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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]图像形成装置和光学传感器-CN201910836690.7有效
发明人： 荒木隆一 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2019-09-05 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： G03G15/00 文献下载
摘要：本申请涉及图像形成装置和光学传感器。一种图像形成装置包括被配置为检测在中间转印带上形成的图像的光学传感器。该光学传感器包括在基板上的第一LED、第二LED、第一PD和第二PD。该第一PD被布置在这样的位置，在该位置可以接收到从第一LED发射的光的镜面反射光，并且可以接收到从第二LED发射的光的散射反射光。该第二PD被布置在这样的位置，在该位置可以接收到从第二LED发射的光的散射反射光。该第一PD的光接收面和该第二PD的光接收面以不同角度被形成。该第一PD的光接收面具有小于该第二PD的光接收面的面积的面积。
图像形成装置光学传感器

[发明专利]记录材料检测装置、图像形成设备和超声发射装置-CN202111528864.7在审
发明人：门出昌文;阿左见纯弥;熊田博光;荒木隆一;酒井真由美 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2021-12-14 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： G01N29/04 文献下载
摘要：本公开涉及记录材料检测装置、图像形成设备和超声发射装置。该记录材料检测装置包括：超声传感器，包括发射超声波的发射单元和接收超声波的接收单元，发射单元和接收单元跨传送路径彼此相对地布置，记录材料通过该传送路径被传送；指示单元，向发射单元供应第一驱动输入或比第一驱动输入大的第二驱动输入；和检测单元，基于第一值和第二值来检测关于记录材料的克重的信息，第一值是通过接收单元接收到从被供应第一驱动输入的发射单元发射且不通过记录介质的超声波而获得的，第二值是通过接收单元接收到从被供应第二驱动输入的发射单元发射且通过记录介质的超声波而获得的。
记录材料检测装置图像形成设备超声发射

[发明专利]图像形成装置-CN201710554180.1有效
发明人：白藤靖人;大村尚加;荒木隆一 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2017-07-10 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： G03G15/00 文献下载
摘要：本发明涉及图像形成装置。提供一种图像形成装置，该图像形成装置能够即使当其浓度特性改变时也能够以高精度检测颜色重合失调量。图像形成装置包括被配置为在预定的中间转印带上形成不同颜色的调色剂图像的多个图像形成单元和被配置为测量在中间转印带上形成的调色剂图像的浓度的浓度传感器。图像形成装置根据来自浓度传感器的通过多个图像形成单元形成的浓度校正图像的测量结果确定浓度目标。图像形成装置使多个图像形成单元形成位置检测图像，使得位置检测图像具有与浓度目标对应的浓度。
图像形成装置

[发明专利]CMP调节器、用于CMP调节器的硬质磨粒的排列方法以及CMP调节器的制造方法-CN01821022.8有效
发明人：木下俊哉;桥野英儿;佐藤节雄;荒木隆一 -专利权人：新日本制铁株式会社
申请日： 2001-12-20 - 公布日： 2004-03-17 - 主分类号： B24B53/12 文献下载
摘要：本发明揭示一种能够在抑制半导体基板表面的划痕的同时，得到稳定的CMP调节器特性的CMP调节器。第1形态的CMP调节器是通过具备支撑部件、及设置于前述支撑部件的面上的多个硬质磨粒，且前述多个硬质磨粒被规则地排列在前述支撑部件的面上而形成的。第二形态的CMP调节器是通过具备支撑部件、及设置于前述支撑部件的面上的多个硬质磨粒，且前述多个硬质磨粒被规则地、且以自前述支撑部件的内侧至外侧密度逐渐减小的方式被排列在前述支撑部件的面上而形成的。
cmp 调节器用于硬质排列方法以及制造

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