专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]在基材表面形成抗污涂层的方法及其产品-CN200610090228.X有效
  • 向承刚;汪奇林;肖绍展 - 霍镰泉
  • 2006-07-07 - 2006-12-27 - C04B41/61
  • 一种在基材表面形成基于二氧化硅的抗污涂层的方法,其特征在于利用纳米二氧化硅的水化成膜特性制成所述涂层,包括以下步骤:用树脂与纳米二氧化硅和另外的粉末状添加物质配制的填充剂浆液,充塞、修补、抹平粗糙的基材表面;对所述表面加热促使填充剂浆硬化;用具有既疏水又疏油特性的物质的溶液、溶胶或乳液进行浸渍处理;对所得填充剂层进行磨抛加工,从而在所述的表面上形成一种透明的基于二氧化硅的抗污涂层;需要时,可以对所述的抗污涂层表面用具有既疏水又疏油特性的物质的溶液、溶胶或乳液再次或多次进行抛光处理。
  • 基材表面形成涂层方法及其产品
  • [发明专利]抛光瓷砖表面二氧化硅抗污涂层的溶胶-凝胶制备法-CN200610003420.0无效
  • 肖绍展;向承刚 - 霍镰泉
  • 2006-02-06 - 2006-08-02 - C04B41/85
  • 本发明公开了一种抛光瓷砖表面二氧化硅抗污涂层的溶胶-凝胶制备法:准备好一种基于硅溶胶的复方硅溶胶液体;将所述的复方硅溶胶液体一边施布到待加工的、先已完成表面抛光的瓷质抛光砖表面上,一边又同时迫使已施布到所述瓷砖表面上的此种复方硅溶胶液体在磨头压力之下经历来自运动中磨头的磨抛处理;并在这样的磨抛-碾压展薄-摩擦升温受热过程中,使得所述的复方硅溶胶液体在游离水蒸发的同时,进而产生与硅酸脱水机理一致的溶胶-凝胶物理化学变化而硬化,从而在所述的瓷质抛光砖表面上形成一种结合牢固、透明、坚硬、高光泽度的基于二氧化硅的复方防污薄膜。同时进行施布、磨抛,即施布的同时进行磨抛;施布、磨抛循环多次。
  • 抛光瓷砖表面二氧化硅涂层溶胶凝胶制备

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