专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]层间键合的A-MXene纳米片、薄膜及其制备方法-CN202211516434.8在审
  • 杨树斌;程宗举 - 北京航空航天大学
  • 2022-11-29 - 2023-04-21 - C01B35/06
  • 本发明公开了一种层间键合的A‑MXene纳米片、薄膜及其制备方法,其中该A‑MXene纳米片的MXene片层之间存在M‑A‑M的键合点或键合段,所述A选自VIIB、VIII、IB、IIB、IIIA、IVA、VA或VIA族元素中的至少一种,所述M代表MXene片层中的过渡金属元素;步骤包括:将初始MXene材料与A的单质或A的化合物在预定温度下反应预定时间,得到具有手风琴形貌的产物,所述初始MXene材料为含有‑Cl、‑Br或‑I官能团的MXene材料;将所述具有手风琴形貌的产物剥离。本发明针对含‑Cl官能团的MXene材料电阻较高的技术问题,提供了一种新的改性路径。
  • 层间键合mxene纳米薄膜及其制备方法
  • [发明专利]电磁屏蔽材料、薄膜及其制备方法-CN202211516447.5在审
  • 杨树斌;程宗举 - 北京航空航天大学
  • 2022-11-29 - 2023-04-21 - C01B32/90
  • 本发明公开了一种电磁屏蔽材料、薄膜及其制备方法,所述电磁屏蔽材料包括有A‑MXene材料,所述A‑MXene材料的MXene片层之间存在M‑A‑M的键合点或键合段,所述A选自VIIB、VIII、IB、IIB、IIIA、IVA、VA或VIA族元素中的至少一种,所述M代表MXene片层中的过渡金属元素;所述电磁屏蔽材料的制备方法包括:将初始MXene材料与A的单质或化合物在预定温度下反应预定时间;所述初始MXene材料为含有‑Cl、‑Br或‑I官能团的MXene材料。本发明针对含‑Cl官能团的MXene材料应用于电磁屏蔽领域电阻较高的技术问题,在MXene片层之间增加A原子的层间键合点或键合段,得到一种新型电磁屏蔽材料,该电磁屏蔽材料兼具优异稳定性和低薄层电阻特性。
  • 电磁屏蔽材料薄膜及其制备方法
  • [发明专利]由MXene转化制备MAX相材料的方法及用途-CN202110557381.3在审
  • 杨树斌;程宗举 - 北京航空航天大学
  • 2021-05-21 - 2022-11-22 - C01B32/90
  • 本发明公开了一种MXene转化制备MAX相材料的方法,采用MXene材料和A单质或含A化合物反应制备得到,本发明发现通过MXene材料与A单质或含A化合物能够反向发生合成反应,制备得到具有片状或手风琴状形貌的新型MAX相材料,其中,具有手风琴状形貌的MAX相材料通过进一步的剥离处理,能够得到片状的新型MAX相材料,本发明的方法制备得到的MAX相材料具备厚度可调性,制备流程简单,反应条件温和,合成样品纯度高、产率高、可重复性好,适合大规模生产,有望在航空航天、核工业、能源工业、特别是防护涂层等领域得到广泛应用。
  • mxene转化制备max材料方法用途

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