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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]电致发光显示装置及其制造方法-CN03119379.X无效
  • 菱田光起 - 三洋电机株式会社
  • 2003-03-14 - 2003-10-01 - H05B33/12
  • 本发明提供一种电致发光显示装置及其制造方法，其课题是：铝阴极容易产生缺陷，而当水分从缺陷部浸入有机层时，则会产生画面无法显示的问题，因此阴极缺陷的装置全部会成为不良处理。本发明的特征为：在阴极上设置由高熔点金属形成的保护膜。若利用溅镀形成阴极则会对有机层产生物理性影响，故需要利用蒸镀形成，然而，阴极上的保护膜是通过阴极的缓冲器(buffer)的作用，故可利用溅镀形成。由此，可在不与外面空气接触的状态下，在阴极形成后连续形成保护膜，故即使阴极产生缺陷，亦可利用保护膜来覆盖，因此具有可减少黑点(darkspot)的优点。
  • 电致发光显示装置及其制造方法
  • [发明专利]电致发光显示装置-CN03105284.3有效
  • 菱田光起;西尾佳高;松木宽 - 三洋电机株式会社
  • 2003-02-26 - 2003-09-10 - H05B33/12
  • 铝的阴极容易因针孔或灰尘而产生缺陷，水分从缺陷部跑进有机层会出现画面无法显示的问题，以致阴极有缺陷的装置全部被视为不良品。本发明的电致发光显示装置是将阴极膜厚制成2000～10000，通过将膜厚加大来填补蒸镀制造过程中的灰尘或空穴输送层的伤痕，减少阴极的缺陷。而且只要将Al层的膜厚加大即可，因此具有不需增加特别材料或制造过程就可降低缺陷的有利点。
  • 电致发光显示装置
  • [发明专利]铟锡氧化膜的制造方法-CN02125163.0有效
  • 菱田光起 - 三洋电机株式会社
  • 2002-06-28 - 2003-02-05 - G02F1/1343
  • 本发明提供一种蚀刻率较高且为低电阻的高透光率的ITO膜。在常温及添加水份的环境下形成铟锡氧化物(ITO)膜，成膜后，进行约180℃以上及约1小时以上的热处理。添加水份环境设为使成膜室内的水份总分压约为8.2×10－3帕以下，而在后续的退火过程发挥膜质改善效果，并且，通过使成膜室内的水份总分压为3.20×10－3帕以上，则可形成非晶质性的ITO膜，而在成膜后可迅速进行蚀刻处理。成膜后(图案化后)的热处理优选以约180℃以上(例如约220℃)的温度进行约1小时以上(例如约1小时～约3小时)为条件，由此，膜片将被多晶化，得到低电阻且高透光率的ITO膜。
  • 氧化制造方法
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