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[发明专利]一种掩模图案校正方法、存储介质以及设备-CN202110325288.X有效
发明人：李福;蔡丰年;谢翔宇 -专利权人：福建省晋华集成电路有限公司
申请日： 2021-03-26 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模图案校正方法、存储介质以及设备，对于至少包括第一图案、第二图案和第三图案，第三图案设置在第一图案和第二图案之间，在靠近第三图案的一侧，第一图案的轮廓包括第一斜线线段、分别和第一斜线线段的两端连接的第一直线线段和第二直线线段，第一直线线段和第二直线线段平行；第二图案的轮廓包括第二斜线线段、分别和第二斜线线段的两端连接的第三直线线段和第四直线线段，第三直线线段和第四直线线段平行的掩模图案，可以通过调整第一斜线线段与第一直线线段的第一夹角以及第二斜线线段与第三直线线段的第二夹角实现对掩模图案的校正，从而避免在第一斜线线段、第二斜线线段和第三图案之间的位置处出现桥接的缺陷。
一种图案校正方法存储介质以及设备

[发明专利]一种掩模板的制备方法、存储介质以及设备-CN202110326741.9有效
发明人：李福;蔡丰年;谢翔宇 -专利权人：福建省晋华集成电路有限公司
申请日： 2021-03-26 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： G03F1/70 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模板的制备方法、存储介质以及设备，通过提供沿第一方向延伸且在第二方向间隔设置的第一图案、第二图案和第三图案；提供与第一图案中平行于第二方向的一侧边框连接的第四图案，与第三图案中平行于第二方向的一侧边框连接的第五图案，其中，第四图案和第五图案的轮廓均包括一斜线线段和一直线线段，斜线线段的一端与直线线段连接，斜线线段的另一端与第一图案或第三图案连接，设置斜线线段与直线线段的交点距离第二图案的距离大于1.5倍的第二图案和与直线线段连接的相应图案之间的间隔，从而得到掩模板，该方法避免在了两条斜线线段和第二图案之间的位置处出现桥接缺陷，有利于提高基于掩模板在基底上形成电路布局图案的精确度。
一种模板制备方法存储介质以及设备

[发明专利]导光板、背光模组及显示装置-CN202180005380.6在审
发明人：陈昊;翁巾婷;张嘉尹;蔡丰年 -专利权人：瑞仪光电（苏州）有限公司;瑞仪光电股份有限公司
申请日： 2021-11-17 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： G02F1/13357 文献下载
摘要：一种导光板(300)、背光模组(100)及显示装置。导光板(300)用以与光源(200)耦合。导光板(300)包含出光面(310)、底面(320)、入光面(330)、多个条状微结构(350)以及多个导光微结构(360)。底面(320)与出光面(310)相对。入光面(330)连接于出光面(310)及底面(320)之间。光源(200)所射出的光线经由入光面(330)进入到导光板(300)。多个条状微结构(350)设置于出光面(310)及底面(320)中的至少一者上，且每一个条状微结构(350)具有相对的两个侧面(351，352)以及作用面(353)。两个侧面(351，352)分别连接于作用面(353)的相对两个侧边。导光板(300)具有厚度方向。两个侧面(351、352)均相对于作用面(353)倾斜，且两个侧面(351，352)分别与厚度方向之间具有夹角。导光微结构(360)设置在任意两个相邻的条状微结构(350)之间，且沿着每一个条状微结构(350)的延伸方向排列。
导光板背光模组显示装置

[实用新型]导光板、背光模组及显示装置-CN202122815373.2有效
发明人：陈昊;翁巾婷;张嘉尹;蔡丰年 -专利权人：瑞仪光电股份有限公司
申请日： 2021-11-17 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： G02B6/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及导光板、背光模组及显示装置。导光板用以与光源耦合。导光板包含出光面、底面、入光面、多个条状微结构以及多个导光微结构。底面与出光面相对。入光面连接于出光面及底面之间。光源所射出的光线经由入光面进入到导光板。多个条状微结构设置于出光面及底面中的至少一者上，且每一个条状微结构具有相对的两个侧面以及作用面。两个侧面分别连接于作用面的相对两个侧边。导光板具有厚度方向。两个侧面均相对于作用面倾斜，且两个侧面分别与厚度方向之间具有夹角。导光微结构设置在任意两个相邻的条状微结构之间，且沿着每一个条状微结构的延伸方向排列。
导光板背光模组显示装置

[发明专利]掩模与半导体结构-CN201510001836.8有效
发明人： 蔡丰年 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2015-01-04 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： H01L27/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种半导体结构与掩模。半导体结构形成于基底上，其包括第一区与第二区；第一区包围第二区；第一区具有第一图案密度；而第二区具有第二图案密度，其中第一图案密度小于第二图案密度；第二区包括中央区与边界区；中央区具有第一临界尺寸；边界区具有第二临界尺寸，其中第一临界尺寸与第二临界尺寸之间的变异量小于6.5％。
半导体结构

[发明专利]集成电路装置及用以使用于该集成电路装置中的方法-CN201310103561.X有效
发明人：施彦豪;陈士弘;叶腾豪;胡志玮;蔡丰年;林烙跃 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2013-03-28 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明公开了一种集成电路装置及用以形成层间连接件于三维叠层集成电路装置中的方法。该集成电路装置，包括一由多个介电/导电层形成的叠层，以形成多个层间连接件；层间连接件自装置的一表面延伸至导电层；多个接触开口建立而贯穿一介电层至一第一导电层；N个刻蚀掩模具有分隔的多个开放刻蚀区及位于他处的多个掩模区，2N-1小于W且2N大于或等于W；层所形成的叠层是以仅贯穿W-1个接触开口而建立多个延伸接触开口，延伸接触开口延伸至W-1个导电层；利用各刻蚀掩模来透过至少半数的接触开口而刻蚀2n-1个导电层，n＝1、2...N；接触开口是以刻蚀掩模的不同组合的开放刻蚀区来进行刻蚀；层间连接件形成于接触开口内。
集成电路装置用以使用中的方法

[实用新型]侧光式导光板-CN200720000633.8无效
发明人：陈雪茹;蔡丰年 -专利权人：瑞仪光电股份有限公司
申请日： 2007-01-09 - 公布日： 2008-03-12 - 主分类号： G02B6/00 文献下载
摘要：本实用新型是一种侧光式导光板，是一楔形的板体，其一侧厚度较大的一端为入光侧面，该板体顶面为出光面，其上并形成喷砂粗糙面状的散射图案面，该板体底面主要为凹凸列构成的导光图案面，该导光图案面邻近该入光侧面的区段设置喷砂粗糙面状的散射图案面，或可再于该导光图案面相对于入光侧面两侧设置喷砂粗糙面状的散射图案面，藉此，使侧向入射的光可经适当的反射及散射，而均匀地自出光面发出，改善既有的暗带现象，并喷砂手段形成的散射图案面，使该导光板的制造更为简便容易。
侧光式导光板

[外观设计]防晒指数仪-CN02335462.3无效
发明人： 蔡丰年 -专利权人：钲展有限公司
申请日： 2002-08-20 - 公布日： 2003-03-12 - 主分类号： 10-04 文献下载
摘要：
防晒指数

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