工作台面垂直降落保护机构
  • [实用新型]清洗修整盘-CN201220248907.6有效
  • 冷志红;蔡灵玲 - 昆山明本光电有限公司
  • 2012-05-30 - 2013-01-09 - B24B53/00
  • 本实用新型涉及一种清洗修整盘,其特征在于:该清洗修整盘包括正面和反面,其中,所述正面为修整面,反面为清洗面,该清洗修整盘的外周边上开设有外齿,所述外齿与抛光下模上的内外传动齿啮合;所述修整面的中心开设有中心孔,在修整面的表面镀有金刚石层,且在所述修整面上开设有凹槽;所述清洗面的中心部位开设有滤液孔,在清洗面的表面通过线绳固定连接有刷毛,刷毛呈密集型的设置在清洗面的表面。本结构具体采用的是使用偶数个清洗修整盘置于抛光下模内,且相邻两个清洗修整盘是正反面间隔摆放的,可以一次性完成抛光模具内的清洗以及抛光上模和抛光下模接触面的修整恢复工序,大大提高了抛光机的后期维护工作,保证后期晶片的抛光质量。
  • 清洗修整
  • [发明专利]一种脉理观察器及其使用方法-CN201210172786.6无效
  • 冷志红;蔡灵玲 - 昆山明本光电有限公司
  • 2012-05-30 - 2012-10-03 - G01N21/958
  • 本发明涉及一种脉理观察器,包括支架、观察平台和支柱,该观察平台设置在支架的上方,支柱设置在观察平台的一侧,在所述支柱的一侧开设有滑槽,在该滑槽上从上向下通过固定块依次设置有摄像机、第一准直透镜、第二准直透镜和光源;该摄像机通过电缆线连接显示器,摄像机的下方加设有一变焦镜头;摄像机、变焦镜头、第一准直透镜、第二准直透镜和光源的中心点在一条竖直线上。本脉理观察器通过调节光源与第二准直透镜间的距离以及第一准直透镜与第二准直透镜间的距离,通过光线成像原理,从而在显示器上得到被检测样品的脉理或表面纹路走向图,本结构设计紧凑,便于加工晶片的快速检测,从而提高晶片的质量保证。
  • 一种脉理观察及其使用方法

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