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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]近红外线吸收玻璃及其制造方法-CN201480018208.4有效
发明人：山崎武志;石田克则 -专利权人：豪雅冠得股份有限公司;青岛豪雅光电子有限公司
申请日： 2014-03-31 - 公布日： 2018-08-10 - 主分类号： H01L27/14 文献下载
摘要：本发明提供一种近红外线吸收玻璃及其制造方法。所述近红外线吸收玻璃为一种具备朝向固体摄像元件的光射入的入射面和使光透过并向固体摄像元件射出的出射面，且吸收光的近红外成分的板状的玻璃，其具备：光透过部，其可使光线透过；光散射部，其在入射面以及出射面的至少一个面上，框状包围光线透过部的外周，并使光的一部分散射。
红外线吸收玻璃及其制造方法

[实用新型]防反射色差补正成膜滤光片-CN201020102725.9有效
发明人： 石田克则;山崎武志;中山恭司 -专利权人：青岛豪雅光电子有限公司
申请日： 2010-01-28 - 公布日： 2010-09-15 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本实用新型公开一种防反射色差补正成膜滤光片，在玻璃基片的某一侧面或两侧面设置有成膜，特征是所述成膜由第一膜层至第五膜层依次制备形成，第一膜层作为最下层，第五膜层作为最上层，第一膜层的厚度为18nm，第二膜层的厚度为93nm，第三膜层的厚度为125nm，第四膜层的厚度为21nm，第五膜层的厚度为73nm。其中第一膜层为氟化镁膜层，第二膜层为氧化铝膜层，第三膜层为氧化镧与氧化钛复合膜层，第四膜层为二氧化硅膜层，第五膜层为氟化镁膜层。本实用新型采取上述成膜方式，经验证波长在420～680nm范围内，反射率能够达到0.8％以下，能够更为有效地抑制光亮衰减。
反射色差补正滤光

[实用新型]红外线截止滤光片-CN201020102954.0有效
发明人： 石田克则;中山恭司 -专利权人：青岛豪雅光电子有限公司
申请日： 2010-01-28 - 公布日： 2010-09-15 - 主分类号： G02B1/10 文献下载
摘要：本实用新型公开一种红外线截止滤光片，在玻璃基片的某一侧面或两侧面制备第一膜层，在第一膜层上制备第二膜层；第二膜层为交互层，第二膜层的厚度为2300～4100nm。第一膜层为氟化镁膜层，交互层由氧化钛膜层与二氧化硅膜层交替制备形成，其中，交互层的最外侧为二氧化硅膜层，氧化钛膜层与二氧化硅膜层两者的层数合计为23～39层。本实用新型采取上述成膜方式，经验证采取折射率在1.49～1.54范围内的光学玻璃基片，红外线领域的透过率小于1％，能够更为有效地截止红外线领域的信息摄入。
红外线截止滤光

[实用新型]一种防反射色差补正成膜滤光片-CN201020102757.9有效
发明人： 石田克则;中山恭司 -专利权人：青岛豪雅光电子有限公司
申请日： 2010-01-28 - 公布日： 2010-09-08 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本实用新型公开一种防反射色差补正成膜滤光片，包括玻璃基片，在玻璃基片的某一侧面或两侧面设置有成膜，特征是所述成膜由第一膜层至第五膜层依次制备形成，第一膜层作为最下层，第五膜层作为最上层，第一膜层的厚度为20nm，第二膜层的厚度为16nm，第三膜层的厚度为32nm，第四膜层的厚度为110nm，第五膜层的厚度为84nm。其中第一膜层为氟化镁膜层，第二膜层为氧化钛膜层，第三膜层为二氧化硅膜层，第四膜层为氧化钛膜层，第五膜层为二氧化硅膜层。本实用新型采取上述成膜方式，经验证波长在430～650nm范围内，反射率能够达到0.8％以下，能够更为有效地抑制光亮衰减。
一种反射色差补正滤光

[实用新型]滤光片-CN201020102953.6有效
发明人： 石田克则;中山恭司 -专利权人：青岛豪雅光电子有限公司
申请日： 2010-01-28 - 公布日： 2010-09-08 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本实用新型公开一种滤光片，在玻璃基片的某一侧面或两侧面制备第一膜层，在第一膜层上制备第二膜层；第二膜层为交互层，第二膜层的厚度为4300～4900nm。第一膜层为氟化镁膜层；所述交互层由氧化钛膜层与二氧化硅膜层交替制备形成，其中，交互层的最外侧为二氧化硅膜层；上述第二膜层中，氧化钛膜层与二氧化硅膜层两者的层数合计为41～49层。本实用新型采取上述成膜方式，经验证采取折射率在1.49～1.54范围内的光学玻璃基片，紫外线领域或红外线领域的透过率均小于1％，能够更为有效地截止紫外线领域或红外线领域的信息摄入。
滤光

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