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[发明专利]用于制造光掩模的系统、方法和程序产品-CN202180047279.7在审
发明人： M·拉马丹;M·格林;Y·汉姆;克里斯托弗·J·普洛格勒 -专利权人： 美商福昌公司
申请日： 2021-04-30 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：用于从所获得的与在晶片上显示缺陷的光掩模相关的图案信息构建光掩模的方法和系统。对图案信息进行空间域分析，使得可以生成校正光掩模结构并可以将其应用于光掩模布局。使用校正光掩模结构来构建光掩模。验证了光掩模的有效性。
用于制造光掩模系统方法程序产品

[发明专利]用于平板显示器光掩模的防护膜-CN201980072452.1在审
发明人：布赖恩·S·卡斯普罗维奇;克里斯托弗·普拉葛 -专利权人： 美商福昌公司
申请日： 2019-09-12 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： G03F1/24 文献下载
摘要：一种用于大型光掩模的防护膜组件，包括：框架构件，其被构造成被固定至大型光掩模基板；基本上刚性且透明的防护膜，其被固定至所述框架构件，以保护至少一部分所述大型光掩模基板在使用、存储和/或运输过程中免受污染；以及涂层，其设置在所述防护膜的顶表面和底表面的至少一者上，其结合所述防护膜的所述顶表面和所述底表面的至少一者，以防止在破裂的情况下所述防护膜材料的分离。
用于平板显示器光掩模防护

[发明专利]使用可用于产生光掩模定单的逻辑操作实体自动产生加工规范的系统和方法-CN200580047015.2无效
发明人：查尔斯·E.·克罗克;克里斯托弗·J.·普洛格勒;韩合诚;尤舒;周克勇;朱宏金 -专利权人： 美商福昌公司
申请日： 2005-05-12 - 公布日： 2009-05-27 - 主分类号： G06F19/00 文献下载
摘要：一种使用加工规范生成系统生成用来制造光掩模的光掩模定单的方法，包括通过创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分生成加工规范。逻辑操作所需的信息可由外部源例如数据库输入，和/或可从查找表中选择。构成逻辑操作中的表达式的操作符的别名可根据光掩模用户的需要修改。加工规范的格式可由光掩模制造者的计算机系统进行验证。按各种专有的和工业标准格式的加工规范被发送给光掩模制造者的计算机系统以对其进行分析，并且可使用加工规范模拟光掩模设计。在收到分析结果之后，光掩模用户的计算机系统根据加工规范生成光掩模定单。然后把光掩模定单发送给光掩模制造者的计算机系统用于制造光掩模。这种加工规范生成系统可以是独立的系统，或者和光掩模订单生成系统集成在一起。
使用用于生光定单逻辑操作实体自动产生加工规范系统方法

[发明专利]利用脚本剖析工具自动生成和/或处理光掩模订单的系统和方法-CN200580051043.1无效
发明人：丹尼尔·J.·卡哈兰;查尔斯·E.·克罗克;爱德华·J.·萨蒂尔 -专利权人： 美商福昌公司
申请日： 2005-05-31 - 公布日： 2008-07-16 - 主分类号： G06Q30/00 文献下载
摘要：一种生成光掩模订单(255)的方法，包括：生成通用信息用户界面(210)，其提示用户输入关于发出该订单的客户的通用数据(217)；以及生成特定订单用户界面(220)，其提示该用户基于该通用数据(217)和/或先前输入的确定数据(222)来输入完成该光掩模订单(255)所需的确定数据(222)。基于属性文件(222)访问命令脚本文件(237)，其中该属性文件(222)是基于该确定数据(222)生成的。利用命令脚本文件(237)生成光掩模订单(255)。另一实施例利用通用信息(217)和特定信息(222)输入界面来收集关于新的或潜在的光掩模客户的信息，从而为光掩模订单(255)处理系统生成配置文件(237)。另一实施例生成关于该光掩模制造过程的消息。
利用脚本剖析工具自动生成处理光掩模订单系统方法

[发明专利]用来自动产生和处理光掩模定单的综合前端方法和系统-CN200580026719.1无效
发明人：爱德华·J.·苏蒂勒;克里斯托弗·J.·普洛格勒 -专利权人： 美商福昌公司
申请日： 2005-05-31 - 公布日： 2007-08-22 - 主分类号： G05B11/01 文献下载
摘要：本发明涉及一种用来自动地产生和处理光掩模定单的综合前端方法和系统。这种方法和系统包括两个分离的但相关联的软件部分。本发明的第一软件部分用来以规定格式产生光掩模定单。本发明的第二软件部分把光掩模定单(它使用第一软件部分而产生)的至少一部分处理成基本上准备写作业组文件和/或基本上准备写检查文件，该文件又传送到远程光掩模制造商的系统，以制造光掩模。这些软件部分可安装成在计算机系统上的分离的程序，或者作为完成多种功能的单个软件包而操作。
用来自动产生处理光掩模定单综合前端方法系统

[发明专利]用来自动产生光掩模定单的基于规则的系统和方法-CN200580026720.4无效
发明人：查尔斯·E.·克罗克;爱德华·J.·苏蒂勒;丹尼尔·J.·查哈雷恩;尼克·莱德格维 -专利权人： 美商福昌公司
申请日： 2005-05-16 - 公布日： 2007-08-22 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：一种用来以规定格式产生光掩模定单的系统，包括用于光掩模定单数据的输入和存储的至少一个模板或定单，其中所述至少一个模板或定单基于规定光掩模定单格式的要求而创建。所述系统包括与至少一个模板或定单相对应的至少一组规则，其中规则组包括指令，该指令保证用户按照规定定单格式所要求的把完整信息输入到至少一个模板或定单中。模板或定单还可以包括可分离存储的部分和/或子部分。在定单、模板、部分、子部分、等等中的数据字段可以参考技术要求等级，该技术要求等级又容易被修改以同时更新一个或多个定单、模板、部分、子部分、等等。图形用户界面可以与至少一个模板或定单相关联，其中用户可访问至少一个模板或定单，以输入光掩模定单数据并以规定格式创建定单。在至少一个实施例中，至少一个模板或定单通过参考技术要求等级而更新。可选择地，命令行发生器可以用来允许用户输入命令，以产生和/或修改模板和定单。在一个实施例中，预存在数据或信息可以以电子信息的形式输入，并且转换成在定单、模板、部分、子部分、等等中的数字字段。数据处理装置也可以用来把电子信息从外部介质输入到至少一个模板或定单中。
用来动产生光定单基于规则系统方法

[发明专利]有可调透光率的嵌入式衰减相移掩模-CN200580013045.1无效
发明人：肖广明 -专利权人： 美商福昌公司
申请日： 2005-03-17 - 公布日： 2007-07-25 - 主分类号： G01F9/00 文献下载
摘要：可以独立地选取嵌入式衰减相移掩模(EAPSM)的衰减和相移性质。在挖去嵌入式相移层的区域时或之后，基片的曝光区被蚀刻到预定的深度。然后，嵌入式相移层的附加区域被曝光并修整到预定的厚度，用于提供所需的衰减量，其中基片的最终蚀刻深度可以补偿修整相移层造成的相对相移变化。于是，在单个EAPSM坯体上可以制作有多个单元的矩阵测试装置，该多个单元有不同的衰减度和/或相移量。
可调透光率嵌入式衰减相移

[发明专利]二进制半色调光掩模和微型三维装置及其制作方法-CN200480001226.8无效
发明人：克里斯托弗·J.·普洛格勒;彼德·莱因斯 -专利权人： 美商福昌公司
申请日： 2004-01-22 - 公布日： 2005-12-07 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明一般涉及改进的二进制半色调(“BHT”)光掩模，和由该种BHT光掩模制作的微型三维结构(如MEM、微光学、光子学、微结构、和其他三维微型装置)。更具体说，本发明提供一种方法，用于设计BHT光掩模布局、把该布局转印到BHT光掩模上、和用本发明方法设计的BHT光掩模制作三维微型结构。就此而言，设计BHT光掩模布局的方法，包括的步骤有：产生至少两个像素；把每一像素分为沿第一轴有可变长度而沿第二轴有固定长度的子像素；和排列这些像素，使通过这些像素的透射光形成图形，以便形成连续色调的、空间的像。这些子像素的面积，应小于计划与所述二进制半色调光掩模一起使用的曝光设备光学系统的最小分辨率。通过使用本方法，能够设计有连续灰度级的BHT光掩模，使在各灰度级之间的光强的变化，既是限定的也是线性的。结果是，当用该种BHT光掩模来制造三维微型结构时，能够在被制作的物体上产生更平滑又更线性的轮廓。
二进制色调光掩模微型三维装置及其制作方法

[发明专利]有中间检查薄膜层的改进的光学掩模-CN03820165.8无效
发明人：马修·拉斯特;迈克尔·坎格米 -专利权人： 美商福昌公司
申请日： 2003-07-08 - 公布日： 2005-10-05 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明一般涉及改进的光刻中使用的光学掩模，用于制作集成电路及其他半导体装置，更准确地说，是涉及检测这种光学掩模中在处理后的缺陷。具体说，本发明针对一种在其内淀积一层或多层中间层的空白光学掩模，中间层的材料，由在检查设备波长上比在曝光设备波长上有更高消光系数的材料构成。中间层材料要能吸收足够量的光，以满足检查设备的光学要求，同时透过足够量的光，以满足曝光设备的光学要求。结果是，该光学掩模改进了光学掩模的检查结果，又不牺牲半导体写入过程中的透射性质。
中间检查薄膜改进光学

[发明专利]熔融二氧化硅薄膜-CN02803973.4无效
发明人：本·安诺 -专利权人： 美商福昌公司
申请日： 2002-01-18 - 公布日： 2004-04-07 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种用在光掩模上的熔融二氧化硅薄膜，其具有较高的耐用性和改进的透射均匀性和双折射性质。该薄膜可以利用一种粘合剂或导轨系统被固定至光掩模，或利用静电荷保持在该处。
熔融二氧化硅薄膜

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