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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]研磨用组合物-CN201780007120.6有效
发明人： 石桥智明 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2017-03-22 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：提供一种用于对具有1500Hv以上的维氏硬度的研磨对象材料进行研磨的研磨用组合物。该研磨用组合物包含氧化铝磨粒和水。氧化铝磨粒的等电点低于8.0、且低于研磨用组合物的pH。
研磨组合

[发明专利]研磨材料和研磨用组合物-CN201280006373.9有效
发明人：森永均;山田英一;玉井一诚;石桥智明;大津平;石原直幸;高桥洋平 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2012-01-19 - 公布日： 2017-08-08 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：提供一种含有研磨材料和水的研磨用组合物。研磨用组合物中的研磨材料的含量为0.1质量%以上。研磨材料含有氧化锆颗粒。氧化锆颗粒具有1～15m2/g的比表面积。氧化锆颗粒优选具有99质量%以上的纯度。研磨用组合物可用于例如研磨蓝宝石、氮化硅、碳化硅、氧化硅、玻璃、氮化镓、砷化镓、砷化铟、磷化铟等硬脆材料的用途。
研磨材料组合

[发明专利]研磨用组合物-CN200610103020.7无效
发明人： 石桥智明;杉山博保;大脇寿树 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2003-05-30 - 公布日： 2007-08-08 - 主分类号： C08J5/14 文献下载
摘要：本发明提供一种能够防止磁盘基片表面的外周部分被过度研磨的研磨用组合物。依照本发明的第一研磨用组合物包括由上面的通式表示的化合物，字母X表示聚醚多元醇的残基，字母m表示与一个聚醚多元醇分子中的羟基数相等的数字，字母Y表示二价烃基，字母Z表示具有活性氢原子的单价化合物的残基，字母n表示等于或者大于3的整数。依照本发明的第二研磨用组合物包括具有衍生自异戊二烯磺酸或其盐的单体单元的聚合物。
研磨组合

[发明专利]抛光组合物-CN200410043511.8无效
发明人： 石桥智明;大胁寿树 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2004-05-09 - 公布日： 2004-12-01 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种适合用于抛光磁盘基片的抛光组合物。该抛光组合物包括研磨剂，它至少含选自以下组分中的一种：氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、碳化硅、氮化硅；抛光促进剂，它至少含选自以下组分中的一种：羧乙基硫代琥珀酸、羧乙基硫代琥珀酸盐以及水。
抛光组合

[发明专利]研磨用组合物-CN03140710.2无效
发明人： 石桥智明;杉山博保;大脇寿树 -专利权人：不二见株式会社
申请日： 2003-05-30 - 公布日： 2003-12-17 - 主分类号： C08J5/14 文献下载
摘要：本发明提供一种能够防止磁盘基片表面的外周部分被过度研磨的研磨用组合物。依照本发明的第一研磨用组合物包括由上面的通式表示的化合物：字母X表示聚醚多元醇的残基，字母m表示与一个聚醚多元醇分子中的羟基数相等的数字，字母Y表示二价烃基，字母Z表示具有活性氢原子的单价化合物的残基，字母n表示等于或者大于3的整数。依照本发明的第二研磨用组合物包括具有衍生自异戊二烯磺酸或其盐的单体单元的聚合物。
研磨组合

[发明专利]磁盘基材的抛光组合物和使用该组合物的抛光方法-CN02154315.1无效
发明人： 石桥智明 -专利权人：不二见株式会社
申请日： 2002-11-28 - 公布日： 2003-06-11 - 主分类号： C09G1/18 文献下载
摘要：一种磁盘基材的抛光组合物,它含有(a)抛光促进剂,该促进剂包含至少一种选自苹果酸、乙醇酸、丁二酸、柠檬酸、马来酸、衣康酸、丙二酸、亚氨基二乙酸、葡萄糖酸、乳酸、扁桃酸、巴豆酸、烟酸、硝酸铝、硫酸铝和硝酸铁(III)的化合物；(b)边缘下陷阻止剂,该阻止剂含有至少一种选自聚乙烯基吡咯烷酮、聚氧乙烯失水山梨糖醇脂肪酸酯和聚氧乙烯山梨糖醇脂肪酸酯的化合物；(c)至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛和碳化硅的研磨剂,和(d)水。
磁盘基材抛光组合使用方法

[发明专利]抛光存储器硬盘用基片的抛光组合物及抛光方法-CN01142936.4无效
发明人：杉山博保;石桥智明;高桥年幸 -专利权人：不二见株式会社
申请日： 2001-11-29 - 公布日： 2002-07-10 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：一种用于存储器硬盘用基片的抛光组合物,包含下列组分(a)水,(b)至少一种选自聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚和聚氧乙烯聚氧丙烯共聚物的化合物,(c)至少一种选自下列的化合物硝酸、亚硝酸、硫酸、盐酸、钼酸、氨基磺酸、甘氨酸、甘油酸、苯乙醇酸、丙二酸、抗坏血酸、谷氨酸、二羟乙酸、苹果酸、乙醇酸、乳酸、葡糖酸、琥珀酸、酒石酸、马来酸、柠檬酸以及它们的盐,(d)至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和碳化硅的磨料。
抛光存储器硬盘用基片组合方法

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