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[发明专利]一种间断性圆弧直线组合沟槽抛光垫-CN202310017417.8在审
发明人： 相红旗;姚力军;施建国 -专利权人：宁波赢伟泰科新材料有限公司;宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2023-01-06 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种间断性圆弧直线组合沟槽抛光垫，包括根据长弧沟槽的起始点距离圆形沟槽的距离，从抛光垫主体的中心到外边缘依次设置有第一……第N梯度扩散区，第N梯度扩散区的短弧沟槽设置于第N‑1梯度扩散区的长弧沟槽与短弧沟槽的延长线构成的抛光区域内。该抛光垫通过设计形成抛光垫中心区域圆形沟槽密度相对稀疏扩散到外围区域圆形沟槽高速路径密集的分布状态，此沟槽可实现抛光液快速到达晶片抛光区域，提高抛光液的使用效率，多区域不同密集程度沟槽可以有效改善晶片内部的抛光均匀性，并可保持较高的抛光速率。
一种间断性圆弧直线组合沟槽抛光

[发明专利]一种高抛光液使用效率的抛光垫-CN202210233488.7有效
发明人： 相红旗;施建国;陈凯;姚力军 -专利权人：宁波赢伟泰科新材料有限公司;宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2022-03-10 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种高抛光液使用效率的抛光垫，包括抛光层，设置于所述抛光层中心的环形沟槽，所述环形沟槽的外部衍生有长弧形沟槽，所述长弧形沟槽以所述环形沟槽的边缘处为起点，呈发散状延伸至所述抛光层的边缘，并将所述抛光层分割成若干组长桨叶状抛光区，相邻两条所述长弧形沟槽之间的长桨叶状抛光区内设置有多级梯度的弧形沟槽，所述多级梯度弧形沟槽具有位于所述长桨叶状抛光区内起始点产生、并延伸到所述抛光层的外边缘，长弧形沟槽定义为初级弧形沟槽。该抛光垫中的螺旋型沟槽可实现抛光液快速到达晶片抛光区域，有效降低抛光液抛光过程中的损耗，多区域不同密集程度沟槽可以有效改善晶片内部的抛光均匀性，并可保持较高的抛光速率。
一种抛光使用效率

[发明专利]一种微孔洞尺寸可调的聚氨酯膜的制备方法-CN202210231414.X有效
发明人：刘丽成;冯见艳;罗晓民;秦荣;李婷;陈浩聪;相红旗 -专利权人：陕西科技大学;宁波赢伟泰科新材料有限公司
申请日： 2022-03-10 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： C08J9/28 文献下载
摘要：一种微孔洞尺寸可调的聚氨酯膜的制备方法，包括以下步骤：配制凝固浴，配制乳液，配制聚氨酯浆料，涂覆聚氨酯浆料，凝固，水洗，干燥；涂覆聚氨酯浆料指通过刮涂或辊涂的方式在玻璃或塑料板上涂覆一层聚氨酯浆料；利用溶液相转化法和乳液模版法结合制备微孔洞尺寸可调的聚氨酯膜，制备工艺要求低，相对于传统的相转变方法制备的多孔材料增加了微孔的尺寸加大了孔与孔之间的交流，该方法制备的多尺度可调控的孔是结合两种方法的优点，可以应用于PVDF、聚乳酸等相转化膜的制备，具有可拓展性，该制备方法工艺简单、成本低，可以实现工业化生产，在家居、柔性穿戴、抛光、微孔滤膜、锂离子电池隔离膜、纺织、及防护设备等领域有一定的应用价值。
一种微孔尺寸可调聚氨酯制备方法

[发明专利]用于化学机械抛光工艺的保持环的制作方法-CN202110464132.X有效
发明人： 相红旗;陈浩聪;姚力军;潘杰 -专利权人：宁波赢伟泰科新材料有限公司;宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2021-04-26 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： B23P17/00 文献下载
摘要：本发明涉及金属塑料复合材料加工技术领域，更具体地，本发明涉及用于半导体芯片化学机械抛光工艺的保持环的制作方法。包括不锈钢环腐蚀、不锈钢环与塑料的结合。本发明首先对不锈钢环进行腐蚀处理，使不锈钢环表面形成微孔洞，且形成的孔洞具有表面口径小，内部孔径大的特殊收口结构，可以形成50‑1000μm孔径的孔穴。随后将塑料以注塑成型方式成型在不锈钢环表面，由于熔融状态下的塑料在注塑压力的作用下被压入微孔洞内，因此待塑料冷却固化后，由于微孔收口结构的存在，塑料便可牢固的附着于不锈钢环表面，同时通过设计注塑模具结构，可以直接将高分子聚合物注塑成最终成品的形状结构，节省大量的加工工序和大量加工成本。
用于化学机械抛光工艺保持制作方法

[发明专利]一种圆弧直线组合沟槽抛光垫-CN202310029280.8在审
发明人： 相红旗;姚力军;施建国 -专利权人：宁波赢伟泰科新材料有限公司;宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2023-01-09 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种圆弧直线组合沟槽抛光垫，包括垫体，梯度扩散区、缓冲区和高速区，梯度扩散区、缓冲区和高速区设置于垫体上，由不同长度的直行沟槽构成的缓冲区设置在梯度扩散区和高速区之间，用于将梯度扩散区的长弧形沟槽和短弧形沟槽一与高速区的短弧形沟槽二连接组合，形成完整的抛光液的流经，不同区域的沟槽密度不同，能够更好将抛光液留存在垫体上，以提高抛光液的使用效率，同时，通过延长抛光液的作用时间能够使晶片内部的抛光更加均匀；由不同长度的直行沟槽构成的缓冲区，能够改变抛光液的流向，从而减缓抛光液的流速，延长了抛光液的留存时间，提高了晶片的抛光时间。
一种圆弧直线组合沟槽抛光

[发明专利]一种化学机械抛光垫的制备方法-CN202110452003.9有效
发明人： 相红旗;陈浩聪;姚力军 -专利权人：宁波赢伟泰科新材料有限公司;宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2021-04-25 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于半导体芯片制造过程中表面化学机械抛光加工所需要的抛光垫，具体涉及到一种化学机械抛光垫的制备方法。本发明提供一种抛光垫的制备方法，通过用表面活性物质的溶液处理浸润后的炭黑，再加入到树脂溶液中，涂布于透明薄膜卷材上，最终后处理制备成抛光垫。通过炭黑表面活性基团与表面活性剂的活性基团结合，使炭黑维持在初级聚集体状态，同时该表面活性剂可以在与水接触时溶胀，在聚氨酯凝结成膜凝固时可以对形成的孔洞进行支撑和填充，从而达到均匀泡沫形成，提高抛光垫表面平整度，与抛光过程中缓慢释放的表面活性剂共同作用，可减少半导体硅晶圆表面缺陷。
一种化学机械抛光制备方法

[发明专利]一种高耐磨性化学机械抛光垫及其制备方法和应用-CN202211035655.3在审
发明人： 相红旗;陈浩聪;姚力军 -专利权人：宁波赢伟泰科新材料有限公司;宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2022-08-26 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种高耐磨性化学机械抛光垫及其制备方法和应用，涉及的是化学机械抛光垫的制备领域。本发明通过用超声波和分散剂处理氧化石墨烯，再加入到聚氨酯树脂溶液中，涂布于透明薄膜基材上，通过凝结成膜法获得多孔聚氨酯膜，随后经后处理制备成抛光垫，具有优异的耐磨性、抛光性和稳定性。通过超声波分散，使氧化石墨烯分散成单层结构，同时分散剂使单片层结构均匀分散在聚氨酯树脂溶液中，氧化石墨烯表面的含氧官能团与聚氨酯官能团之间可以形成氢键交联点，从而使凝结形成的聚氨酯膜物理机械性能得到提升，可延长抛光垫使用寿命，提高抛光性能稳定性。
一种耐磨性化学机械抛光及其制备方法应用

[发明专利]一种高抛光稳定性的化学机械抛光垫及其制备方法-CN202211115146.1在审
发明人： 相红旗;陈浩聪;姚力军 -专利权人：宁波赢伟泰科新材料有限公司;宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2022-09-14 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种高抛光稳定性的化学机械抛光垫及其制备方法，涉及的是化学机械抛光技术领域。通过将水溶性聚合物溶解于一种溶剂中配制成溶液，再将溶液加入到树脂溶液中，涂布于塑料薄膜基材上，通过凝结成膜法获得多孔树脂膜，再经水洗工序溶解其中的水溶性聚合物形成微孔洞，最终经后处理制备成抛光垫。所述水溶性聚合物易溶于水，因而在树脂溶液凝结成膜的过程中水溶性聚合物会调节树脂浆料凝结和溶剂置换过程，使水滴形孔洞尺寸更加均匀，同时在凝结的树脂内形成微小的相互贯通的微孔，使抛光液可以在相邻的水滴形孔洞内交互流动并更加均匀的供给到抛光界面，提高了抛光垫性能稳定性，提升了抛光效果。
一种抛光稳定性化学机械抛光及其制备方法

[发明专利]一种化学机械抛光垫的制备方法及其应用-CN202211227313.1在审
发明人： 相红旗;陈浩聪;姚力军 -专利权人：宁波赢伟泰科新材料有限公司;宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2022-10-09 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： B24D3/28 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光垫的制备方法及其应用，涉及的是化学机械抛光技术领域。通过将微米级的酸溶性化合物粉末加入到聚氨酯树脂混合溶液中，涂布于塑料薄膜基材上，通过凝结成膜法获得多孔聚氨酯膜，再经可电离化合物溶液反应溶解其中的酸溶性化合物粉末以形成占据式的微孔洞，最终经后处理制备成抛光垫。本发明中聚氨酯内形成了微小的相互贯通的微孔，能使抛光液可以在相邻的水滴形孔洞内交互流动并更加均匀的供给到抛光界面提升抛光效果，提高抛光性能稳定性。此外，所得抛光垫具有优异的研磨速率，且抛光后的晶片表面平坦化程度高，为提高高端制程芯片的良品率提供了有利支持。
一种化学机械抛光制备方法及其应用

[发明专利]一种化学机械抛光垫及其制备方法和应用-CN202210813035.1在审
发明人： 相红旗;陈浩聪;姚力军 -专利权人：宁波赢伟泰科新材料有限公司;宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2022-07-08 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光垫的制备方法，通过聚氨酯浆料涂布于透明薄膜卷材上，通过凝结成膜法获得多孔聚氨酯膜，再经碱溶液降解其中的含酯键的聚合物粉末以形成占据式的微孔洞，最终经后处理制备得到化学机械抛光垫。通过将含酯键的聚合物、极性溶剂、阴离子物质、聚氨酯树脂混合得到聚氨酯浆料涂布于基材上，在凝结成膜的过程中，水致相分离形成水滴形孔的同时含酯键的聚合物在聚氨酯内部占据了空间一起凝固定型，再通过碱溶液浸泡降解此粉末，洗脱后就可以在聚氨酯固体相内形成微孔，使抛光垫的微观力学结构更加均衡，对待抛光物的支撑力都更加均匀，抛光液可以在这些微孔洞中相互流通，使抛光液的供给也更加均匀稳定。
一种化学机械抛光及其制备方法应用

[发明专利]一种终点检测窗口和带窗口的化学机械抛光垫及制备方法-CN202210804155.5在审
发明人： 相红旗;施建国;陈凯;姚力军 -专利权人：宁波赢伟泰科新材料有限公司;宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2022-07-07 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： B24B37/013 文献下载
摘要：本发明涉及B24B，更具体地，本发明涉及一种终点检测窗口和带窗口的化学机械抛光垫及制备方法。所述窗口侧面设有若干个周向槽；本发明提供一种具有特殊设计侧面结构的柱形窗口，并与抛光垫一体浇注成型制造具有窗口/抛光垫高结合强度的化学机械抛光垫。柱形窗口的侧面有机器加工形成的多道槽结构，不仅增加了窗口与抛光垫的结合接触面积，而且浇注入槽内的抛光垫本体材料固化成型后形成凸状结构、与窗口材料的槽结构之间形成嵌扣式结合方式，极大地增大了抛光垫与窗口之间的结合强度。本发明提供的窗口和抛光垫避免了窗口与抛光垫传统结合方式带来的窗口裂隙、裂痕、脱落甚至抛光液渗漏等风险，提高了抛光垫的良品率和耐用性。
一种终点检测窗口化学机械抛光制备方法

[发明专利]一种雾状分散溶剂的收集器及其使用方法-CN202110953444.7在审
发明人： 相红旗;杨俊;陈浩聪;方镇;姚力军 -专利权人：宁波赢伟泰科新材料有限公司;宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2021-08-19 - 公布日： 2023-02-21 - 主分类号： B08B17/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种收集从浇注机高压喷出的雾状分散溶剂的收集器，用于消除雾状溶剂对工作环境的污染。收集器包括罐体、薄膜头套和带滤芯的减压出气口，薄膜头套一端开口，另一端和罐体顶部密封连接。收集器还包括出液口和滚轮，方便排放收集的溶剂和收集器的移动。使用时将收集器移动到浇注机的浇注头下方，用薄膜头套包覆浇注头，并收紧薄膜头套的开口，在高清洗压力下用溶剂清洗浇注头；清洗完毕后，将薄膜头套的开口松开并脱离浇注头，然后将薄膜头套压到罐体中并盖上罐盖。
一种雾状分散溶剂收集及其使用方法

[实用新型]一种抛光垫硬度检测机-CN202222078150.7有效
发明人： 相红旗;施建国;姚力军 -专利权人：宁波赢伟泰科新材料有限公司;宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2022-08-05 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： G01N3/42 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种抛光垫硬度检测机，包括设备外壳，设备外壳的内部固定连接有电机，电机与固定器相连接，固定器通过设备外壳开设的开槽伸出于设备外壳的外部，固定器的伸出末端连接有可更换的硬度计，硬度计的下端固定连接有硬度计压针，硬度计处于检测平台的上端，通过电机带动硬度计压针对检测平台上的抛光垫施加压力。该装置可以提高硬度计检测抛光垫硬度的稳定性，同时可以避免不同人员检测之间的因手法或压力不同产生的偏差，可以提高抛光垫硬度检测的效率且有效提高抛光垫硬度检测的效率与稳定性。
一种抛光硬度检测

[实用新型]一种抛光垫沟槽尺寸检测仪-CN202222078176.1有效
发明人： 相红旗;施建国;姚力军 -专利权人：宁波赢伟泰科新材料有限公司;宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2022-08-05 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种抛光垫沟槽尺寸检测仪，包括包括平行设置的两个支架一，支架一的相对面设置有滑轨一，X向滑块滑动连接在滑轨一上，且X向滑块之间连接有支架二，支架二的下端设置有滑轨二，滑轨二的下端沿其长度方向设置有滑轨二，滑轨二下端滑动连接有Y向滑块，Y向滑块的下方固定连接有非接触式测量器具，通过X向滑块在滑轨一上的移动以及Y向滑块在滑轨二上的移动，带动非接触式测量器具对下方抛光垫进行尺寸检测。该装置通过X向滑块与Y向滑块在滑轨上移动，使红外光线测量仪能够前后左右的移动，通过控制红外光线测量仪，可以精准检测抛光垫不同区域的沟槽尺寸，相较于人工检测，检测效率更高，且更加的精准。
一种抛光沟槽尺寸检测

[实用新型]一种间断性圆弧沟槽抛光垫-CN202220519994.8有效
发明人： 相红旗;施建国;陈凯;姚力军 -专利权人：宁波赢伟泰科新材料有限公司;宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2022-03-10 - 公布日： 2022-11-18 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种间断性圆弧沟槽抛光垫，包括抛光垫本体，设置于抛光垫本体中心处的圆形沟槽，圆形沟槽的外部衍生有第一短弧沟槽，相邻第一短弧沟槽之间设置有第二短弧形沟槽，弧形沟槽向外衍生有间断性弧形沟槽，呈发散状延伸至抛光垫本体上任意一点。该抛光垫的相邻两个沟槽区内的弧形沟槽为间断性分布且互不连接，抛光液在从一个沟槽区到达下一个沟槽区时，需要变向，增加抛光液在沟槽区内所停留的时间，从而使抛光液能与晶片接触的更加充分，从而提高对晶片抛光的速率，并且相邻沟槽区内部的弧形沟槽为间断性错开分布，在抛光垫本体上分布得更加均匀，抛光垫在对晶片进行抛光时可以明显改善晶片表面的平坦度的效果。
一种间断性圆弧沟槽抛光

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