专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]位移测量装置-CN202010883783.8有效
  • 三浦佑太;菅孝博 - 欧姆龙株式会社
  • 2017-12-15 - 2023-05-02 - G01B11/24
  • 本发明提供一种位移测量装置,用以让用户容易识别包括不具有电子电路的传感器头的位移测量装置的测量状态。位移测量装置(1)包括:传感器头(30),具有光学系统且不具有电子电路;控制器(100);第1光纤维,将来自光投射部(10)的照射光传递至传感器头(30);及第2光纤维,将来自传感器头(30)的反射光传递至控制器(100)。控制部(50)具有:第1模式,对传感器头(30)与反射位置之间的距离进行测量;及第2模式,通过光投射部(10)的光投射状态来表示传感器头(30)与反射位置之间的距离是否处于规定距离范围的中央部。
  • 位移测量装置
  • [发明专利]光学测量装置-CN201910999860.3有效
  • 森野久康;的场贤一;菅孝博 - 欧姆龙株式会社
  • 2017-01-17 - 2021-08-10 - G01B11/24
  • 本发明的一个方面的光学测量装置(1)包括:光源(10),其产生具有多个波长成分的照射光;传感器头部(30),其使从光源发出的照射光产生轴向色差,并接收从至少一部分配置在光轴的延长线上的测量对象(2)反射的反射光;光接收部(40),其将由传感器头部接收的反射光分离成各波长成分,并接收各波长成分的光;导光部(20),其将光源(10)、光接收部以及传感器头部光学性地连接;以及处理部(50),其基于光接收部中的各波长成分的受光量,计算从光学系统到测量对象的距离。处理部将光接收波形中的多个波长成分的各受光量与受光量的基准值比较,基于该比较结果,判断是否正常测定到所述测量对象的所述距离。
  • 光学测量装置
  • [发明专利]倾斜测定装置-CN201711045907.X有效
  • 杉山高介;蓬乡典大;菅孝博;泷政宏章;的场贤一 - 欧姆龙株式会社
  • 2017-10-31 - 2020-12-18 - G01B11/26
  • 提供便利性优越的倾斜测定装置。倾斜测定装置(1)具备:光学系列(传感器头30),其向测量对象物(2)照射来自光源(10)的照射光,并且接收来自测量面的反射光;受光部(40),其包含将所述反射光分离为各波长成分的至少1个分光器(42)及具有多个受光元件的检测器(44);包含多个缆芯的导光部(20);以及处理部(50),其根据与所述测量面上多个位置上的多个照射光相对应的反射光,来计算测量面的倾斜角度。
  • 倾斜测定装置
  • [发明专利]共焦测量装置-CN201711379400.8有效
  • 古川慎也;菅孝博;滝政宏章 - 欧姆龙株式会社
  • 2017-12-19 - 2020-06-02 - G01B11/02
  • 本发明提供一种便利性优异的共焦测量装置。共焦测量装置(1)包括:光源(10);光学系统(30),接收来自测量面的反射光;导光部(20),内置包含第1芯线(26)及第2芯线(28)的多根芯线,通过所述多根芯线来传播所述反射光;位移量测定部(40),具备分光器(42)及检测器(44),所述分光器(42)将经所述第1芯线传播的所述反射光分离为各波长成分,所述检测器(44)对应于所述分光器的分光方向而配置有多个受光元件;以及周边图像测定部(60),将经所述第2芯线传播的所述反射光成像于多个摄像元件上,生成所述测量面的测量位置的周边的图像。
  • 测量装置
  • [发明专利]光学计测装置-CN201711161577.0有效
  • 水谷浩希;菅孝博;滝政宏章 - 欧姆龙株式会社
  • 2017-11-20 - 2020-05-19 - G01B11/24
  • 本发明的光学计测装置不论计测对象物的表面形状如何,均可准确地计测出计测对象物的表面形状。处理部(70、70b)对于与各个芯材(241、242、…、24N)对应的各个反射光,根据反射光来算出光学系统(40)与计测对象物(80)的距离。对于各个反射光,将表示距离的值与阈值进行比较。当在与所有芯材(241、242、…、24N)对应的反射光中,表示距离的值为阈值以上、或表示距离的值小于阈值时,算出所有表示距离的值的平均值。当在与一部分芯材对应的反射光中,表示距离的值为阈值以上,而在与一部分芯材以外的芯材对应的反射光中,表示距离的值小于阈值时,算出阈值以上的表示距离的值的平均值、或小于阈值的表示距离的值的平均值。
  • 光学装置
  • [发明专利]光学测量装置-CN201710034921.3有效
  • 森野久康;的场贤一;菅孝博 - 欧姆龙株式会社
  • 2017-01-17 - 2019-11-08 - G01B11/24
  • 本发明的一个方面的光学测量装置(1)包括:光源(10),其产生具有多个波长成分的照射光;传感器头部(30),其使从光源(10)发出的照射光产生轴向色差,并接收从至少一部分配置在光轴的延长线上的测量对象(2)反射的反射光;光接收部(40),其将由传感器头部(30)接收的反射光分离成各波长成分,并接收各波长成分的光;导光部(20),其将光源(10)、光接收部(40)以及传感器头部(30)光学性地连接;以及处理部(50),其基于光接收部(40)中的各波长成分的受光量,计算从光学系统到测量对象的距离。处理部(50)将光接收波形中的多个波长成分的各受光量与受光量的基准值比较,当多个波长成分中的每个波长成分的所述受光量相对于基准值的变化量均为预设的阈值以上时,检测出所述光接收波形的异常。
  • 光学测量装置
  • [发明专利]共聚焦计测装置-CN201310226389.7有效
  • 松井优贵;藤原直树;菅孝博 - 欧姆龙株式会社
  • 2013-06-07 - 2017-07-18 - G01B11/02
  • 本发明提供一种能够达到高计测精度的共聚焦计测装置。共聚焦计测装置(101)具有光源(21),其出射多个波长的光;衍射透镜(1),其使来自光源(21)的光产生色像差;物镜(2),其将产生了色像差的光聚集到计测对象物(200);针孔(光纤(11)),其使聚焦的光通过;测定部(光谱仪(23)及摄像元件(24)),其针对不同的波长测定光的强度。衍射透镜(1)具有形成有用于产生色像差的衍射图案的衍射面(1a)和位于衍射面(1a)的相反一侧的平面(1b)。在衍射透镜(1)的平面(1b)配置有以衍射透镜(1)的光轴(X)为中心的圆形的遮光膜(4)。
  • 聚焦装置
  • [发明专利]位移测量方法以及位移测量装置-CN201380059806.1在审
  • 松井优贵;菅孝博;泷政宏章 - 欧姆龙株式会社
  • 2013-11-14 - 2015-07-22 - G01B11/00
  • 本发明提供一种作为位移测量装置的共焦点测量装置(100)。该共焦点测量装置(100)具有:白色LED(21),出射多个波长的光;头部(10),以衍射透镜(2)、物镜(3)、开口作为共焦点光学系统而构成;移动机构(40),使头部(10)沿着共焦点测量装置(100)的测量轴(Z轴)方向移动;测量部(控制器部(20))。共焦点测量装置(100)使头部(10)与测量对象物(200)之间的距离变化,来取得通过开口的光的光谱的极大点。共焦点测量装置(100)将该极大点成为分光反射特性的极大点或者极小点时的距离,设定为当测量位移时的头部(10)与测量对象物之间的基准距离。
  • 位移测量方法以及测量装置
  • [发明专利]照明装置-CN201110064729.1有效
  • 大庭仁志;西森直树;松井明;石川展玄;山下吉弘;菅孝博;杉山高介 - 欧姆龙株式会社
  • 2011-03-14 - 2011-11-23 - F21S8/00
  • 提供能够抑制成本而且能够制造出规格不同的多种照明装置的制造方法。基板(10)包括具有可挠性的共用部分(10A),及能够相对于共用部分(10A)弯曲的多个单元(14),共用部分(10A)在纸面的横向上延伸,该共用部分(10A)包括每隔预先规定的间隔而配置的垫片(12)。在本制造方法中,在第一方向上切断安装有发光元件的基板(10)从而制成基板片,根据应当制造的照明装置使基板片所包括的共用部分(10A)成型,对个别部分(10B)相对于成型后的共用部分(10A)的相对位置分别进行定位,并且形成用于对基板片所包括的垫片(12)供电的布线。
  • 照明装置
  • [发明专利]摩擦特性测定设备及适合用该设备测定的轮胎-CN200610110748.2无效
  • 小俣顺昭;菅孝博;浦部心一 - 欧姆龙株式会社
  • 2006-08-08 - 2007-02-14 - G01N29/11
  • 本发明提供了一种能够在橡胶等粘弹性体的实际使用状态中预测及测定摩擦特性的变化的设备。摩擦特性测定设备(100)由传感器部(2)将使测定对象发生振动的声波作为入射声波而发射,并用传感器部(2)接收声波由测定对象被反射而产生的反射声波。而后,运算处理部(1)基于由传感器部(2)接收的反射声波而导出测定对象的粘弹性特性中的损耗因数。进而,运算处理部(1)由所导出的损耗因数利用规定的换算常数计算出摩擦特性。另外,运算处理部(1)预先在不存在测定对象的状态下发射入射声波,并将其反射声波作为基准值而进行存储。
  • 摩擦特性测定设备适合轮胎
  • [实用新型]位移传感器-CN03203340.0无效
  • 宇野徹也;滝政宏章;菅孝博 - 欧姆龙株式会社
  • 2003-02-17 - 2004-06-30 - G01B21/06
  • 可几乎不受反射强度不匀影响而进行高精度快速位移测量的位移传感器,具备:投光单元(1)、具有遮光掩模(901a)和受光元件(902a)的受光单元(9)、将投光单元(1)射出的光束聚焦于被测物体(8)的第1聚光元件(3、5、7)、将反射光束聚焦于受光单元的第2聚光元件(3、5、7)、在被测物体一侧使投光光轴和受光光轴同轴的第1光路控制元件(2)及使从投光单元到被测物体的光程及从被测物体到受光单元的光程连续变化的光程扫描机构(6)。遮光掩模配置于从第2聚光元件到受光元件的光路中,在反射光束被第2聚光元件聚焦的位置因光程扫描机构而变化时,使遮住反射光束部分的比例改变。受光元件接收通过遮光掩模的光束,根据因光程扫描机构而变化的受光元件的输出信号,取得到被测物体距离的信息。
  • 位移传感器
  • [发明专利]位移传感器-CN03106006.4有效
  • 宇野徹也;滝政宏章;菅孝博 - 欧姆龙株式会社
  • 2003-02-17 - 2003-10-15 - G01B21/06
  • 能进行高精度位移测量、并能缩短测量时间的位移传感器,具备:投光单元(1)、具有遮光掩模(901a)和受光元件(902a)的受光单元(9)、将投光单元(1)射出的光束聚焦于被测物体(8)的第1聚光元件(3、5、7)、将反射光束聚焦于受光单元的第2聚光元件(7、5、3)、在被测物体一侧使投光光轴和受光光轴同轴的第1光路控制元件(2)、及使从投光单元到被测物体的光程及从被测物体到受光单元的光程连续变化的光程扫描机构(6)。遮光掩模配置于从第2聚光元件到受光元件的光路中,受光元件接收通过遮光掩模的光束,根据因光程扫描机构而变化的受光元件的输出信号,取得被测物体的距离信息。
  • 位移传感器

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