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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]光产路易斯酸剂-CN201780075586.X在审
发明人：田中智章;石田知史;西田俊文 -专利权人：株式会社日本触媒
申请日： 2017-12-01 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： C07F5/02 文献下载
摘要：提供与以往的光产酸剂不同、通过光而可以产生路易斯酸的化合物。化合物由以硼作为中心原子的阴离子部、和特定的阳离子部(例如HOMO‑LUMO之间的能隙为5.3eV以下的阳离子)构成。阳离子部例如可以具有选自N‑取代吡啶鎓骨架、N‑取代双吡啶鎓骨架、N‑取代喹啉鎓和吡喃鎓骨架中的骨架。
路易斯酸阳离子部光产酸剂取代吡啶中心原子阳离子阴离子吡啶鎓吡喃鎓喹啉鎓能隙

[发明专利]离子性化合物的制备方法-CN201410535623.9无效
发明人：萩原祐二;越智刚敬;大畠和信;笠原泰祐;鸟羽健人;水田圭一郎;胜山裕大;石田知史;西田俊文 -专利权人：株式会社日本触媒
申请日： 2009-08-21 - 公布日： 2015-03-04 - 主分类号： C07F5/02 文献下载
摘要：本发明提供了与以往的方法相比，能够在稳定的条件下、收率良好地或者更廉价地制备含有四氰基硼酸盐的离子性化合物的制备方法。本发明的制备方法，为通过使含有氰化物、和硼化合物的起始原料反应，以制备用下述通式(I)表示的离子性化合物的方法，其中，通式(I)中，Ktm+表示有机或者无机阳离子，m表示1-3的整数。
离子化合物制备方法

[发明专利]离子性化合物及其制备方法以及使用了该离子性化合物的离子传导性材料-CN200980132280.9无效
发明人：萩原祐二;越智刚敬;大畠和信;笠原泰祐;鸟羽健人;水田圭一郎;胜山裕大;石田知史;西田俊文 -专利权人：株式会社日本触媒
申请日： 2009-08-21 - 公布日： 2011-07-13 - 主分类号： C07F5/02 文献下载
摘要：本发明提供了与以往的方法相比，能够在稳定的条件下、收率良好地或者更廉价地制备含有四氰基硼酸盐的离子性化合物的制备方法；以及杂质含量降低的含有四氰基硼酸盐的离子性化合物。本发明的离子性化合物，相对于100mol％的用下述通式(I)表示的离子性化合物，含有氟原子的杂质的含量是3mol％以下；所谓的本发明的制备方法，为通过使含有氰化物、和硼化合物的起始原料反应，以制备用下述通式(I)表示的离子性化合物的方法。(通式(I)中，Kt^m+表示有机或者无机阳离子，m表示1-3的整数)。
离子化合物及其制备方法以及使用传导性材料

[发明专利]光学膜及具有该光学膜的图像显示装置-CN200880123206.6有效
发明人：宫井孝;塩谷佳之;浅野英雄;丹羽宏和;平间进;石田知史;高岩圣悟 -专利权人：株式会社日本触媒
申请日： 2008-12-26 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明提供一种至少在可见光领域中显示出波长越短则双折射越小的波长分散性(逆波长分散性)的新颖的光学膜。本发明的光学膜具有由树脂(A)构成的层，所述树脂(A)具有下述式(1)、式(2)或式(3)所示的分子结构或者杂芳基，该光学膜至少在可见光领域中显示出波长越短则双折射越小的波长分散性。其中，式(1)中的n为1～4范围的自然数，R¹及R²相互独立地为氢原子或甲基。
光学具有图像显示装置

[发明专利]硼酸盐和近红外线吸收材料-CN200680003060.2无效
发明人：伊藤彰男;石田知史;饭田俊哉;石井尊子;小林信弘 -专利权人：株式会社日本触媒
申请日： 2006-01-30 - 公布日： 2008-01-16 - 主分类号： C07F5/02 文献下载
摘要：提供一种用于近红外线吸收材料的硼酸盐，其具有由式(1)：[BR¹_mR²_4－m]^－表示的阴离子(其中R¹表示具有吸电子基团的芳基；R²表示有机基团、卤素基团或羟基；m为1至4的整数)。本发明的硼酸盐能够提高近红外线吸收染料的耐久性，特别是耐热性和耐湿性。
硼酸盐红外线吸收材料

[发明专利]含氟化合物-CN200510075827.X有效
发明人：西地爱;浅子佳延;表和志;佐藤信平;饭田俊哉;石田知史 -专利权人：株式会社日本触媒
申请日： 2005-05-27 - 公布日： 2005-12-07 - 主分类号： C07C255/54 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种含氟化合物，其无损于透明树脂所具有的透明性等种种特性，且可用于降低透明树脂材料吸水率而使其具有防水性的添加剂；以及提供耐热性、低吸水性等特性出色且适合用于电子信息材料、精密机械材料、光材料等各种各样领域的含氟酯化合物、含氟芳基酸酯聚合物、其制造方法。本发明涉及下述通式(1)表示的含氟化合物，式(1)中，X表示O或S；Rf是碳原子数大于或等于4的含氟烷基；r是结合在芳香环上的Rf－X－的数量，并且是大于或等于1的整数；S是结合在芳香环上的氟原子的数量，并且是大于或等于1的整数；另外，r+s是2～5的整数。
氟化

[发明专利]透明树脂材料-CN200510075826.5无效
发明人：西地爱;浅子佳延;表和志;佐藤信平;饭田俊哉;石田知史 -专利权人：株式会社日本触媒
申请日： 2005-05-27 - 公布日： 2005-11-30 - 主分类号： C08G65/40 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种在不损害透明树脂具有的透明性等各种特性的条件下降低吸水率、并且可以控制折射率的透明树脂材料等。本发明涉及一种透明树脂材料，其含有形成具有透明性的成型物的聚合物，其特征在于，该透明树脂材料以具有氟原子的聚合物和/或化合物作为必要成分，在成型物100质量％中，氟原子的含量比例为0.3质量％～35质量％。
透明树脂材料

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