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[发明专利]一种超低温电容器用电解液制备工艺及装置-CN202211441814.X有效
发明人：张峰君;王莹瑞 -专利权人：安徽建筑大学
申请日： 2022-11-17 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： B01F27/90 文献下载
摘要：本发明公开了一种超低温电容器用电解液制备工艺及装置，涉及一种电解液技术领域，包括以下步骤：S1、将碳酸丙烯酯、碳酸二乙酯、甲醇和丙三醇倾倒在加热装置上，充分预热后到达搅拌装置内部；S2、利用搅拌器对搅拌装置内部的成分进行搅拌，搅拌温度保持40‑60摄氏度；S3、将四氟硼酸锂经过加热装置到达搅拌装置内部，利用磁力搅拌器进行二次搅拌，搅拌温度保持70‑90摄氏度；S4、将四氟硼酸四乙基铵经过加热装置到达搅拌装置内部，利用磁力搅拌器进行三次搅拌，搅拌温度保持95‑100摄氏度；S5、对生成的成品进行取样检测；S6、对生成的成品倾倒进入磁性搅拌器内部进行进一步的搅拌混合。
一种超低温电容器用电解液制备工艺装置

[发明专利]可防止偏移的半导体晶圆片电镀系统-CN202211441268.X有效
发明人： 王莹瑞;张峰君 -专利权人：安徽建筑大学
申请日： 2022-11-17 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： C25D5/08 文献下载
摘要：本发明公开了可防止偏移的半导体晶圆片电镀系统，属于半导体领域，包括以下步骤：S1、配置预处理液，并将预处理液连接喷洒模块，利用喷洒模块喷出；S2、将半导体晶圆片放置在处理装置内部，利用夹持模块进行夹持；S3、将处理装置整体放置在预处理液内部，利用转动部件对处理装置整体进行转动；S4、将处理装置整体从预处理液取出，并将处理装置整体倒置，利用喷洒模块对半导体晶圆片底部进行预处理；S5、烘干部件对半导体晶圆片进行烘干，随后利用电镀模块进行电镀处理。本申请通过采用在对半导体晶圆片进行加工之前进行充分的预处理，保证半导体晶圆片的外表没有浮尘或者杂质，保证半导体晶圆片的正常使用。
可防止偏移半导体晶圆片电镀系统