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[发明专利]多通道近距成像装置-CN202080010941.7有效
发明人： 蒂博·维埃耶 -专利权人：德皮克萨斯
申请日： 2020-01-24 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： G02B17/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于将对象的至少一部分进行光学成像的装置，该装置具有光轴并且包括第一微透镜的第一二维阵列，其具有旨在面向对象的第一侧和与第一侧相反的第二侧；第二微透镜的第二二维阵列，每个第一微透镜在平行于光轴的轴上与第二微透镜对准，其中每个第一微透镜包括第一反射系统，并且优选地包括第一反折射系统。
通道近距成像装置

[发明专利]多通道近距成像设备-CN202210922084.9在审
发明人： 蒂博·维埃耶 -专利权人：德皮克萨斯
申请日： 2019-05-31 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： G02B13/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种多通道成像设备，更具体地说，涉及这样一种多通道设备：其中每个光通道至少具有光学低通角度滤波器，所述低通角度滤波器被配置为阻挡沿着相对于光轴的角度大于预定角度θL的传播方向传播通过光通道的任何光，所述低通角度滤波器包括将具有第一折射率n1的第一材料和具有第二折射率n2的第二材料隔开的至少一个平面界面，第二折射率与第一折射率之比小于1，优选地小于0.66。
通道近距成像设备

[发明专利]多通道近距成像设备-CN201980050673.9有效
发明人： 蒂博·维埃耶 -专利权人：德皮克萨斯
申请日： 2019-05-31 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： G02B13/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种多通道成像设备，更具体地说，涉及这样一种多通道设备：其中每个光通道至少具有光学低通角度滤波器，所述低通角度滤波器被配置为阻挡沿着相对于光轴的角度大于预定角度θL的传播方向传播通过光通道的任何光，所述低通角度滤波器包括将具有第一折射率n1的第一材料和具有第二折射率n2的第二材料隔开的至少一个平面界面，第二折射率与第一折射率之比小于1，优选地小于0.66。
通道近距成像设备

[发明专利]用于测量对象的位置的光学装置-CN201611179066.7有效
发明人：文森特·克罗凯特;珍-弗朗索瓦·阿勒芒;蒂博·维埃耶 -专利权人：巴黎科学与文学联大-拉丁校区;国家科学研究中心;皮埃尔和玛利居里大学(巴黎第六大学);狄德罗-巴黎第七大学
申请日： 2016-12-19 - 公布日： 2019-08-20 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于测量对象(B)沿着第一轴(z)的位置的光学装置(1)，其包括：光学成像系统(5)，其包括用于收集被对象(B)散射的光辐射的物镜(53)；透射掩膜(8)，其至少具有第一小孔(81,83)和第二小孔(82,84)，分离布置(9)，其用于沿着垂直于第一轴和第二轴的第三轴(y)而在相反的方向上将来辐射的第一部分(R1)与辐射的第二部分(R2)分离；以及检测器(6)，其具有检测器平面(61)，检测器(6)适合于生成包括第一光斑(S1)和第二光斑(S2)的图像，其中，对象(B)沿着第一轴(z)相对于成像系统的对象平面的位置变化引起第一光斑(S1)和第二光斑(S2)沿着第二轴(x)相对于彼此的位置变化。
用于测量对象位置光学装置