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[发明专利]直写光刻装置-CN200910145009.0无效
发明人：何少锋;靳莉 -专利权人： 芯硕半导体（中国）有限公司
申请日： 2009-09-18 - 公布日： 2010-02-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种直写光刻装置，包括有可编程的空间图形发生器，有投影光学系统，精密移动平台，精密移动平台上承载有光敏感衬底，所述的可编程的空间图形发生器由自发光的OLED构成，所述OLED由多个可进行单独控制开关的光源阵列构成，所述的OLED通过计算机控制，使各个微光源发光或不发光，进行调制，产生一定的空间光强的特征结构图，所述特征结构图通过投影光学系统被以一定精缩比例投影到光敏感衬底上。本发明直接使用可编程的空间图形发生器OLED，不需要另外曝光的照明光源和复杂的曝光照明系统的直写光刻装置，从而使得整机的体积缩小，结构紧凑，降低成本，减少系统装调难度和系统的维护成本。
光刻装置

[发明专利]基于DDS技术的步进电机运动控制器-CN200810020476.6无效
发明人：苟成全;黄福光 -专利权人： 芯硕半导体（中国）有限公司
申请日： 2008-03-05 - 公布日： 2008-11-05 - 主分类号： H02P21/00 文献下载
摘要：本发明是一种基于DDS技术的步进电机运动控制器，是在FPGA芯片中，建立微处理器接口和X、Y、轴的初始速度寄存器、驱动速度寄存器、加速度寄存器、减速度寄存器、加/减速度变化率寄存器、运行步长寄存器、正向软限位寄存器、负向软限位寄存器、命令字寄存器，以及X、Y、Z轴运动控制模块。运动控制模块分别控制X、Y、Z三轴的步进电机，它主要由DDS、状态机、逻辑位置寄存器、软限位模块、运行步长控制器、加速模块、减速模块、多路数据选择器等模块构成。本发明将直接数字频率合成(DDS)技术应用于运动控制器中，实现了三轴步进电机的T型调速和S型调速控制，可实现步进电机的匀速、加速、减速运行，运行速度、加速度及减速度可通过微处理器来设置。
基于 dds 技术步进电机运动控制器

[发明专利]整体式精密五轴调整装置-CN200810099368.2在审
发明人：方林;陈新宏 -专利权人： 芯硕半导体（中国）有限公司
申请日： 2008-05-06 - 公布日： 2008-10-22 - 主分类号： G02B7/00 文献下载
摘要：本发明涉及光学器件在空间的多自由度精密调整的整体式精密五轴调整装置。解决了现有五轴调整机构体积大的问题。本发明包括热沉，热沉通过主轴设于U形光源组合固定架内；U形光源组合固定架底部连接着主轴，其底部设有一对齿轮传动副；主轴中部螺纹配合连接着螺纹调节套，螺纹调节套处设有一对齿轮传动副，主轴下部连接着主基座；主基座为矩形座，其外侧套装有内框板和外框板。本装置可实现热沉相对外框板的三轴平移调整和两轴旋转调整。其设计合理，结构简单紧凑、工作稳定可靠。
整体精密调整装置

[发明专利]一种无掩膜光刻系统中曝光图形临近效应校正方法-CN200810023485.0无效
发明人：陈明勇 -专利权人： 芯硕半导体（中国）有限公司
申请日： 2008-04-08 - 公布日： 2008-09-10 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种无掩膜光刻系统中曝光图形临近效应校正方法，在使用空间光调制器件作为图形发生器的无掩模光刻系统中，入射光入射到空间光调制器件上，空间光调制器上产生设计图形，通过光学投影元件，以一定的放大倍率投影到光敏感元件的衬底上，产生曝光图形，并在曝光图形上产生线尾收缩和内角扩散现象，其特征在于：利用空间光调制器件的灰度调制能力，在空间光调制器上的设计图形外围或边沿加入灰度衬线，和/或将设计图形的局部或全部改变灰度，并通过优化算法进行成像模拟，最终获得较优的曝光图形，以减小因临近效应带来的曝光图形失真。
一种无掩膜光刻系统曝光图形临近效应校正方法

[发明专利]远距离旋转调节工具-CN200810023274.7无效
发明人：项宗齐;方林 -专利权人： 芯硕半导体（中国）有限公司
申请日： 2008-03-31 - 公布日： 2008-08-27 - 主分类号： B25B17/00 文献下载
摘要：本发明涉及应用于光学机电设备精密调整的远距离旋转调节工具。解决狭小空间零部件的远距离旋转调节问题。该工具包括条状齿轮箱和箱盖，齿轮箱长度方向一端为开口端，齿轮箱开口端设有手旋齿轮，另一端设有调节齿轮，手旋齿轮和调节齿轮之间设有两个以上的过渡齿轮；手旋齿轮、过渡齿轮和调节齿轮的模数相同、齿数相同，且依次啮合；与调节齿轮轮轴对应的箱盖上开设有调节孔，调节头通过调节孔连接调节齿轮。本发明工具通过齿轮传动，实现远距离旋转调节；满足精密光学机电设备狭小空间零部件的调节。该工具设计合理，结构紧凑，小巧美观，制造成本低，便与携带。
远距离旋转调节工具

[发明专利]一种三轴步进电机控制平台-CN200810018680.4无效
发明人：黄福光;苟成全 -专利权人： 芯硕半导体（中国）有限公司
申请日： 2008-03-10 - 公布日： 2008-08-20 - 主分类号： G05B19/414 文献下载
摘要：本发明公布的三轴步进电机控制平台，用于晶圆检测显微镜三轴的位置控制。包括有ARM处理器、现场可编程逻辑门阵列FPGA、步进电机驱动器、手柄控制模块和用于X、Y、Z轴步进电机位置反馈的光栅尺等，现场可编程逻辑门阵列FPGA内部建立有X、Y、Z轴运动参数寄存器、位置反馈寄存器及其它控制寄存器。ARM处理器通过通讯线路从控制计算机获取控制命令，将控制命令译码成为FPGA所需要的控制参数配置到FPGA中相应的控制寄存器中，FPGA检测控制寄存器中值的变化，并根据给定的值驱动各轴步进电机的运行。该步进电机控制平台运用ARM和FPGA的联合控制策略，克服了采用专用步进电机控制芯片的桎梏，给用户的二次开发带来了很大的扩展空间，同时也增强了控制的稳定性。
一种步进电机控制平台

[发明专利]具有超高强度LED光源的无掩膜直写光刻机-CN200810020788.7无效
发明人：张东涛 -专利权人： 芯硕半导体（中国）有限公司
申请日： 2008-02-27 - 公布日： 2008-07-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及在晶片、印刷电路板等衬底材料上印刷构图的具有超高强度LED光源的无掩膜直写光刻机。解决了单一的发光二极管发光量不能满足低倍率大视场面积无掩模光刻机照明要求的问题。该机光源包括两个以上的发光二极管；每一个发光二极管分别对应一个聚光透镜，其后部分别连接着耦合光纤，再连接着变芯光纤，变芯光纤对应着相干片。采用多粒发光二极管作为直写光刻机光源，多粒发光二极管同时发光，用多束导光光纤分别进行光能采集通过空间排列耦合，提高LED光强度。
具有超高强度 led 光源无掩膜直写光刻

[发明专利]光刻机曝光系统-CN200810020789.1无效
发明人：胡钰 -专利权人： 芯硕半导体（中国）有限公司
申请日： 2008-02-27 - 公布日： 2008-07-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及半导体制造领域，为一种光刻机曝光系统及其控制方法。它包括LED光源、曝光控制系统、上位机等，系统与上位机连接，上位机输出控制信号至空间图形发生器SLM，空间图形发生器SLM产生曝光图形，LED光源发出的光束经过光路组件A、空间图形发生器SLM、光路组件B、分束器、物镜后照射基片，光电探测器B检测分束器分出的光束信号并将输出送至曝光控制系统，曝光控制系统的输出送至驱动电路，驱动电路的输出送至LED光源以控制其输出光功率和曝光剂量。它克服了现有技术中曝光功率波动对曝光剂量的影响等问题，具有曝光剂量控制精度高、体积小、功耗低、无机械运动部件、反应迅速、寿命长、成本低等优点。
光刻曝光系统

[发明专利]一种采用灰度补偿制提高光刻曝光能量均匀性的方法-CN200810018928.7无效
发明人：陈明勇;张放心;王骥;汪飞燕 -专利权人： 芯硕半导体（中国）有限公司
申请日： 2008-01-29 - 公布日： 2008-07-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种采用灰度补偿制提高光刻曝光能量均匀性的方法，适用于使用空间光调制器件作为图形发生器的无掩模光刻机，使用空间光调制器件作为图形发生器的无掩模光刻机中利用空间光调制器的灰度调制能力，依据CCD采集得到光刻物镜像面光强分布信息，通过调制空间光调制器各像素单元的光输出，来改变光刻物镜像面的出射光场分布：由一定微小时间内积分测量出来的光强分布，或者在一定曝光时间内各个像面位置点所发出的光的能量分布，使之像面各位置曝光能量一致，它有效的降低了传统光刻机照明系统的设计、装调难度，能够轻易达到优异的曝光能量均匀性。
一种采用灰度补偿提高光刻曝光能量均匀方法

[发明专利]程控缓启动高稳定大电流驱动装置-CN200810018927.2无效
发明人：操文祥 -专利权人： 芯硕半导体（中国）有限公司
申请日： 2008-01-29 - 公布日： 2008-07-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种程控缓启动高稳定大电流驱动装置，它通过微处理器控制高精度数模转换器输出电压，控制负载的输出电流；通过MOS管控制电流调节电路，使得输出电流大效率高；同时增加了缓启动电路使得负载输出电流缓慢增加不发生突变；驱动装置在负载中加高精密采样电阻测算负载的电流波动，同时将输出电流的控制电压和采用电阻上电压经电压放大接比较电路输入两端，构成闭环负反馈技术，使得输出电流稳定可靠。本发明电路简单，输出的驱动电流可达2A以上，连续程控可调，同时该装置外接不同负载时，输出电流稳定可靠同时电压冲击小，可广泛用于恒流控制和大功率LED照明领域。
程控启动稳定电流驱动装置

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