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[发明专利]图案反射光学结构-CN200810172072.9无效
发明人： 罗杰·W.·菲利浦;弗拉基米尔·P.·洛夏 -专利权人： JDS尤尼弗思公司
申请日： 2004-09-16 - 公布日： 2009-07-01 - 主分类号： G02B5/32 文献下载
摘要：一种包含光透射基片的光学结构，其中，将表面浮雕图案施加到所述光透射基片上，如全息图。反射材料图案层被应用在表面浮雕图案部分上，以形成文字数字符号、条形码或图解或绘画图案。为使表面浮雕图案的暴露部分产生期望的光学效果，在反射材料图案层和表面浮雕图案暴露部分上使用了光学活性涂层。在一些具体结构中，光学活性涂层为变色薄膜或包含变色片。任选地，光学活性涂层材料的折射率可与光透射基片的折射率显著匹配，以使未被反射材料覆盖的表面浮雕图案区部分不显示表面浮雕图案的光学效果。
图案反射光学结构

[发明专利]图案反射光学结构-CN200480025803.7有效
发明人： 罗杰·W.·菲利浦;弗拉基米尔·P.·洛夏 -专利权人： JDS尤尼弗思公司
申请日： 2004-09-16 - 公布日： 2006-10-18 - 主分类号： G03H1/04 文献下载
摘要：一种包含光透射基片的光学结构，其中，将表面浮雕图案施加到所述光透射基片上，如全息图。反射材料图案层被应用在表面浮雕图案部分上，以形成文字数字符号、条形码或图解或绘画图案。为使表面浮雕图案的暴露部分产生期望的光学效果，在反射材料图案层和表面浮雕图案暴露部分上使用了光学活性涂层。在一些具体结构中，光学活性涂层为变色薄膜或包含变色片。任选地，光学活性涂层材料的折射率可与光透射基片的折射率显著匹配，以使未被反射材料覆盖的表面浮雕图案区部分不显示表面浮雕图案的光学效果。
图案反射光学结构